高透過およびエネルギー分解能を同時に可能にする荷電粒子エネルギー分析計が記載されている。この分析計は、内側電極表面および外側電極表面（ＩＳ、ＯＳ）それぞれを有する同軸の内側電極および外側電極（１４、１５）を含む電極構造（１１）を有する。この内側電極表面および外側電極表面は、電極構造（１１）の縦軸に対称に直交する子午表面を有する回転楕円体の表面によって、少なくとも部分的に画定されている。内側電極表面および外側電極表面は、それぞれ異なる半径Ｒ_２およびＲ_１（Ｒ_２はＲ_１より大きい。）を有する２つの非同心円の弧の縦軸回りの回転により生成される。それぞれの子午面における縦軸からの外側電極表面の距離は、Ｒ_0１であり、そしてそれぞれの平面における縦軸からの内側電極表面の距離は、Ｒ_０２およびＲ_１、Ｒ_２、Ｒ_０１であり、そしてＲ_０２は、規定された関係を有する。
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質量分析計は、パルス状イオン源と、パルス状イオン源によって生成されたイオンを閉じ込める第１のイオントラップであって、第１のイオントラップから続いて放出される閉じ込められたイオンの位置を特定するための第１のイオントラップ（１０）とを有する。冷却ガスのパルスは、第１のイオントラップ（１０）がイオンを閉じ込めることを可能にするのに適しているピーク圧において、第１のイオントラップ（１０）に導かれる。ターボ分子ポンプ（１７）は、閉じ込められたイオンが、第１のイオントラップ（１０）から分析のための第２のイオントラップ（２０）の方へ放出される前に、冷却ガスの圧力を減らす。パルス状イオン源は、第１のイオントラップ（１０）の端壁を形成する試料プレート（１４）を有する。
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イオンをイオントラップ内に導入する方法及びイオン蓄積装置について記述している。導入手段を使用し、イオントラップに対する導入開口部を通じて第１イオンをイオントラップ内に導入する。導入手段の動作条件を調節し、第１イオンとは異なる極性の第２イオンを同一の導入開口部を通じてイオントラップ内に導入している。
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イオントラップ質量アナライザを使用して高精度の質量スペクトルを取得する方法は、アナライザの動作パラメータを調節して質量選択共鳴排出モードにおいてリバース質量スキャンを可能にする段階と、対象イオンの質量／電荷比に近い下限を具備する質量／電荷比レンジ内のイオンをトラップするべくトラッピングフィールドを設定する段階と、を含んでいる。化学シフトを判定する方法は、アナライザの動作パラメータを調節してフォワード及びリバース質量スキャンを可能にする段階と、フォワード及びリバース質量スキャンから取得したスペクトルを較正する段階と、を含んでいる。
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２個の導電性電極間に挟まれた絶縁性の焦電及び／又は圧電材料の薄層で形成される、電磁放射光を同時に検出し反射する装置。最も上部の電極は、放射光を反射部分と吸収される非反射部分とに分離することができ、絶縁層は、最も上部の電極によって吸収される電磁放射光の強度に依存する電気的特性を有している。２個の電極間で測定される電圧及び／又は電流は、絶縁層の電気的特性に敏感であって、吸収された電磁放射光の強度を表す。
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四重極型イオントラップは、個別の電圧レベルＶ_Ｈ、Ｖ_Ｌ間でトラップ電圧を切り替えるスイッチ（３）を含む。これにより、イオントラップのトラップ領域内でプリカーサイオン及びプロダクトイオンを捕獲するためのデジタルトラップ電場が形成される。ゲート電圧がゲート電極（１２）に印加され、ソース電子のイオントラップへの注入を制御する。ゲート電圧の印加は、前記切り替えと同期するため、トラップ電圧が選択された電圧レベルのいずれか一つの値である間、電子がイオントラップに注入され、電子捕獲開裂を起こすのに適した運動エネルギーでトラップ領域に到達することができる。
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タンデム型線形イオントラップ及び飛行時間質量分析器でにおいて、前記イオントラップが、前記飛行時間質量分析器の飛行経路と直交する直線の中心軸を有する。このイオントラップは、少なくとも一方がイオンを前記飛行時間質量分析器へ排出するためのスリットを有する１組の電極（４０１，４０３，４０２，４０４）と、離散ＤＣレベルを提供するための１組のＤＣ電圧源（＋Ｖ、−Ｖ、Ｖ１、Ｖ２）、及び、前記ＤＣ電圧源を前記電極のうち少なくとも２つと接続及び断絶するための複数の高速電子スイッチ（４０９）と、前記イオントラップの内部を充填する中性ガスと、イオントラップ、イオンによる操作、冷却、及び前記イオントラップから前記飛行時間質量分析器へ全てのイオンが排出される状態を含むことを実施するための切り替え手順を提供するためのデジタルコントローラと、を備える。
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粒子ビームがモノクロメータフィルタアセンブリに入る前にこの粒子ビームを成形するためのアパーチャプレートを有する粒子光学装置。この装置は、少なくとも１つのアパーチャを有し、かつ通常の動作状態において前記モノクロメータフィルタアセンブリに対して調節可能である。このため、前記粒子ビームを成形するために使用される前記アパーチャの大きさは変更することが可能であり、従って、前記モノクロメータフィルタアセンブリに入るビーム電流は変化させることができる。

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