【課題】 情報データを適宜変更しながら回路パターンも転写できる露光装置を提供する。
【解決手段】 紫外線を含む第１光を放射する第１光源（２０）と、第１光を使ってフォトマスクに描かれた第１パターン情報を基板に転写する投影露光ユニット（７０）と、第１パターン情報を転写するように投影露光ユニットに対して基板を載置して移動する基板ステージ（６０）と、基板ステージを配置する架台（１１）と、第１光源とは異なって配置され紫外線を含む第２光を放射する第２光源（４１）と、第２光を使って電子的に作成された第２パターン情報を基板に転写する空間光変調ユニット（４０）と、架台に配設され空間光変調ユニットを基板ステージの移動方向に平行な方向に移動させる空間光変調ユニット移動手段（５０）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 情報データを適宜変更しながら回路パターンも露光できる露光装置を提供する。
【解決手段】 露光装置（１００）は、紫外線を含む光を使ってフォトマスクに描かれた所定の回路パターン（ＰＡ）を感光性物質（ＦＲ）が塗布された矩形形状の基板（ＰＷＡ）に露光する。そして露光装置は、紫外線を含む光でフォトマスクの回路パターンを基板に露光する投影露光ユニット（４０）と、基板を載置し投影露光ユニットに対して移動可能な基板ステージ（６０）と、基板ステージを移動させるステージ駆動部（６５）と、紫外線を含む光で電子的に作成された情報データを基板に露光する空間光変調ユニット（４０）と、空間光変調ユニットを基板の辺に略平行な方向に移動させる空間光変調ユニット駆動部（５０）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】露光ムラなくオーバラップ露光を行い、高精度のパターンを形成する。
【解決手段】露光エリアを主走査方向に傾斜させた状態でオーバラップ露光動作を実行するとき、ＤＭＤの有効領域の設定に伴って露光ピッチが算出される。露光ピッチを調整することができるため、露光条件、露光装置機構の問題などが生じても、露光点分布を均一に分散させた分布状態にさせることが可能であり、露光ムラなく高精度のパターンを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】煩雑な作業工程を伴うことなく、放電容器の黒化を防ぐ。
【解決手段】ショットブラストによって陽極３０の外周面（側面）３０Ｃにアルミナを噴射させ、散在した状態でアルミナ２６を外周面３０Ｃに付着させる。そして、アルミナ２６の融点以下で陽極３０を真空加熱処理し、不純ガスを取り除く。ランプを点灯始動させると、陽極３０の温度上昇に伴ってアルミナ２６が溶融、蒸発する。そして、蒸発したアルミナが発光管の内面に付着する。 （もっと読む）

【課題】電極埋設構造の放電ランプにおいて、仕様に合わせて様々な電極配置および放電態様を可能にする。
【解決手段】柱状絶縁体４０Ａ〜４０Ｄを、放電空間の形成される外管２０内部に設置し、電極対５０Ａ〜５０Ｄを、軸対称な位置で絶縁体４０Ａ〜４０Ｄにそれぞれ埋設させている。そして、陽極（＋）の極性をもつ電極対５０Ａ、５０Ｂ、陰極（−）の極性をもつ電極対５０Ｃ、５０Ｄが、それぞれ幅方向の向きを揃えた状態でＸ軸、Ｙ軸に沿って対向させる。 （もっと読む）

【課題】点灯始動性を向上させ、照度を長時間維持することが可能な放電ランプを提供する。
【解決手段】エキシマランプである放電ランプにおいて、放電管２０内部に箔電極３０を管軸Ｃに沿って配置する。また、箔電極３０を、誘電体５０によって被覆する。一方、箔電極３０とは極性の異なる外部電極４０を、放電管２０の外面に配設する。そして、箔電極３０の縁部３０Ｋ１、３０Ｋ２を、縁に行くほど薄くなるナイフエッジ状に形成する。 （もっと読む）

【課題】電極特性に影響を与えることなく、様々な固体を組み合わせた電極を構成する。
【解決手段】ショートアーク型放電ランプにおいて、高融点の金属部材４０と熱伝導率の高い金属部材５０とをＳＰＳ接合させることによって、陽極３０を構成する。円錐台形状の金属部材４０と円柱形状の金属部材５０とを接合することにより、接合面Ｓを、電極軸Ｘに対して垂直な方向、すなわち陽極断面径方向に沿って形成する。接合面Ｓ付近における結晶粒の径は、接合面に沿って均一であり、接合面垂直方向に沿ってほぼ均一となっている。 （もっと読む）

【課題】安定したエミッターの拡散、安定した電極強度を提供する。
【解決手段】放電ランプは、複数の密度傾斜層２６から成る焼結層（焼結体）２４を電極先端部２３に設けた陰極２０を備える。密度傾斜層２６は、酸化バリウムなどのエミッター粉末とタングステンなどの高融点金属粉末の混合粉末を段階的に陰極２０の凹部２５へ圧縮挿入し、その後一体的にＳＰＳ焼結することによって形成する。各層において焼結体が傾斜化しており、その密度が電極先端側から電極後端側に向かって連続的に減少している。 （もっと読む）

【課題】走査速度の低下、露光ピッチの長さ拡張等することなく、高解像度パターンを形成しながらスループットを向上させる。
【解決手段】ラスタデータ変換部は、実際の露光エリアよりもデータサイズの大きい４つの拡大ラスタデータＥＬＡ〜ＥＬＤをブロックとして生成し、時間間隔ＴＭに従って第１、第２バッファメモリへ交互に格納する。一方、アドレス制御回路は、露光ピッチに応じた露光タイミングに合わせて、第１、第２バッファメモリから露光用ラスタデータＥＬＡ１〜ＥＬＤ１を交互に読み出す。このとき、露光エリアＥＡの相対移動に合わせながらブロック毎の露光用ラスタデータ抽出を３回繰り返し、露光用ラスタデータＥＬＡ１〜ＥＬＤ１、ＥＬＡ２〜ＥＬＤ２、ＥＬＡ３〜ＥＬＤ３を、４つの拡大ラスタデータＥＬＡ〜ＥＬＤから順に抽出する。 （もっと読む）

【課題】投影光学系において環境温度の変化および露光光吸収によるレンズの温度変化に基づく焦点位置の変動を抑制する。
【解決手段】レクチルＲを介して光源１６からの所定の波長の露光光を投影光学系１５に入射する。第１平面鏡Ｍ１で偏向された露光光を集光パワーレンズ群１９Ｃ、発散パワーレンズ群１９Ｄを介して凹面鏡Ｍ０へと導く。凹面鏡Ｍ０で反射された露光光を発散パワーレンズ群１９Ｄ、集光パワーレンズ群１９Ｃ、第２平面鏡Ｍ２を介してシリコンウェハなどの基板Ｐへと投光する。これにより、レクチルＲに描かれたパターンを基板Ｐへ投影し、基板Ｐを露光する。 （もっと読む）