本発明は、レーザ照明方法であって、９９８ｎｍなどの異なる基本波長の基本周波数レーザエネルギを生成する段階と、基本周波数レーザエネルギの一部を第２高調波周波数レーザエネルギへ変換する段階と、第２高調波周波数レーザエネルギを第４高調波周波数レーザエネルギへ更に変換する段階と、第４高調波周波数レーザエネルギを基本周波数レーザエネルギの一部と混合させて、和周波数のレーザエネルギを生成する段階とを含む。混合は、ホウ酸セシウムリチウム（ＣＬＢＯ）の結晶における非臨界位相整合によって行なわれる。或いは、レーザ照明方法は、基本周波数レーザエネルギの一部をラマン線のレーザエネルギへシフトさせる段階及び／又は第２高調波周波数レーザエネルギを基本周波数レーザエネルギの一部と混合させて第３高調波周波数レーザエネルギを生成する段階を使用してもよい。
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光電子増倍管（ＰＭＴ）検出器の測定検出範囲の制限要因として陽極飽和に対処することによって欠陥検出を強化するための検査システム、回路、方法が提供される。検査システムの測定検出範囲の制限要因として増幅器及びアナログ・デジタル回路の飽和レベルに対処することによって欠陥検出を強化するための検査システム、回路及び方法も提供される。加えて、表面検査の走査の間に試料に供給される入射レーザ・ビームパワー・レベルを動的に変更することによって大きな粒子に対する熱破損を削減することにより欠陥検出を強化するための検査システムや回路、方法が提供される。
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【解決手段】順応性のある対称性を持ったオーバレイターゲット及びかようなターゲットの二枚以上連続した層の間のオーバレイ誤差、或は同一の層の上の二つのセットの構成体の間のズレを計測するメトロロジ技術を提供するものである。或る実施例によれば、ターゲットにはx方向とy方向両方に沿ったオーバレイ誤差（或はズレ）を測定する構成体が含まれ、ここでx構成体はy構成体と異なる対称中心を持つ。別の実施例では、x構成体とy構成体の中の一つは１８０度の回転によって不変であり、他の一つは鏡面対称である。又、発明の一様相に於いて、１８０度の回転によって x構成体とy構成体共に変形である。更に別の例では、x方向及び／或はy方向でオーバレイを測定するためのターゲットは、 第一層の上の１８０度の回転対称の構成体と第二層の上の鏡面対称の構成体を含む。別の実施例に於いて、x方向及び／或はy方向のオーバレイを確定するターゲットは、第一層の上の構成体と第二層の上の構成体を含み、第一層の上の構成体の対称中心は第二層の上の構成体の対称中心から既知の量だけオフセットされて居る。或る特別の実施例として、開示された実施例のいずれのターゲットも装置構成体の形態をとってよい。使用の場合、第一と第二の各々の層で内在的に１８０度回転対称或は鏡面対称を持つ装置構成体が第一層と第二層でのオーバレイの測定に使用される。順応性のある対称性を持ったターゲットの撮像して取得した画像を解析してオーバレイや整列に関する誤差を確定する技術を開示する。 （もっと読む）

