【課題】低抵抗の透明導電膜を安定的に作製することができるＡＺＯスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】原料混合粉末からなる成形体の焼結時に焼結炉内の雰囲気を大気雰囲気から還元雰囲気に切り換えることによって得られる実質的にＺｎ、ＡｌおよびＯからなり、バルク抵抗率が３×１０^−４Ω・ｃｍ以上２．９×１０^−３Ω・ｃｍ以下、酸素の含有量がＯ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｏ）の重量比で１８．８％以下であるＡＺＯ焼結体からなるスパッタリングターゲットを用いることにより、スパッタリングガス中の最適酸素濃度を容易に維持することが可能となり、低抵抗の透明導電膜を安定的に作製することができる。 （もっと読む）

【課題】ノジュール発生のない優れた特性を有するＩＴＯスパッタリングターゲットを安定的に製造することを可能とする。
【解決手段】ＢＥＴ法によって求めた比表面積相当径とＸ線回折により求めた結晶子径との比（比表面積相当径／結晶子径）が１．０未満のＩＴＯ粉末を用いることにより、非常に高密度のＩＴＯ焼結体を安定的に製造することができ、ノジュール発生のない優れた特性を有するＩＴＯスパッタリングターゲットを製造することができる。このようなＩＴＯ粉末はＩＴＯ焼結体の粉砕により得ることが可能であり、使用済みターゲット等から回収されたＩＴＯ焼結体の再利用が可能となる。 （もっと読む）

【課題】アーキングやノジュールの発生を低減させ、製品の品質が安定しているＩＴＯ（Ｉｎ_２Ｏ_３−ＳｎＯ_２）等の酸化物焼結体よりなるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】ＩＴＯ等の酸化物焼結体よりなるスパッタリングターゲットにおいて、ターゲットの被スパッタリング面における表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下でかつターゲットの被スパッタリング面を断面観察した場合に、加工変質層の深さが１μｍ以下であることを特徴とする酸化物焼結体よりなるスパッタリングターゲットであり、被スパッタリング面をロータリー平面研削盤を用いて研削することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】 機能性高分子等の原料として有用と期待される、新規なアミノアルコキシスチレン類及びその効率的な製造方法、並びにその重合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 触媒の存在下に、下記一般式（２）


（Ｒ^１，Ｒ^２はＣ_１〜Ｃ_４のアルキル基を表す。Ｘはハロゲン原子を表す。ｎは３〜６の整数を表す。）で示されるアミノアルコキシフェニルマグネシウムハライドと下記一般式（３）


（Ｘはハロゲン原子を表す。）で示されるビニルハライドとを反応させて、アミノアルコキシスチレン類を得る。 （もっと読む）

【課題】アーキング発生頻度を低減するＩＴＯスパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】実質的にインジウム、スズおよび酸素からなるスパッタリングターゲットであり、焼結体が立方晶系酸化インジウムからなる母相、その母相内部に存在する微粒子およびインジウムとスズの酸化物からなる中間化合物相との少なくとも３相構造からなり、焼結体の任意の断面を走査型電子顕微鏡を用いて観察される前記母相内の微粒子の最大粒子径が０．４μｍ以下であるＩＴＯスパッタリングターゲットであり、酸化インジウム用の原料粉末と酸化スズ用原料粉末とを、混合、成形し、酸素気流中で１５００℃以上１６５０℃未満の焼成温度で焼結した後、少なくとも１４００℃から１３００℃までの降温速度を２００℃／時間以上で降下することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】テルフェニリル−１，３，５−トリアジン誘導体、その製造方法、およびそれを構成成分とする有機電界発光素子を得る。
【解決手段】一般式（１）
【化１】


［式中、Ａｒ^１およびＡｒ^２は、同一または相異なるフェニル基、ナフチル基またはビフェニリル基を示し、これらは炭素数１から４のアルキル基で置換されていても良い。］で表されることを特徴とする１，３，５−トリアジン誘導体を金属触媒の存在下でのカップリング反応により製造し、これを構成成分とする有機電界発光素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】熱処理後でもヒロックなどの熱欠陥が発生せず、電気抵抗が低く、さらに、透明導電膜との直接積層が可能な配線材料を提供するとともに、該配線材料からなる配線を具備した大型・高精細の生産性に優れた液晶ディスプレイパネル、及び、本配線を形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】配線の少なくともひとつが、添加元素として希土類元素の中から選ばれる少なくとも１種以上の元素を０．０１〜１原子％含有し、残部がＣｕ及び不可避的不純物であるＣｕ合金薄膜からなり、かつ、透明導電膜と直接積層した配線構造を有する液晶ディスプレイパネルとする。 （もっと読む）

【課題】 長期に渡り結晶化せずに薄膜が安定に保持され、且つ真空蒸着法に加えて、高い溶解性によるスピンコート法等の塗布法によっても成膜可能な新規な発光材料、特に青色発光材料又は電子輸送材料を提供する。
【解決手段】 特定構造を有するフルオレン中間体と特定構造を有するボロン酸化合物Ａとを遷移金属触媒存在下に反応させ、酸触媒存在下に脱保護し、更にトリフルオロメタンスルホニル化した後、再度遷移金属触媒存在下に特定構造を有するボロン酸化合物Ｂと反応させる。 （もっと読む）

【課題】電気抵抗が低く、透明導電膜との直接積層が可能な配線材料からなる配線を具備した大型・高精細の生産性に優れた平面表示パネル、及び、前記配線を形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】配線の少なくともひとつが、スパッタリングにより形成されたＣｕ薄膜からなり、かつ、ＩＴＯ膜やＺｎＯ膜、又は、Ａｌ、Ｉｎ、Ｖ、Ｇａ、Ｂ、Ｙ、Ｔｉ、Ｓｃから選ばれる１種以上の元素を０．０１〜５原子％含有したＺｎＯ膜からなる透明導電膜等と直接積層した配線構造を有する平面表示パネルとすることにより、バリア層の形成を不要として、その生産性を格段に向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】優れた耐酸化性を有し、塗布法による半導体活性相形成が可能な、ビフェニレン誘導体、それを用いた耐酸化性有機半導体材料並びに有機薄膜、及び該ビフェニレン誘導体を簡便に経済的に製造する方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で示されるビフェニレン誘導体を製造する。


（ここで、置換基Ｒ^１〜Ｒ^８は、水素原子、フッ素原子、アリール基、複素環基であり炭素原子で置換結合する基、アルキニル基、アルケニル基、アルキル基、又はフッ素化アルキル基を示す。但し、Ｒ^１〜Ｒ^８は同時にフェニル基であることはできず、Ｒ^２及びＲ^３は同時に水素原子又はフッ素原子であることはできず、又Ｒ^６及びＲ^７が同時に水素原子又はフッ素原子であることはできない。） （もっと読む）