説明

株式会社日立ハイテクノロジーズにより出願された特許

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【課題】光ビーム照射装置から照射される光ビームの歪みを抑制して、描画精度を向上させる。
【解決手段】チャック10に第1の画像取得装置(CCDカメラ51)を設け、光ビーム照射装置20のヘッド部と第1の画像取得装置との間に、検査用パターンが設けられたレチクル2を配置する。検査用の描画データを光ビーム照射装置20の駆動回路へ供給し、第1の画像取得装置により、レチクル2の検査用パターン2aの画像及び光ビーム照射装置20から照射された光ビームの像2cを取得する。第1の画像取得装置により取得したレチクル2の検査用パターン2aの画像及び光ビームの像2cから、光ビームの位置ずれを検出して、光ビームの歪みを検出する。光ビームの歪みの検出結果に基づき、露光用の描画データの座標を補正して、光ビーム照射装置20の駆動回路へ供給する。 (もっと読む)


【課題】検査データから解析対象箇所を選択する場合、全体の中で重要性の高い欠陥が解析対象にならなかった。また、欠陥に対してマーキングを一定の位置で行うと、欠陥の形状や大きさにより、欠陥自体に影響を与え、後段の解析装置での解析に支障をきたすという問題があった。更に、ノンパターンウェーハの場合には、SEMで欠陥が見えない場合、マーキングができなかった。
【解決手段】重要性の高い欠陥が解析対象を選択するため、レビューSEMの自動分類結果を用いて、解析対象欠陥を選択する。また、欠陥自体に影響を与えないため、欠陥毎に距離を変えてマーキングを行う。このため、ADRまたはADCで欠陥の形状,サイズを認識して、影響範囲を考慮した距離を追加した距離にマーキングする。更に、SEMで観察できない欠陥の場合、光学顕微鏡での観察結果を用いてマーキングする。 (もっと読む)


【課題】状況に応じた印加電圧とすることで装置の信頼性を向上させる荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】前記課題を解決するために、本発明の荷電粒子線装置1は、試料ステージ25に静電チャック30によって保持された試料24に電子線16を照射し、試料24の画像を生成する荷電粒子線装置1であって、試料24を保持する際に、静電チャック30のチャック電極26に予め設定した初期電圧を印加するとともに、試料24が静電チャック30に正常に吸着したか否かを判定し、試料24が静電チャック30に正常に吸着していないと判定した場合は、試料24が静電チャック30に正常に吸着したと判定するまで、チャック電極26に印加する電圧を上昇させる静電チャック制御部13を備える。 (もっと読む)


【課題】少なくとも1つの回転駆動軸を用いた水平駆動機構による分注プローブの位置決めを自動かつ短時間で実現する。
【解決手段】分注プローブと、分注プローブの水平移動機構として少なくとも1つの回転駆動軸を有する分注プローブ駆動機構と、位置合わせの際に分注プローブが接触する部分が円形状に形成された位置決め部材と、分注プローブと位置決め部材の接触を検出する接触検出機構と、制御部とを有する自動分析装置を使用する。制御部は、1つの駆動軸のみを駆動制御して、位置決め部材の円形状の部分に接触させ、次に、先に駆動した軸以外で1つの駆動軸のみを駆動制御して、位置決め部材の円形状の部分に接触させる。その後、制御部は、接触が検出された各点の位置情報等に基づいて、分注プローブを位置決めする所望の位置の中心点の位置情報を算出する。 (もっと読む)


【課題】チタンを含有する金属化合物の膜を含むウエハを、フッ素を含有するガスを用いてエッチングするエッチング処理室をプラズマクリーニングするプラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】チタンを含有する金属化合物の膜を含むウエハ102を、エッチング処理室101内の試料台103に載置し、ガス導入部104からフッ素を含有するガスを導入してエッチング処理を行い、ClガスとCHFガスの混合ガス、または、ClガスとCHFガスとSiの混合ガスを用いて、エッチング処理室101内に蓄積されるフッ化チタン系反応生成物を除去するプラズマクリーニングを行う。 (もっと読む)


【課題】ウエハとマスクのように同等の回路パターンが形成されているが形状が異なる試料を一つの装置で検査することができる検査装置または検査方法を提供する。
【解決手段】検査装置が、形状が異なる複数の試料に対応した複数の搬送ホルダを備えることにより、同一試料室で異なる試料の検査を可能とする。更に、双方の試料に対する検査結果を照合する機能を備えることにより、欠陥と欠陥が生じる原因との関係を容易に解析できるようにする。 (もっと読む)


【課題】ウェハを外周で保持する機構では、ウェハが自重で撓む場合がある。そこで平面度を保持するためにウェハとウェハ下の保持台との間に空気を供給する方法がある。しかし、この方法では異物がウェハに付着する場合がある。
【解決手段】ウェハの平面度を保持するためにウェハ、及びウェハ下の保持台に負電圧をかける。この静電力によってウェハに上向きの力を与え、平面を保持する。また、この方法により負に帯電した異物の付着を防止する。 (もっと読む)


【課題】従来の太陽電池パネルの構造と異なり、軽量で生産コストが低廉で、しかも太陽電池パネルの大きさに対する設計自由度の高く耐風圧性能にも優れた太陽電池パネルを提供することである。
【解決手段】透明樹脂基材上に、単又は複数枚の太陽電池素子をウレタン樹脂によって封入し、透明樹脂基材側を受光面とすることを基本とし、ウレタン樹脂としてヒマシ油系ポリオールを含むものとすること、ウレタン樹脂としてヘキサメチレンジイソシアネートを含むものとすること、ウレタン樹脂として水素添加によって二重結合を含まない構造としたヒマシ油系ポリオールを含むものとすること、およびこれらを組み合わせること、また、少なくとも太陽電池素子の配列範囲内に、透明樹脂基材からウレタン樹脂までを貫通する複数の通気孔を設けた構造とすることである。 (もっと読む)


【課題】試料と試薬を混合し、混合液の経時的な変化を測定する自動分析装置の精度管理を実現する。
【解決手段】試料と試薬の反応過程から複数の測定点データを取得する。複数の測定点データを近似する近似式のパラメータと検査値を記憶部に蓄積する。記憶部に蓄積された所定数のパラメータ又は検査値に基づいて、パラメータ又は検査値に対応する参考データの分布図を作成する。次に、参考データの分布図に近似するように、複数の回帰関数を適用して得られる複数の回帰関数候補に対応する曲線を、分布図に個別に重ね合わせて示す画面を、表示画面上に複数並べて提示する。 (もっと読む)


【課題】
ステップ・アンド・リピート式の高解像度SEMを用いて予め定められた危険点を検査し、危険点での欠陥発生頻度を統計的かつ信頼性を持って推定する半導体デバイスの欠陥検査方法及びそのシステムを提供する。
【解決手段】
デザインデータ上で欠陥タイプ別に検査点を指定し、この指定された検査点の中から予め指定された数の検査点を欠陥タイプ別に選択し、この選択した欠陥タイプ別に予め指定された数の検査点を撮像してこの検査点における欠陥を検出し、欠陥タイプ別に撮像した検査点の数に対する検出した欠陥の数の比である欠陥比率とこの欠陥比率の信頼区間を算出し、この算出した欠陥タイプ別の欠陥比率の信頼区間と予め設定した基準値とを比較し、この基準値を超える欠陥発生比率をもつ欠陥タイプを求める半導体デバイスの欠陥検査方法及びそのシステムとした。 (もっと読む)


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