【課題】特定の化合物を添加することにより、エノレートアニオンが存在する反応液の着色を可能とし、重合反応過程でアニオンの存否を視認することが可能な（メタ）アクリレート重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】 ピリダジン等の式（Ｉ）





で表される５員環又は６員環の複素環化合物を系内に添加して、アニオン重合を行うことを特徴とする（メタ）アクリレート重合体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】
製品として長期に亘って安定なまま保存でき、エマルション系塗料に含有させてもエマルションショックなどを起こすことがないイソチアゾロン系化合物を含む水溶性製剤、及びイソチアゾロン系化合物を水溶液中で安定化する方法を提供する。
【解決手段】
イソチアゾロン系化合物、アルカリ金属硝酸塩及び水を含有し、ｐＨが３．５〜４．５の範囲内に調整されていることを特徴とするイソチアゾロン系化合物を含有する水溶性製剤；並びにイソチアゾロン系化合物、アルカリ金属硝酸塩及び水を含有する水溶液に、有機酸のアルカリ金属塩を添加して、ｐＨを３．５〜４．５の範囲内に調整するイソチアゾロン系化合物の安定化方法。 （もっと読む）

【課題】 調湿建材の調湿機能を低下させることなく、実用上、従来の微小な粒径の光触媒粒子と変わらない担持性を保持すると共に、従来の微小な粒径の光触媒粒子を用いる場合より光触媒性能の向上した調湿建材を提供すること。
【解決手段】調湿建材本体の表面に、光触媒粒子が担持された調湿建材であって、前記光触媒粒子の５０％以上が、１．０μｍを超えて１０．０μｍ以下、好ましくは１．０μｍを超えて３．０μｍ以下の粒径を有している調湿建材である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、電極を保護する能力に優れた、より実用的な電極保護膜を提供することを目的とする。
【解決手段】構成単位（Ｉ）を有する重合体を含有することを特徴とする電極保護膜、又は、構成単位（Ｉ）を有する重合体を含むアーム部と、分岐鎖を有する有機基を含むコア部とを有するスターポリマーを含有することを特徴とする電極保護膜である。 （もっと読む）

【課題】水酸基やアミノ基、カルボキシル基などの活性水素を含有する不純物や酸素が存在する重合溶媒を簡単な処理を施すだけで精密なアニオン重合が可能になる重合溶媒の精製方法およびその方法を用いたアニオン重合方法を提供すること。
【解決手段】重合反応を阻害しない芳香族系化合物を含有する溶媒に有機アルカリ金属を溶媒が着色するまで添加し、−１０℃以上重合溶媒の沸点以下の温度で、所定時間攪拌または静置する溶媒の精製方法およびその方法を用いたアニオン重合方法である。 （もっと読む）

【課題】環境安全性を改善し、しかも、熱硬化や、紫外線や電子線による硬化物性が極めて高く、硬化反応を精密に制御することができるアクリル変性ポリブタジエン、及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】重合体鎖を構成するブタジエン単位の８０％以上が１，２結合からなる重合体鎖の少なくとも一端に、直接、（メタ）アクリル酸がエステル結合しているアクリル変性ポリブタジエン、及び重合体鎖を構成するブタジエン単位の８０％以上が１，２結合からなる重合体鎖の少なくとも一端に水酸基を有している水酸基含有ポリブタジエンに、触媒存在下、（メタ）アクリル酸エステルを反応させるアクリル変性ポリブタジエンの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】固体状態において非常に明るい有機固体蛍光物質を提供すること。
【解決手段】後分光方式の反射率測定による固体における可視光領域の最大反射率が１００％未満であるＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−メチルベンジル）−２，５−ジアミノ−３，６−ピラジンカルボニトリルを、クロロホルム又はメチルイソブチルケトンに加熱溶解し、冷却することで再結晶し、非常に明るい高輝度のＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−メチルベンジル）−２,５−ジアミノ−３,６−ピラジンカルボニトリル結晶をうる。該結晶としては、反射度分光法による固体における可視光領域の最大反射率が１００％以上、好ましくは１２０％以上、より好ましくは１５０％以上である。 （もっと読む）

【課題】速やかに成膜でき、しかも不純物が少なく、フッ素系薄膜を基材表面に安定に形成可能なフッ素系薄膜製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも１以上の加水分解性基を有するフッ素含有シラン系界面活性剤と、該界面活性剤と相互作用し得る触媒と、該界面活性剤、触媒、及び該界面活性剤と触媒との反応物を溶解しうるフッ素系溶媒との混合物を、水分の存在下に加水分解反応をさせて触媒溶液を調製する工程と、該界面活性剤と該溶媒との混合物に該触媒溶液を添加・攪拌しフッ素系薄膜形成溶液を調整する工程と、該形成溶液中に基材を浸漬する工程と浸漬した基材を乾燥し基材表面にフッ素系薄膜を形成する工程とを備えたフッ素系薄膜基材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】シート抵抗値が２００〜１０００Ω／□であって、かつ、均一性に優れたＩＴＯ膜を成膜する方法を提供すること。
【解決手段】スパッター法又はパイロゾル法により膜中のスズ含有量がインジウムに対して１０〜４０重量％、かつ膜厚が１５０Å以上となるように成膜して、膜のシート抵抗が２００〜１０００Ω／□、シート抵抗の均一性が６．１％以内かつ比抵抗が５×１０^−４以上となるようにすることを特徴とするスズドープ酸化インジウム膜の成膜方法。成膜後、酸素を含む雰囲気中で２００℃以上の温度で加熱処理することにより、より高抵抗の膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】従来構造に比べ装置の簡明化やコンパクト化を維持しながら、飛出現象を防止し、分級精度を向上して粉砕物の粒度バラツキをより小さくできる。
【解決手段】略円環状の空洞室ａを形成しているミル本体１と、空洞室ａの略中心に設けられた排出部２と、空洞室ａに原料を導入する原料供給手段３と、空洞室ａに高圧流体による旋回流を形成する噴射手段４とを備えたジェットミルにおいて、排出部２は、空洞室ａを区画形成している上下壁部１０，１１のうち、一方壁部に突設されて空洞室ａを縦方向に横切るよう他方壁部側へ延び、かつ該他方壁部に設けられて空洞室外へ突出している凹部２１ａ内に排出補助経路ｃ及び二次分級用隙間ｄを保って配置されている円筒部を有し、前記粉砕物が分級ゾーンから排出補助経路及び二次分級用隙間を通って該円筒部２０内に入るようにしたことを特徴としている。 （もっと読む）