【課題】 高記録密度を達成することができる、低ノイズ磁気ディスクを提供する。
【解決手段】 ガラス基板１上に少なくとも下地層２と、磁性層３と、保護層４とを備える磁気ディスクであって前記磁性層がＣｏＣｒを含む合金で、且つ第１、第２の磁性層３ｃ、３ｄを含む２層以上からなる磁気ディスクの製造方法であり、第１の磁性層３ｃの成膜中に直流バイアスを印加する。 （もっと読む）

【課題】特にＬＵＬ方式を採用した磁気ディスク装置において、磁気ヘッドの浮上量を１０ｍｍ以下とした場合であっても、磁気ヘッドの記録再生素子の腐食障害を抑えることができ、また、フライスティクション障害やヘッドクラッシュ障害、サーマルアスペリティ障害を防止することができる磁気ディスクの製造方法及びこのような磁気ディスクの評価方法を提供する。
【解決手段】炭素系保護層に含まれる窒素の濃度を所定の濃度以上に制御することにより、磁気ディスクをＳＯ_２ガス雰囲気中に放置した後に温水抽出法によって抽出されるＳＯ_４^２−イオン濃度及びＣＯ^２−イオン濃度を制御し、この磁気ディスクに対する記録再生を行う磁気ヘッドの記録再生素子部における腐食発生率を所定の率以下とする。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体を製造する場合に、量産性を損なうことなく、温度分布の偏りに起因する磁気特性のばらつきを抑える。
【解決手段】基板１２と、磁気記録を行うために基板上に成膜された磁性層とを少なくとも備える磁気記録媒体の製造方法において、磁性層を成膜する前、途中あるいは成膜後に基板１２の両主表面を加熱する加熱工程を備え、加熱工程は、基板１２の一方の主表面と対向する面内に所定の配列で配置されたヒータ３０４Ａを有する第１加熱部３０２Ａと、基板１２の他方の主表面と対向する面内に第１加熱部３０２Ａと異なる配列で配置されたヒータ３０４Ｂを有する第２加熱部３０２Ｂとを備える加熱装置２０２を用いて基板を加熱する。 （もっと読む）

【課題】３ｎｍ以下の保護層膜厚であっても、耐摩耗性、摺動特性に好適な磁気ディスクを提供する。また、ＬＵＬ方式用として好適な磁気ディスクを提供する。
【解決手段】基板１と、磁気記録を行うために基板１上に成膜された磁性層３と、磁性層３を保護するために磁性層３上に成膜された保護層４とを少なくとも備える磁気ディスクの製造方法において、保護層４は、実質的に炭素及び水素からなる炭化水素保護膜４ａを磁性層３側に有し、磁気ディスクの製造方法は、安定したプラズマ放電を確保するためのイグナイターを用いてプラズマ点火を行いつつ、０．１Ｐａ以上２Ｐａ以下の真空度の雰囲気中で炭化水素保護膜４ａを成膜する炭化水素保護膜成膜工程を備える。 （もっと読む）

【課題】軟磁性層を起因とするノイズの低減と、高い量産性とを両立する。
【解決手段】ハードディスクドライブに搭載される磁気記録媒体の製造方法であって、マグネトロンスパッタリング法による成膜を行う成膜装置を用いて軟磁性層を成膜する軟磁性層成膜工程を備え、成膜装置は、複数の基板１２を並べて保持する基板アダプタと、ターゲット１０４と、複数の基板対応磁場発生部３０２と、補助磁場発生部３０４とを備え、基板対応磁場発生部３０２は、対応する基板１２に形成される軟磁性層の磁化容易軸を当該基板１２の半径方向に揃えると共にマグネトロン放電を発生させるための磁場を発生し、補助磁場発生部３０４は、マグネトロン放電を発生させるための磁場を発生する。 （もっと読む）

【課題】下地層の粒成長を抑制し、且つ高い配向性を出現させることによって、低い媒体ノイズを有し、高S/N比が得られる磁気ディスクを提供する。
【解決手段】ディスク状ガラス基板上に、少なくとも、非晶質の第１下地層と、結晶質の第２下地層と、磁性層とを有する磁気ディスクの製造方法であって、酸化性ガスを含む雰囲気において反応性スパッタリングにより前記第１下地層を成膜した後、１００℃から２４０℃の範囲の基板温度で前記第２下地層を成膜する。前記第１下地層は、例えばＣｏＷ、ＣｒＷ、ＣｒＴａ、ＣｒＭｏ、ＣｏＴａのうちの何れかの材料からなる。前記酸化性ガスとしては、例えば酸素ガス、二酸化炭素ガスである。また、前記第２下地層は、体心立方構造のＣｒ系合金からなる。 （もっと読む）

【課題】磁気ヘッドの腐食の発生を抑えることが可能な磁気ディスクを提供する。
【解決手段】面取部及び側壁部からなる端面と、主表面とを有する基板上に磁性層と保護層とを順次形成する磁気ディスクの製造方法であって、前記保護層の成膜時に、前記基板に対して所定のバイアスを印加することによって前記端面に保護層を形成する。 （もっと読む）

【課題】安定化層の粒成長を抑制するためにＣｏＣｒ系合金に微細孤立化促進材料を含有させることを可能にすることによって、低い媒体ノイズと小さな磁化遷移幅を示す磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】主表面上にテクスチャを形成したガラス基板１上に、少なくとも下地層３と、第１の磁性層４ａと、非磁性層４ｂと、第２の磁性層４ｃとを備える磁気記録媒体１０であって、基板円周方向に磁場を印加して測定した残留磁化をＭｒｃとし、基板半径方向に磁場を印加して測定した残留磁化をＭｒｒとしたとき、これらの比ＯＲ＝Ｍｒｃ／Ｍｒｒが１．５以上であって、かつ前記非磁性層４ｂよりも基板側の前記第１の磁性層４ａは、ＣｏＣｒ系合金に微細孤立化促進材料を含有したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】磁気ヘッドの腐食の発生を抑えることが可能な磁気ディスクを提供する。
【解決手段】ガラス基板１上に、シード層２、下地層３、磁性層４、保護層５、潤滑層６を順次積層してなる磁気ディスク１０であって、前記基板は面取部及び側壁部からなる端面と主表面とを有し、前記磁性層及び保護層が基板の主表面上及び端面上に形成されており、磁気ディスクを平面視したときの保護層の周辺部分が基板の端面上の磁性層を被覆しているとともに、前記端面に形成された保護層は被覆率が９５％以上で、主表面に形成された保護層の膜厚よりも厚く形成されていることにより、金属イオンの溶出量を２５μｇ／ｍ^２以下とした。 （もっと読む）

【課題】磁気ヘッドの腐食の発生を抑えることが可能な磁気ディスクを提供する。
【解決手段】ガラス基板１上に、シード層２、下地層３、磁性層４、保護層５、潤滑層６を順次積層してなる磁気ディスク１０であって、基板上に順次形成された磁性層と保護層とを含む薄膜を有する磁気ディスクであって、前記基板は、面取部及び側壁部からなる端面と主表面とを有し、前記端面の表面粗さRmaxが１μｍ以下であり、Raが０．１μｍ以下の鏡面であり、前記磁性層及び保護層が前記基板の主表面上及び端面上に形成され、かつ磁気ディスクを平面視したときの保護層の周辺部分が基板の端面上の磁性層を被覆しており、端面の保護層の膜厚が主表面の保護層の膜厚よりも厚い。 （もっと読む）