説明

株式会社日本触媒により出願された特許

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【課題】きょう雑物の含有量が少なく、物性及び外観の優れた紫外線吸収能をもった光学用フィルム及びその製造方法を実現する。
【解決手段】本発明の光学用フィルムの製造方法は、バリアフライト型スクリュー1又はミキシングセクション付きスクリューaを備えた押出機100を用い、当該押出機100のシリンダ10及びダイス14の温度を、紫外線吸収性樹脂のガラス転移温度プラス(145)℃未満の温度に設定して、溶融押出法により紫外線吸収性樹脂を成形する方法である。これにより、きょう雑物が少なく、物性及び外観に優れた光学用フィルムを得ることができる。 (もっと読む)


【課題】 耐熱性に優れて加熱時に発生するガスを低減でき、有機溶媒やアルカリに対する溶解速度が速く、しかもアルカリ現像性に優れた重合体を提供する。
【解決手段】 N−置換マレイミド及び/又は2−(ヒドロキシアルキル)アクリル酸エステルのエーテルダイマーである特定構造の化合物、ビニルトルエン、及び、酸基を有する単量体を必須成分として共重合してなる新規な重合体を見出した。 (もっと読む)


【課題】取り扱い性並びに耐熱性に優れ、且つ優れた位相差性能を有する熱可塑性樹脂組成物を実現する。
【解決手段】本発明の熱可塑性樹脂組は、ガラス転移温度が110℃以上であるアクリル系重合体を主成分として含有し、フッ素含有重合体を含む。 (もっと読む)


【課題】疎水性汚れおよび親水性汚れの洗浄に高い性能を発揮できる水溶性重合体を提供することにある。また、該重合体の効率的な製造方法、該重合体を用いた洗剤用ビルダーおよび洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】水溶性重合体は、一般式(1)で表される疎水基含有ポリアルキレンオキシド(a)1〜80質量%と、少なくとも1つの窒素原子を含むカチオン性単量体(b)20〜99質量%とを共重合して得られる。
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【課題】光学用フィルムの表面保護フィルムに適用することを目的として、高速剥離性に優れ、被着体汚染のない粘着剤層を形成し得る溶剤型再剥離用粘着剤組成物を見出し、良好な特性の再剥離用粘着製品を提供する。
【解決手段】架橋剤が配合されて使用される溶剤型再剥離用粘着剤組成物であって、ガラス転移温度(Tg)が0℃以上の高Tgポリマー(A)と、この高Tgポリマーよりも低いTgを有し、感圧接着性を示す低Tgポリマー(B)および溶剤を含み、高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)はいずれも前記架橋剤と反応し得る官能基を含有しており、かつ、上記粘着剤組成物から得られる粘着剤層は、高Tgポリマー(A)と低Tgポリマー(B)とが相溶することなく、高Tgポリマー(A)が島、低Tgポリマー(B)が海である海島構造を形成していることを特徴とする溶剤型再剥離用粘着剤組成物である。 (もっと読む)


【課題】重合体溶液の粘度上昇を抑制して、高分子量のアクリル系重合体を製造することができるアクリル系重合体の製造方法を実現する。
【解決手段】本発明のアクリル系重合体の製造方法は、水酸基含有単量体と(メタ)アクリル酸エステルとを含む単量体組成物を溶液重合するアクリル系重合体の製造方法であり、上記重合溶液中の単量体組成物の濃度が45質量%以上である条件下で重合を行う工程を含み、上記工程では、重合性基を有していないアルコールを上記重合溶液が含有している方法である。 (もっと読む)


【課題】リン酸カルシウムに対するスケール防止能が極めて優れたスケール防止剤、および、そのようなスケール防止剤に有用な(メタ)アクリル酸系重合体を提供する。
【解決手段】本発明のスケール防止剤は、特定構造の(メタ)アクリル酸系単量体(A)由来の構成単位(a)と、特定構造のスルホン酸系単量体(B)由来の構成単位(b)と、特定構造の(メタ)アクリル酸系単量体(C)由来の構成単位(c)とを有する(メタ)アクリル酸系重合体を含む。 (もっと読む)


【課題】本発明は、アルカンの酸化脱水素反応に用いる触媒に関するものである。
【解決手段】本発明は、下記一般式(1)で表される化合物を含むことを特徴とするアルカンの酸化脱水素用触媒である。
MaCobMoOx・・・(1)
(式中MはPtおよびRhから選ばれる少なくとも一つの金属であり、Coはコバルト、Moはモリブデン、Oは酸素であり、a,b,xはそれぞれCo,MoおよびOの原子数を表し、aは0.00001〜0.0001、bは0.5〜1.5、xは一般式(1)において酸素元素以外の元素の酸化状態によって定まる数値である) (もっと読む)


【課題】有機半導体として有用な含ハロゲンチアポルフィリンを提供すること。
【解決手段】下記式(1)で示される含ハロゲンチアポルフィリン〔式中、X11はハロゲン原子を表す。Yは、SまたはNHを表す。Rは、アルコキシル基等の置換基を表す。a+b≦4であることを条件として、aは1〜4の整数を表し、bは0〜3の整数を表す。〕。
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【課題】 二欠損構造部位含有へテロポリオキソメタレートアニオン(A)の欠損構造部位に、前周期遷移金属であるSc、Y、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Crより選ばれる少なくとも一種の元素(B)が、元素(B)/ヘテロ原子>1を満たすモル比で導入されているヘテロポリオキソメタレート化合物を提供する。
【解決手段】 ヘテロ原子がケイ素、リン、もしくはゲルマニウムであり、かつ、ポリ原子がモリブデン、タングステン、バナジウムからなる群より選ばれる少なくとも一種以上の元素である二欠損構造部位含有へテロポリオキソメタレートアニオン(A)の欠損構造部位に、前周期遷移金属であるSc、Y、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Crより選ばれる少なくとも一種の元素(B)が、元素(B)/ヘテロ原子>1を満たすモル比で導入されていることを特徴とするヘテロポリオキソメタレート化合物。 (もっと読む)


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