【課題】 記録材料にしわ等を生ずることなく、画像を正確に記録することが可能な画像記録装置を提供すること。
【解決手段】 巻き出しローラ１１と、巻き取りローラ１４と、巻き出しローラ１１から巻き出され巻き取りローラ１４により巻き取られることで一方向に移動する記録材料１をその下面から吸着保持した状態で往復移動する吸着テーブル３１と、吸着テーブル３１と同期して移動する一対の剥離ローラと、記録材料１の移動方向と交差する方向に移動する記録ヘッド３４と、第１のダンサーローラ機構１２と、第２のダンサーローラ機構１３と、ニップローラ３５とを備える。 （もっと読む）

【課題】注入された不純物の活性化を行いつつ、その不純物の剥離を防止することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】不純物を注入した半導体ウェハーをチャンバー内に搬入し、その半導体ウェハーの周辺に酸素ガスを導入した後にフラッシュランプから０．１ミリセカンド以上１００ミリセカンド以下の照射時間にて閃光照射を行い、半導体ウェハーの表面温度を瞬間的に８００℃以上１３００℃以下に昇温している。極めて短時間の昇温であるため、不純物の熱拡散を抑制しつつ活性化を行うことができる。また、半導体ウェハーの表面に極めて薄い酸化膜が形成されるため、これが後続の洗浄処理時に保護膜として機能し、不純物の剥離を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】基板の温度分布を短時間で容易に調整することができる熱処理装置を提供する。
【解決手段】複数本のフラッシュランプＦＬから持部７に保持される半導体ウェハーＷにフラッシュ光を照射して加熱する。保持部７は衝立２０の内側を自在に昇降する。保持部７が衝立２０の内側の比較的下側に位置しているときには、複数のフラッシュランプＦＬから半導体ウェハーＷの端縁部に照射される光の一部が衝立２０によって遮光される。一方、保持部７が衝立２０の内側の比較的上側に位置しているときには、全てのフラッシュランプＦＬから照射された光が衝立２０によって全く遮られることなく半導体ウェハーＷの全面に到達する。衝立２０の内側における保持部７の高さ位置を調整するだけで半導体ウェハーＷに到達する光の光量を増減することができ、短時間でフラッシュ加熱時の半導体ウェハーＷの温度分布を容易に調整することができる。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ材料を含む塗布液を印刷塗布する際の膜厚均一性を向上させる塗布装置および塗布方法を提供する。
【解決手段】基板上に有機ＥＬ材料を含む塗布液を印刷塗布する塗布装置である。塗布装置は、載置台、版胴、印刷版、塗布液供給部、および相対移動手段を備える。載置台は、基板をその上面に載置する。印刷版は、版胴の外周面に巻設され、その表面に印刷塗布するパターンに応じた凸状のパターンおよび当該凸状のパターン上面に塗布液を保持する網点状の凹凸面が形成される。塗布液供給部は、印刷版の表面に塗布液を供給する。相対移動手段は、基板上面と印刷版とを近接または当接させて対向させた状態で、軸芯を中心に版胴を回転させながら載置台と版胴とを相対移動させる。凹凸面は、相対移動手段が基板上面と順次対向させる印刷版の印刷方向に対して、塗布液を保持する保持量が漸減するように形成される。 （もっと読む）

【課題】プリディスペンスに要する時間の短縮、および加熱または冷却される第１流体の消費量の低減を図ることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】硫酸過水ノズル４に接続される硫酸供給配管１４の上流端は、処理液キャビネット２内の循環配管２２に分岐接続されている。処理液キャビネット２内において、硫酸供給配管１４には、第１配管継手３０が介装されている。また、処理室１内のノズルアーム１０の先端部において、硫酸供給配管１４には、硫酸過水ノズル４に近接して配置された第２配管継手３１が介装されている。第１および第２配管継手３０，３１の間において、循環配管２２および硫酸供給配管１４は、循環配管２２内に硫酸供給配管１４が挿通されることにより二重配管構造を形成している。 （もっと読む）

