【課題】装置全体を小型軽量化でき、ワークを位置合わせする際にその位置合わせの負荷を低減でき、消費電力の低減を図ることのできるアライメント装置を提供する。
【解決手段】アライメント装置３０は、互いに離間した４つのアライメントステージ３１を有し、そのアライメントステージ３１にそれぞれ設けたアライメントテーブルＡＴにてパネルを支承する。移動モータＭ２を駆動させることによって、各４箇所に位置するアライメントテーブルＡＴを、連結ロッド４０ａ，４０ｂ，４１ａ、４１ｂを介して連動させ、パネルを、位置ずれに応じて左回転移動、右回転移動、右側平行移動、左側平行移動、後側平行移動、又は、前側平行移動させ、遮光マスクに対するパネルの位置ずれをゼロにする。 （もっと読む）

【課題】イオンミリングによって磁気記録層を有する基板表面が消失することなく、かつ大気の影響を受けずに磁気記録媒体を製造する。
【解決手段】磁気記録層を有する基板にイオンビームを注入した後、該イオンビーム注入後の磁気記録層を有する基板の表面をアッシングにより除去して磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体製造装置１０であって、レジスト膜またはメタルマスクが塗布された磁気記録層を有する基板にイオンビームを注入するイオン注入室２０と、レジスト膜またはメタルマスクが塗布された磁気記録層を有する基板のレジスト膜またはメタルマスクを、プラズマによりアッシングして除去するアッシング室３０と、を有し、イオン注入室２０とアッシング室３０とは真空状態で連結されると共に、イオンビーム注入後の基板をイオン注入室２０からアッシング室３０に搬送する基板搬送機６０を備える。 （もっと読む）

【要 約】
【課題】 アルミニウムの残渣が残らない有機薄膜のエッチング方法を提供する。
【解決手段】
エッチング室１１の内部雰囲気中に塩素成分とホウ素成分を含有させながら、酸素ガスプラズマを導入し、有機薄膜を酸素ガスプラズマに接触させる。酸素ガスプラズマ中で塩素成分やホウ素成分が活性化し、酸素プラズマによって有機物が酸化され、気体となって除去される際に、酸素プラズマによって生成されたアルミニウム酸化物をホウ素成分によって還元し、生成された金属アルミニウムは塩素成分と反応させて反応生成物を真空排気によって除去する。アルミニウム残渣が残らないエッチングを行うことができる。 （もっと読む）

【課題】高記録密度の磁気記録媒体を簡易な製造方法にて実現する。
【解決手段】基板と、基板上に複数設けられた、各々が、該基板上に複数種類の原子層が交互に積層されてなる人工格子構造を有する、各々に情報が磁気的に記録される磁性ドットと、磁性ドットの相互間に設けられた、磁性ドットの人工格子構造と連続した人工格子構造を有し、人工格子構造にイオンが注入されてなる、磁性ドットの飽和磁化よりも小さい飽和磁化を有するドット間分断帯とを備える。 （もっと読む）

【要 約】
【課題】 マイクロバブルを確実に除去できるインクヘッドモジュールを提供する。
【解決手段】インクヘッドモジュール１４に設けられたリザーバタンク６からインクジェットヘッド１５に供給される吐出液が、その途中に補助脱気装置４の内部を流れるようにし、補助脱気装置４によって脱気された吐出液がインクジェットヘッド１５に供給されるようにする。メインタンクから吐出液が圧送される際、主脱気装置で十分に脱気されない吐出液がリザーバタンク６に供給されても、リザーバタンク６内を真空排気して脱気し、更に、補助脱気装置４によって脱気できるので、インクジェットヘッド１５にマイクロバブルが侵入することがない。 （もっと読む）

【課題】太陽電池を構成する区画素子の中で、欠陥が存在する領域を特定することが可能な太陽電池の製造装置を提供する。
【解決手段】走査ヘッド１１は、互いに隣接する２つの区画素子２１，２１の表面にそれぞれ接する１組の摺動電極３１ａ，３１ｂを備える。こうした摺動電極３１ａ，３１ｂは、区画素子２１の短辺方向Ｙに沿って複数組配列され、摺動電極群を構成する。摺動電極３１ａ，３１ｂはそれぞれ、区画素子２１，２１の表面に接しつつ、区画素子２１，２１の長辺方向Ｘに沿って摺動可能なローラ状電極からなる。このローラ状電極は、例えば、ローラ状の導電体３４と、このローラ状の導電体３４を複数貫通し、回動自在に保持する絶縁性の回転軸３５とを備えていればよい。 （もっと読む）

【課題】シャント成分を低減でき、短絡部分のない高性能な太陽電池を得る。
【解決手段】基板上に、第１導電層、光電変換層、第２導電層をこの順に重ねた構造体を設けた太陽電池の製造方法において、前記基板の第１端部の周辺領域に形成された構造体部分を、第１レーザの照射によって除去し（ステップＳ５）、前記除去により生じた前記構造体の第２端部に、前記第１レーザよりも発光波長が短い第２レーザを照射して、前記第１導電層の第２端部を残したまま、前記光電変換層の第２端部および前記第２導電層の第２端部をクリーニングする（ステップＳ６）。 （もっと読む）

【課題】コントラスト比の高い液晶表示装置を提供する。
【解決手段】分散液を第一の基板２０の反射膜２５上を狙って吐出し、スペーサ粒子１７が反射領域４３に配置された液晶表示装置１０を製造する。透過領域４２のようにコントラスト比が高い部分にはスペーサ粒子１７が配置されず、スペーサ粒子１７が配置される反射領域４３は元々コントラスト比が低いから、色抜け等の画像不良がおこらない。スペーサ粒子は反射領域４３に配置されるから、散布法に比べてスペーサ粒子１７の使用量が少なくてすむ。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料と絶縁部材との間を密着させて安定した初期放電を得ることができる同軸型真空アーク蒸着源及びこれを備えた真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る同軸型真空アーク蒸着源５は、円筒状の絶縁碍子１４と、絶縁碍子１４の内周部に配置され外周部が絶縁碍子１４の内周部に弾性的に接触する蒸着材料１１と、絶縁碍子１４の外周部に配置されたトリガ電極１３と、トリガ電極１３の周囲に同心的に配置された筒状のアノード電極２３とを具備する。これにより、蒸着材料１１と絶縁碍子１４との間の密着を常に維持することができるので、蒸着源５の安定した放電動作を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】成膜レートを安定に維持することができるプラズマ処理方法及びプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の一形態に係るプラズマ処理方法は、エッチング工程と保護膜形成工程とを交互に繰り返し実施することでシリコン基板に高アスペクト比のビアを形成する。そして、保護膜の形成工程にはスパッタ法が適用される。スパッタ工程では、アンテナコイル２３に高周波電力（ＲＦ１）を供給して、真空槽２１内にスパッタ用ガスのプラズマを形成する。このとき、アンテナコイル２３に供給する高周波電力を２ｋＷ以上とする。アンテナコイル２３に供給する高周波電力が２ｋＷ以上の場合、当該高周波電力が２ｋＷ未満である場合と比較して、ターゲット３０の使用時間に依存しない安定した成膜レートを得ることが可能となる。 （もっと読む）