【課題】機械規模が過大でない基板固定手段により基板の周縁を面状に押圧することができる露光装置を、提供する。
【解決手段】露光テーブル１３の上面の中央には基板ＳＷを吸着するための多数の基板吸着用吸引孔１４Ｃが開けられた基板吸着領域が形成され、当該基板吸着領域の外側には、基板固定シート吸着用吸引孔列１４Ｐが開けられている。基板固定シート吸着用吸引孔列１４Ｐの外側であり且つ基板吸着領域に吸着された基板ＳＷの各外縁近傍には、夫々、対応する外縁と平行な先端縁を有するマイラーシート製の基板固定シート１０１，１２１を、その先端縁近傍が基板ＳＷの外縁近傍に重なる位置とそこから退避した位置との間で移動させる基板固定手段が、設置されている。基板吸着用吸引孔１４Ｃ及び基板固定シート吸着用吸引孔列１４Ｐは、夫々、真空ポンプ７１によって吸引及び外気導入される。 （もっと読む）

【課題】描画装置の機構に精度誤差があっても、パターン位置ずれを起こすことなく、精度よくパターンを形成する。
【解決手段】露光ヘッドを備えた描画装置において、計測用基板を描画テーブルに搭載し、基準スポットパターンのパターンデータに基づいて露光動作が行われる。そして、装置外の計測器によってスポットパターンの位置を計測し、その位置座標データを描画装置のメモリに格納させる。パターンを描画するとき、描画パターンのパターンデータＰＤを、基準スポットパターンによって規定される矩形領域毎に分割し、各矩形領域ＬＭ１、ＬＭ２の閉領域パターンデータＰＤ１、ＰＤ２を、計測されたスポットパターンの位置座標に基づく変形、もしくは変位の生じた変形矩形領域ＬＮ１、ＬＮ２に合わせて補正する。 （もっと読む）

【課題】電極特性に影響を与えることなく、様々な固体を組み合わせた電極を構成する。
【解決手段】ショートアーク型放電ランプにおいて、高融点の金属部材４０と熱伝導率の高い金属部材５０とをＳＰＳ接合させることによって、陽極３０を構成する。円錐台形状の金属部材４０と円柱形状の金属部材５０とを接合することにより、接合面Ｓを、電極軸Ｘに対して垂直な方向、すなわち陽極断面径方向に沿って形成する。 （もっと読む）

【課題】電極特性に影響を与えることなく、様々な固体を組み合わせた電極を構成する。
【解決手段】ショートアーク型放電ランプにおいて、高融点の金属部材４０と熱伝導率の高い金属部材５０とをＳＰＳ接合させることによって、陽極３０を構成する。円錐台形状の金属部材４０と円柱形状の金属部材５０とを接合することにより、接合面Ｓを、電極軸Ｘに対して垂直な方向、すなわち陽極断面径方向に沿って形成する。 （もっと読む）

【課題】点灯開始から安定点灯状態に至るまでの期間、さらには連続点灯期間いずれにおいても、放電ランプの封止管、放電管の温度を適切に調整する。
【解決手段】ショートアーク型放電ランプ１０、反射ミラー３０を備えた照明装置において、反射ミラー３０の開口部３０Ｐから突出する放電ランプ１０の封止管１３Ａに対し、筒状防風板４０を同軸的に配置する。防風板４０の端部４０Ｔの位置を、封止管１３Ａの端部１３Ｋと一致させ、防風板４０の内径Ｄ２を、放電管１２の肩部１２Ｔ以上の大きさに定める。 （もっと読む）

【課題】 分解能の高い識別記号を描画しながら周辺領域のフォトレジストを感光させることができる周辺露光装置を提供する。
【解決手段】 周辺露光装置（１００）は、第１の方向に移動するとともに、一端側で被露光基板（ＳＷ）を載置し他端側で被露光基板（ＳＷ）を第１の方向から第１の方向と交差する第２の方向へ回転させるステージ（１２）と、ステージの上方に配置され第２の方向に配置された躯体（１３）と、躯体の一端又は他端側の一方の側面に第２の方向に移動可能に設けられ周辺領域を露光する周辺露光手段（２０）と、躯体の一端又は他端側の周辺露光手段が設けられている側面とは反対側の側面に第２の方向に移動可能に設けられ周辺露光領域にパターンに関する識別記号を描画する記号描画手段（４２）と、を備える。そして、被露光基板（ＳＷ）が１往復のみ移動することで、パターンの周辺領域を露光するとともに識別記号を描画する。 （もっと読む）

【課題】 ＤＭＤとマイクロレンズなどとの調整を容易にした描画装置を提供する。
【解決手段】 描画装置は、二次元的に配置された複数のミラーでパターンを形成するための光束に紫外光線の光束を空間変調する空間光変調素子（３４）と、空間光変調素子によって空間変調されたパターンを形成する光束を拡大する拡大光学系（３５）と、拡大光学系の第１結像位置にて拡大光学系の光軸方向と交差する面で空間変調素子の二次元的な配置と一致するように配置された複数のレンズからなる第１インテグレータ（４０）と、第１インテグレータで生じる迷光を減少させるように、空間光変調素子の複数のミラーを制御するミラー制御部（９０）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】空間光変調素子を利用した露光装置において、微細なパターンを形成しながらスループット向上を実現する。
【解決手段】マスクレス露光装置において、露光ヘッドにＤＭＤ２４、投影光学系２６を設ける。投影光学系２６は、第１結像光学系２８、インテグレータ４０、第２結像光学系４６を備え、フライアイレンズ４２、４３を設けたインテグレータ４０は、パターン像をセルパターン像に分割し、個別に縮小する。データ修正部は、セルパターン像を形成するマイクロミラー群のエリア（分割エリア）に応じたデータエリアをブロックとし、複数のブロックから構成されるラスタデータを生成する。 （もっと読む）

【課題】識別マークが変形することなく、また、複数のレーザ照射ユニットにおいて光路長が異なることがなくレーザビーム露光装置およびその方法を提供する。
【解決手段】レーザビーム露光装置（５）は、レーザビーム光源（５ａ）から基板までのレーザビームの光路長を調整する光路長調整ユニット（６）と、基板の移動経路上で基板の上方に設けられ、光路長調整ユニットで光路長を調整したレーザビームを基板に照射する複数のレーザ照射ユニット（７）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ショートアーク型放電ランプにおいて、照度変動を十分に抑える。
【解決手段】陰極２０、陽極３０を発光管１２内に対向配置させ、発光管１２内に水銀、Ａｒなどの希ガスを封入したショートアーク型放電ランプにおいて、以下の式を満たす分光分布特性を備える。ただし、３３４ｎｍの輝線スペクトルの強度をＨ_３３４、５４６ｎｍの輝線スペクトルの強度をＨ_５４６とする水銀量をＭとする。

Ｈ_３３４／Ｈ_５４６≧０．３５ （Ｍ≧１５）
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