試料を検査する方法および装置を提供する。本装置は、第１照明源と、第１照明源から受け取った光エネルギを実質的に垂直な角度で前記試料に向かうように誘導する、中央掩蔽を提示する反射屈折対物レンズと、前記反射屈折対物レンズによって生じる前記中央掩蔽内に配置され、第２照明源からの追加照明を受け取って、前記試料に向けて追加照明の進路を変える、プリズムや反射面等の光学装置と、を含む。本方法は、第１照明源を用いて、前記試料の表面を各種の角度で照光することと、第２照明源を用いて前記表面を照光することとを含み、前記第２照明源による照光は、実質的に垂直な入射角度で行われ、また、反射、散乱、および回折されたすべてのリグを結像させることを更に含む。
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鋸歯状フーリエフィルタと検査システムが提示される。フーリエフィルタの１つには、ウェハからの光の一部を遮断するように構成された１つ以上の遮断要素が含まれている。フーリエフィルタは、１つ以上の遮断要素のエッジに形成された周期的な鋸歯状部分も含む。周期的な鋸歯状部分によって１つ以上の遮断要素の移行領域が形成される。周期的な鋸歯状部分は、移行領域の両端間における透過度の変化がほぼ平滑になるように、移行領域における透過度を変化させるように構成されている。検査システムの１つには、上述のように構成されたフーリエフィルタと、フーリエフィルタによって透過された光を検出するように構成された検出器とが含まれている。検出器によって発生した信号を利用して、ウェハ上の欠陥を検出する。
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【課題】１つ又は複数の欠陥関連の機能を遂行するコンピュータ実行方法を提供する。
【解決手段】検査データ中のノイズを識別する一方法は、所定の数よりも少ない数の検査データの組の中で検出される事象を、ノイズとして識別する。欠陥をビン分類する一方法は、欠陥の特性、及び、これらの欠陥が検出された検査データの組に基づいて、これらの欠陥をグループにビン分類する。欠陥解析のために欠陥を選択する一方法は、これらの欠陥の互いの近接性、及び、グループ（１つ又は複数）により形成される空間シグネチャに基づいて、欠陥をこのグループ（１つ又は複数）にビン分類することを含む。欠陥解析のために欠陥を選択する別の方法は、欠陥解析のために、欠陥特性（１つ又は複数）のうち、もっとも多様なものを有する欠陥を選択することを含む。一方法は、試料のために生み出された検査データを、この試料のために生み出された欠陥レビューデータと組み合わせたものを使用して、この試料上の欠陥を分類することを含む。 （もっと読む）

【解決手段】エリプソメトリ構成を用いて、等方性または異方性であるシステムの部分ミュラー行列および完全ジョーンズ行列を測定するためのシステムおよび方法が開示されている。一実施形態では、２以上の信号（各々は対称性の仮定を必ずしも満たさない）が、対称性の仮定を満たす合成信号に合成される。個々の信号は、２以上の検光子角度で収集される。合成信号の対称性は、１Ｄ回折格子ターゲットに対する入射光線の任意の相対方位について、および、一般的な２Ｄ回折格子を含むターゲットについて、オーバレイ情報の抽出を簡単に実行できるようにする。ある対称性を有する信号も、非常に効率的にプロファイル非対称性の測定を行うことを可能にする。別の実施形態では、対称性の仮定を満たす信号のみを測定するための測定方法が規定されている。随意的な実施形態は、偏光子および検光子として機能する１つの偏光素子を備える。別の随意的な実施形態は、検光プリズムを用いて、反射光の２つの偏光成分を同時に集光する。 （もっと読む）

シリコンウェハ等の多層試料を検査するためのシステムと方法が開示される。この考案は、薄膜干渉による全反射エネルギーの変動を低減させる。この考案は、２つの入射角範囲で試料を照明するステップを含み、この２つの入射角範囲は、第一の入射角範囲での全反射エネルギーの変動を使って、第二の入射角範囲での全反射エネルギーの変動とのバランスをとるように選択される。２つの入射角範囲で照明された試料のダイ間比較を使って欠陥が検出される。
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検査のためのシステムおよび方法を開示する。本設計は通常、４つもの設計原理を採用する。これは比較的低い分散ガラスで構成された少なくとも１枚のレンズと、前記少なくとも１枚の比較的低い分散ガラスとは異なり、通常は前記比較的低い分散ガラスの比較的低い分散特性と調和する追加的素材から構成された少なくとも１枚の追加的レンズとを採用することを含む。本設計は、前記比較的低い分散ガラスおよび前記追加的素材とは異なり、これらとは大きく異なる分散率を示す更なる素材から構成された少なくとも１枚の更なるレンズを更に有してもよい。最後に、本設計は、対物レンズ内に大量の色を挿入するように配置されたレンズと、隙間と、追加的レンズとを有してもよく、当該隙間と当該追加的レンズとは挿入された色を消去するように作用する。
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一実施形態において、ウエハー（１２２）端部を検査するシステムは、ウエハー表面（１２２）上に放射光を指向させる放射光標的アセンブリと、ウエハー表面（１２２）からの反射光を収集する反射光収集アセンブリと、ウエハー（１２０）の端部表面（１２６）の周囲で表面分析計アセンブリを回転させる手段と、ウエハー（１２０）の端部で単一または複数の欠陥を検出する手段を備えたことを特徴とする表面分析計アセンブリを備える。
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