【課題】大型基板の塗布処理において低コストで適切なダウンフローを形成する技術を提供する。
【解決手段】ＦＦＵ６１の外側周囲に第１板状部材６２を設置する。また、ステージ３の周囲に排気容器７１を配置するとともに、当該排気容器７１の外側周囲に第２板状部材を配置する。また、大型基板９０を搬送するハンド９０１の基板搬送経路と干渉しないように、搬送側（−Ｙ側）に設けられる第１板状部材６２の下端の位置を搬送経路よりも上方となるように設定する。このような基板処理装置１において、大型基板９０の塗布処理を行う際には、ＦＦＵ６１から供給するエアの気流（ダウンフローＤＦ）の勢いが載置面でほぼ消失するように、エアの供給量を調整する。この勢いが消失したエアは、下方に設置された排気容器７１に導かれて排気される。 （もっと読む）

【課題】流動性材料が塗布される基板上の非塗布領域に流動性材料の付着を防止するマスク部材を粘着剤層を介して貼付するマスク部材貼付装置において、マスク部材の貼付時に粘着剤層が押し潰されて塗布領域にはみ出てしまうことを防止する。
【解決手段】マスク部材貼付装置では、マスク部材１２が基板９の非塗布領域９２に向けて押圧されることにより、マスク部材１２が、非塗布領域９２上に形成された粘着剤層１１を介して基板９上に貼付される。粘着剤層１１は、粘着材料１１１および粒状のスペーサ１１２を含んでいるため、マスク部材１２の基板９の主面９０からの高さはスペーサ１１２の直径におよそ等しくされる。また、マスク部材１２の貼付時に粘着剤層１１が押し潰されて塗布領域９１へとはみ出してしまうことを防止することができる。その結果、基板９の塗布領域９１に有機ＥＬ液を高精度に塗布することができる。 （もっと読む）

【課題】ステップごとに状態値を比較することが容易なグラフを表示するグラフ表示装置を提供する。
【解決手段】レシピの実行を開始してからの経過時間を示す時間軸１６８及び温度を示す温度軸１７０が定義された描画領域１７２に、時系列データＴＳ１をあらわすグラフＧ１及び時系列データＴＳ２をあらわすグラフＧ２を時間軸方向に平行移動したグラフＧ２−Ｓｉ（ｉ＝１，２，３，４）を重ね合わせて描画する。レシピＲ１の実行時に発生したイベントＳｉ及びレシピＲ２の実行時に発生した対応するイベントＳｉ’の各々に着目し、グラフＧ１における着目したイベントＳｉの発生タイミングと、グラフＧ２における着目したイベントＳｉ’の発生タイミングとを時間軸上で一致させたグラフＧ２−Ｓｉを着目したイベントＳｉごとに１個ずつ描画する。 （もっと読む）

【課題】操作性に優れ、かつ、色情報の抽出を効率的に行う技術を提供する。
【解決手段】画像処理装置１は、複数の彩色画像ＣＩ１をサムネイル化することによって、選択用サムネイル画像ＴＩ１を生成するとともに、彩色画像ＣＩ１に含まれる特定色の色情報を周辺色に置換した色置換画像をサムネイル化することによって、色置換サムネイル画像データＴＩＤ２を生成する。そしてユーザは、表示部１３に表示される画面に従って、未彩色画像ＭＩを彩色のために必要な色情報を持つ画像を、複数の選択用サムネイル画像ＴＩ１から指定するとともに、指定した画像に対応する色置換サムネイル画像ＴＩ２から、抽出したい色情報を持つ画素を所定の操作入力により指定する。これに従って、画像処理装置１は、当該指定された画素が持つ色情報を、色置換サムネイル画像データＴＩＤ２から抽出する。 （もっと読む）

【課題】基板にリンス液を供給する工程の終了後に、基板に薬液ミストが付着することを防止できる、基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板に対するレジスト剥離処理においては、処理室内において、基板にＳＰＭが供給される。このとき、基板でのＳＰＭの跳ね返りやＳＰＭ中の水分の蒸発などによるＳＰＭのミストが生じ、ＳＰＭのミストが処理室内の空間に浮遊して拡散する。基板へのＳＰＭの供給の終了後、基板にＳＰＭを洗い流すための純水が供給される。この純水の供給と並行して、処理室内の空間に微細な水滴が噴射される。これにより、処理室内の空間に拡散したＳＰＭのミストに微細な水滴がかかり、ＳＰＭのミストが微細な水滴に吸収され、ＳＰＭのミストが処理室内の雰囲気中から排除される。 （もっと読む）