【課題】眼鏡フレームの玉型周長と加工済レンズ周長との差が適正範囲に常に入るように管理し、適正な仕上がり周長サイズの眼鏡レンズを常に供給できるようにする。
【解決手段】未加工の眼鏡レンズを指定された眼鏡フレームの玉型形状データに基づいて周縁加工して供給する眼鏡レンズの供給方法において、眼鏡フレームの玉型形状データおよび所定の加工条件に基づいて眼鏡レンズの周縁加工を行うレンズ加工ステップＳ２と、このレンズ加工ステップにより周縁加工された眼鏡レンズの周長を測定するレンズ周長測定ステップＳ３と、このレンズ周長測定ステップにより求めたレンズ周長と眼鏡フレームの玉型周長との差を求める周長差算出ステップＳ４と、周長差が所定の範囲内に入るように前記加工条件ごとに記憶された周長補正値を補正する補正ステップＳ５〜Ｓ１１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】少量のエンドトキシン含有溶液からでもエンドトキシンの除去を簡便に高効率で行うことのできる方法を提供する
【解決手段】アパタイト／コラーゲン多孔体をエンドトキシン含有溶液と接触させることによりエンドトキシンを吸着除去する方法、及びアパタイト/コラーゲン多孔体からなり、湿潤状態でスポンジ状のブロック体であるエンドトキシン吸着体。 （もっと読む）

【課題】操作対象である複数のメモリカード及びメモリカードコネクタを目視することなく指先の感触だけで識別することができるとともに、隣接するメモリカードコネクタに保持された一のメモリカードを操作するときに、他のメモリカードが操作者の指と干渉することがないメモリカード保持装置を提供すること。
【解決手段】メモリカード保持装置２０は、同一種類の２枚のメモリカード３２、４２を保持する２つのメモリカードコネクタ３０、４０を備え、この２つのメモリカードコネクタ３０、４０を、該メモリカードコネクタ３０、４０に保持された２枚のメモリカード３２、４２を該メモリカード平面と直交する方向から見たときに該２枚のメモリカード３２、４２の一部分が重なり他部分が重ならないように配置したことを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】携帯内視鏡本体に着脱される光源ユニットにおいて、電池消耗を抑えながらも、必要に応じて通常よりも明るい照明を行うことを簡略な構成で可能にする。
【解決手段】ＤＣ−ＤＣコンバータから出力される出力電圧ＶoutをＬＥＤ光源Ｌ１のアノード端子に印加する。ＬＥＤ光源Ｌ１のカソード端子にモニタ抵抗Ｒ３、Ｒ４を並列に接続する。抵抗Ｒ３の経路にスイッチ素子Ｑ３を設け、抵抗Ｒ４の経路にスイッチ素子Ｑ４を設ける。モニタ抵抗Ｒ３、またはモニタ抵抗Ｒ３、Ｒ４により発生するモニタ電圧をＤＣ−ＤＣコンバータのスイッチングレギュレータＵ１へ伝達し、ＬＥＤ光源Ｌ１に流れる電流がモニタ電圧に対応した一定の値となるように出力電圧Ｖoutを制御する。スイッチ素子Ｑ３のオン／オフを光源ユニットの着脱に連動する取付検知スイッチＳＷ２に連動させ、スイッチ素子Ｑ４のオン／オフを更に調光スイッチＳＷ３のオン／オフに連動させる。 （もっと読む）

