【課題】高電界印加時の電界誘起歪が大きい（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ）（Ｎｂ，Ｔａ）Ｏ₃系の圧電／電歪磁器組成物を提供する。
【解決手段】Ａサイト元素としてＬｉ（リチウム），Ｎａ（ナトリウム）及びＫ（カリウム）を含み、Ｂサイト元素としてＮｂ（ニオブ）及びＴａ（タンタル）のうちの少なくともＮｂを含み、Ｂサイト元素の総原子数に対するＡサイト元素の総原子数の比が１より大きいペロブスカイト型酸化物を合成した後にＢｉ（ビスマス）化合物を添加して反応させる。ペロブスカイト型酸化物１００モル部に対するＢｉ化合物の添加量は、Ｂｉ原子換算で０．０１モル部以上０．１モル部以下であることが望ましい。 （もっと読む）

【課題】ＤＰＦに用いた場合において、フィルター再生時の出口側付近の温度上昇が適度に抑えられるとともに、圧力損失も過度に上昇しないようなハニカム構造体を提供する。
【解決手段】ハニカム形状を有するセグメントを接合一体化することにより構成されたハニカム構造体である。前記セグメントは、ハニカム形状で多孔質のベース基材と、ベース基材の平均細孔径より小さい粒子を含むスラリーを、ベース基材の一部に含浸後、熱処理することにより形成された修飾部とを有し、ベース基材は、気孔率が３０〜８０％、平均細孔径が５〜４０μｍであり、修飾部は、セグメントの出口側端面から、セルの軸方向に沿って、セグメント全長の１／１０〜１／２の長さまでの範囲に形成されており、ベース基材の気孔率に対し２〜２０％低い気孔率と、ベース基材の平均細孔径に対し０．１〜１０μｍ小さい平均細孔径とを有する。 （もっと読む）

【課題】光変調素子において、光ファイバー伝搬光と光導波路の伝搬光との間のモードフィールドの不整合による光挿入損失を低減すると共に、素子に対して温度サイクルが加わった場合にも挿入損失の増大と消光比の悪化を防止することである。
【解決手段】光変調器２４は、支持基板５、電気光学材料からなる変調用基板１１、変調用基板の一方の主面３０側に設けられている光導波路１２、および基板１１の他方の主面３１を支持基板５に接着する接着層６を備えている。基板１１が、光導波路１２に対して電圧を印加し、伝搬光を変調する高周波相互作用部１１ｃ、光導波路に対して光を入射する入射部１１ａおよび光導波路からの光を出射する出射部１１ｂを備えている。変調用基板１１の主面３０側において相互作用部１１ｃが入射部１１ａおよび出射部１１ｂから凹んでおり、相互作用部１１ｃの厚さが入射部１１ａの厚さおよび出射部１１ｂの厚さよりも小さい。 （もっと読む）

【課題】欠陥が少なく、膜厚が薄く均一で分解能も高いセラミック多孔質膜を備えたセラミックフィルタを提供する。
【解決手段】精密濾過膜（ＭＦ膜）である多孔質基材１１上に形成した、平均細孔径が２〜２０ｎｍ、膜厚が０．１〜１．０μｍの限外濾過膜（ＵＦ膜）であるチタニアＵＦ膜１４上に、その一部が、チタニアＵＦ膜１４の細孔内、又はチタニアＵＦ膜１４及び多孔質基材１１の細孔内に浸透しているセラミック多孔質膜であるシリカ膜１を形成したセラミックフィルタ。 （もっと読む）

【課題】大型の平板状部材を熱処理することができる平板状部材の熱処理炉を提供する。
【解決手段】平板状部材５０を、トンネル状の炉体１の炉長方向に移送しつつ熱処理を行う平板状部材の熱処理炉であって、炉体１の両側壁１ｂから炉内に延出するローラ２を、互いに対向させて、炉長方向に複数、回転自在に配設し、対向するローラ２の先端２ａ間に、上方に開口した気体吹出口１８ａを配設し、ローラ２上に平板状部材５０を載置した状態で、気体吹出口１８ａから気体を平板状部材５０に吹き出し、ローラ２を一定方向に回転させて、平板状部材５０を炉体１の炉長方向に移送するように構成する。 （もっと読む）

【課題】外周部の腐食を抑制可能なセラミックスヒータを提供する。
【解決手段】セラミックスヒータは、プレート１０と、シャフト３６とを備える。プレート１０は、第１基体１２と、第１基体に接合される第２基体１４とを備える。第１基体１２の載置面１２ｂには、載置された基板と接触する表面を有する第１領域２２と、基板５０により覆われる位置に、第１領域を囲むよう設けられたパージ溝２０と、パージ溝２０を囲む表面を有する第２領域２３とが定義される。第１基体１２は、載置された基板を第１領域の表面上に吸着する手段と、パージ溝２０の底面から第１基体１２の下面まで貫通する複数のパージ孔２４とを有する。パージ溝２０には、複数のパージ孔２４を介してパージガスが供給される。第２領域２３の表面は、第１領域２２の表面よりも低い。 （もっと読む）

【課題】排ガス中の粒子状物質を捕集する時に圧力損失が増大することを抑制するとともに、捕集した粒子状物質の燃焼除去を効果的に行うことが可能なハニカム構造体を提供する。
【解決手段】流体の流路となる複数のセル２を区画形成する多孔質の隔壁３を有する多孔質基材１と、隔壁３表面に配設された、微粒子の侵入を阻止する多孔質のコート層１１とを備え、コート層１１の表面が表面積を増加させる凹凸形状を有し、一方の端面側に開口部を有する所定のセルと他方の端面側に開口部を有する残余のセルに、所定のセルの一方の端面側の開口部から流入した流体が隔壁を透過して残余のセルの他方の端面側の開口部から流出するようにセルを封止する封止部を備え、隔壁３及びコート層１１をガスが流れるハニカム構造体１００。 （もっと読む）

【課題】生産効率を向上させ、原料収率を向上させることが可能なハニカム構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】成形原料を押出成形して、流体の流路となる一方の端面１から他方の端面２まで延びる複数のセルを区画形成する隔壁を有するハニカム成形体１００を形成し、ハニカム成形体１００に、複数の部分セグメント３を区画形成するように、セルの延びる方向に沿って延びる複数の切れ込みを形成して、部分セグメントの集合体１２０を形成し、部分セグメントの集合体１２０の、隣接する各部分セグメント３間に、隣接する各部分セグメント間の空間全体を埋めるように緩衝部５を形成してハニカム構造体１３０を得るハニカム構造体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ハニカム構造体の小さな欠陥や外周付近に生じた欠陥を、高い感度で検出することが出来る手段を提供すること。
【解決手段】整流板４１と、気流形成手段（空気源９２及びヘッダ管５９）と、を具備するハニカム構造体欠陥検査装置の提供による。 （もっと読む）

【課題】セラミック多孔質膜が時間の経過によって最終的に発現し得る分解性能に到達するまでの時間を大幅に短縮できるとともに、溶解のような膜特性を低下させる可能性がある損傷が生じにくいセラミック多孔質膜の処理方法を提供すること。
【解決手段】多孔質基材１０上にセラミックゾルを付着させ、前記セラミックゾルを乾燥し、その後焼成することにより形成されたセラミック多孔質膜１に対し、カルボン酸分子を接触させる処理を施すセラミック多孔質膜の処理方法。 （もっと読む）