【課題】有機溶剤への溶解性と、支持体への塗布性のいずれも優れたポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるポジ型レジスト組成物であって、（Ａ）成分は、特定の４種の構成単位を有する樹脂成分（Ａ１）を含有し、（Ｓ）成分は、アルコール系有機溶剤（Ｓ１）６０〜９９質量％と、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びシクロヘキサノンからなる群から選択される少なくとも一種の有機溶剤（Ｓ２）１〜４０質量％とを含有する。 （もっと読む）

【課題】良好な形状で、ＬＷＲの小さいレジストパターンを形成でき、基板とのマッチングが良好なポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、末端にカルボキシル基を有する脂肪族炭化水素基を含む特定のアクリル酸系エステルから誘導される構成単位（ａ０）、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を少なくとも２種、及びラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】簡便に被覆パターンを形成できる被覆パターン形成方法、および該被覆パターン形成方法に用いられる材料、ならびに前記被覆パターン形成方法を利用したパターン形成方法を提供する。
【解決手段】支持体１上に、表面が被覆膜４で被覆されたパターンを形成する被覆パターン形成方法であって、支持体１上に、ラジカル重合開始剤を含有するレジスト組成物を用いてレジストパターン２を形成する工程（ｉ）と、レジストパターン２が形成された支持体１上に、重合性基を有するベースポリマーと、重合性モノマーとを含有するレジスト被覆膜形成用材料を塗布して塗膜３を形成する工程（ｉｉ）と、レジストパターン３に対して露光および／またはベークを行う工程（ｉｉｉ）と、塗膜３に対して現像処理を行う工程（ｉｖ）と、を含むことを特徴とする被覆パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】両側の開口面の大きさが揃っている貫通孔を有する加工基板、及び当該加工基板を容易に且つ生産性良く製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明の加工基板１は、光透過性を有する基板に複数の貫通孔６が設けられてなる加工基板１であって、各々の上記貫通孔６における、より大きい開口面の径とより小さい開口面の径との差が、上記より大きい開口面の径に対して５％以下であるので、両側の開口面の大きさが揃っている貫通孔６を有する加工基板１を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜の露光工程後かつ現像工程前に用いられ、レジスト膜の疎水性を低下させることが可能なレジスト表面改質液、及びそのレジスト表面改質液を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】レジストパターンを形成する際には、まず、基板上に形成されたレジスト膜を選択的に露光し、次いで、露光後のレジスト膜に酸性アニオン性界面活性剤と水とを含有するレジスト表面改質液を接触させることにより、レジスト膜の疎水性を低下させる。その後、レジスト表面改質液に接触させたレジスト膜を現像する。 （もっと読む）

【課題】現像後のレジストパターンのディフェクトの発生を抑制できるホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。また、異物経時特性（保存安定性）に優れるホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。そして、さらに好ましくは、処理前後で感度やレジストパターンサイズの変化が起こりにくいホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、有機溶剤（Ｃ）とを含むホトレジスト組成物を、臨界表面張力が７０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上の第１の膜を備えた第１のフィルタを通過させる工程を有し、且つ前記第１のフィルタを通過させる工程の前後の一方又は両方に、さらに、該ホトレジスト組成物を、ポリオレフィン樹脂またはフッ素樹脂製の第２の膜を備えた第２のフィルタを通過させる工程を有することを特徴とするホトレジスト組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物の基材成分として新規な高分子化合物、そのモノマー、及び当該高分子化合物を含有するレジスト組成物とそれを用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、基材成分（Ａ）が、側鎖に、環骨格中にスルホニル基を含む環式基を有するエステル基を有する（メタ）アクリル誘導体単位で表される構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ０）を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高温プロセスにおける使用に適した接着剤および接着フィルムを提供する。
【解決手段】接着剤組成物は、（メタ）アクリル酸エステルを含む単量体組成物を重合してなる重合体を含む接着剤組成物であって、当該（メタ）アクリル酸エステルは、一般式（１）：


（Ｒ^１は水素原子またはメチル基を表し、かつＲ^２は炭素数４〜２０の鎖状アルキル基を表す）で表される構造を有するとともに、そのホモ重合体のガラス転移温度が０℃以上であり、上記単量体組成物１００質量部に占める上記（メタ）アクリル酸エステルの割合が、５〜９０質量部の範囲内である。 （もっと読む）

【課題】より高い吐出安定性と印刷性を有するインクジェット方式印刷用の拡散剤組成物、当該拡散剤組成物を用いた不純物拡散層の形成方法、および太陽電池を提供する。
【解決手段】シリコン基板等のＮ型の半導体基板１上に、Ｐ型の不純物拡散成分（Ａ）を含有する拡散剤組成物２と、Ｎ型の不純物拡散成分を含有する拡散剤組成物３とを選択的に塗布する。その後、周知の手段を用いて乾燥させる。そして、電気炉等の拡散炉内に載置して焼成し、拡散剤組成物２中のＰ型の不純物拡散成分（Ａ）、および拡散剤組成物３中のＮ型の不純物拡散成分を半導体基板１の表面から半導体基板１内に拡散させる。 （もっと読む）

【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および含窒素化合物（Ｄ）を含有するレジスト組成物であって、前記含窒素有機化合物（Ｄ）が、下記一般式（ｄ１）［式中、Ｒ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基であり、Ｒ^５は置換基を有していてもよい炭化水素基である。］で表される化合物（Ｄ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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