【課題】波長２００ｎｍ以下の露光光に対する耐光性を向上させ、転写マスクの寿命を改善できるフォトマスクブランクの製造方法を提供する。
【解決手段】透光性基板上に、クロムを除く遷移金属およびケイ素を含有する材料からなるパタン形成用薄膜と、クロムを含有する材料からなるクロム系薄膜が順に積層したマスクブランクを用い、クロム系薄膜上にレジストパタンを形成する工程と、パタンを形成する工程と、パタンを有するクロム系薄膜をマスクとして、パタン形成用薄膜にパタンを形成する工程と、前記クロム系薄膜を除去して転写用マスクを作製し、作製した転写用マスクをアルカリ溶液洗浄、温水洗浄、オゾン含有水洗浄のうち１以上の洗浄工程を、前記パターン形成用薄膜のパターン幅が４ｎｍ減少するまで、あるいは前記パターン形成用薄膜のスペース幅が４ｎｍ増加するまで行う洗浄工程を有することを特徴とする転写用マスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ウイルス等を含有する試料液中から安定した回収率で再現性よくウイルス等を分離・精製することができる精製方法、およびかかる精製方法を用いたワクチンの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の精製方法は、ウイルスまたはウイルス性抗原を含有する試料液中から前記ウイルスまたはウイルス性抗原を精製する方法であり、比表面積が２．０〜１１．０ｍ^２／ｇのハイドロキシアパタイトの焼結粉体に前記試料液を接触させて、前記焼結粉体に前記ウイルスまたはウイルス性抗原を吸着させる第１の工程と、前記焼結粉体に溶出液を供給することにより、前記焼結粉体から前記ウイルスまたはウイルス性抗原を溶出させる第２の工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】オン抵抗を増加させることなく、ｐｎ接合部分における逆方向リーク電流を低減する。
【解決手段】３Ｃ−ＳｉＣ−ＭＯＳＦＥＴ等の半導体装置において、ｎ^＋型３Ｃ−ＳｉＣ基板１０上のｎ型不純物イオンをドーピングしたｎ型ＳｉＣエピタキシャル層１１の成長時に、ｎ型ＳｉＣエピタキシャル層１１の表面領域のドナー濃度は低減させずに高く保ったままで、ｎ型ＳｉＣエピタキシャル層１１内に形成するｐウェル１２とｎ型ＳｉＣエピタキシャル層１１とのｐｎ接合部分におけるドナー濃度を低減する。所望のドナー濃度プロファイルは、ｎ型ＳｉＣエピタキシャル層１１の成長時に、ドーパントガス量を制御して形成する。 （もっと読む）

【課題】多焦点眼内レンズの挿入手術を受けなくても（挿入手術を受ける前に）、その効果、回折型と屈折型の差異、あるいはデメリットを実感・体験できる多焦点レンズシミュレーション装置及びシミュレーション方法を得る。
【解決手段】略平行光で入射した光束を略平行光で射出するアフォーカル光学系を有し、該アフォーカル光学系の前方に、所定の基本屈折力と該基本屈折力に差分屈折力を加えた付加屈折力の複数の屈折力を有する多焦点サンプルレンズを収納する被検レンズ支持手段を配置し、上記アフォーカル光学系の後方から観察者が上記多焦点サンプルレンズとアフォーカル光学系を通して被観察物を観察可能であって、上記観察者の眼が配置されると想定された位置と瞳共役関係となる位置に上記被検レンズ支持手段が配置されていることを特徴とする多焦点レンズシミュレーション装置。 （もっと読む）

【課題】Ｚ軸方向を高分解能で走査するために好適に構成された共焦点内視鏡装置を提供すること。
【解決手段】共焦点内視鏡装置を、点光源を二次元方向に移動自在に支持する点光源支持手段と、点光源から放射された光の集光点と共役の位置に配置された共焦点ピンホールと、点光源支持手段を共焦点ピンホールと共に二次元方向と直交する直交方向に移動自在に保持する保持手段と、点光源支持手段に設けられた第一の電極群と、保持手段に設けられた第二の電極群とを有する構成とし、第一の電極群と第二の電極群を、点光源支持手段が保持手段に対して直交方向に所定量移動する毎に互いの短絡状態が変わるように構成した。 （もっと読む）

【課題】可動レンズ群の移動速度を対物光学系の倍率又は焦点距離に応じて調節できる拡大内視鏡を得る。
【解決手段】体内挿入部の先端硬性部内に可動レンズ群を有する対物光学系を備えた電子内視鏡であって、前記対物光学系の可動レンズ群を光軸に沿って移動自在に保持するレンズ移動機構と、操作部内に設けられたレンズ駆動源と、前記レンズ駆動源の動力を前記レンズ移動機構に伝達する動力伝達部材と、前記可動レンズ群の位置を検出するレンズ位置検出手段と、前記レンズ位置検出手段が検出したレンズ位置に基づいて前記レンズ駆動源の動作速度を制御する制御手段とを備えた。 （もっと読む）