【課題】コストの増大を抑制しつつ現像不良の発生を防止することが可能な現像装置および現像方法を提供する。
【解決手段】まず、基板Ｗの回転速度が低い状態で、基板Ｗの中心部にリンス液が供給される。この場合、リンス液が表面張力によってほぼ一定の領域内で保持される。基板Ｗの回転速度が上昇すると、基板Ｗ上に保持されているリンス液に遠心力が働き、リンス液が基板Ｗの周縁部に向けて拡がろうとする。そのとき、基板Ｗの中心部に現像液が供給される。この場合、現像液がリンス液とともに基板Ｗ上の全体に瞬間的に拡がる。 （もっと読む）

【課題】コストの増大を抑制しつつ現像不良の発生を防止することが可能な現像装置および現像方法を提供する。
【解決手段】現像液ノズル２１が基板Ｗの中心部の上方に位置する状態で現像液の吐出を開始する。そして、現像液ノズル２１が現像液を吐出しつつ基板Ｗの中心部の上方から周縁部の上方まで移動する。これにより、基板Ｗ上の全体に十分に現像液が供給される。続いて、基板Ｗの回転速度が下降するとともに、現像液ノズル２１が現像液を吐出しつつ基板Ｗの周縁部の上方から中心部の上方まで移動する。この場合、基板Ｗの外方に振り切られる現像液の量が減少し、供給された現像液が基板Ｗ上で保持される。それにより、基板Ｗ上に現像液の液層が形成される。 （もっと読む）

【課題】インデクサ部における基板搬送の信頼性を高めることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１０はＩＤ部１と処理部３とを備え、ＩＤ部１は載置台８と搬送部９とを備えて処理部３に隣接している。搬送部９はカセットＣと処理部３とに対して基板Ｗを搬送する第１主搬送機構Ｔ_ＩＤＭと、第１主搬送機構Ｔ_ＩＤＭに替わってカセットＣと処理部３とに対して基板Ｗを搬送する第１予備搬送機構Ｔ_ＩＤＳと、を備えている。したがって、第１主搬送機構Ｔ_ＩＤＭの機能が低下した場合であっても第１主搬送機構Ｔ_ＩＤＭに替わって第１予備搬送機構Ｔ_ＩＤＳが基板搬送を行うことができる。よって、ＩＤ部１における基板搬送の信頼性が高く、処理部３を含む装置１０全体が安定して稼働することができる。 （もっと読む）

【課題】基板間で処理品質を均一にすることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】塗布ブロックＢ１には複数の塗布処理ユニット（ＲＥＳＩＳＴ、ＢＡＲＣ、ＴＡＲＣ）が設けられている。各塗布処理ユニットは、塗布する処理液の種類ごとに異なる高さ位置で互いに略上下方向に並べて配置される。また、処理液の種類が同じ塗布処理ユニット同士は略水平方向に並べて配置されている。このため、基板に行う処理品質を、処理液の種類が同じ各塗布処理ユニット間で互いに精度よく均一にすることができる。 （もっと読む）

【課題】ノズルからの処理液の落下による基板の欠陥の発生が防止された基板処理装置を提供することである。
【解決手段】現像液ノズル２１の上部に形成された現像液供給口２３から下方に延びるように現像液流路２１ａが形成されている。現像液流路２１ａの一端部から斜め上方に延びるように液貯留空間２１ｂが形成されている。液貯留空間２１ｂの上端部から各現像液吐出口２２に向かって下方に延びるように、５つの現像液流路２１ｃが形成されている。また、液貯留空間２１ｂから上方に延びるように液吸引路２４が形成されている。液吸引路２４には、吸引管２５を介して吸引装置ＳＤが接続されている。バルブＶ３を開くことにより、吸引装置ＳＤによって液貯留空間２１ｂ内の現像液が吸引される。 （もっと読む）

【課題】コストの増大を抑制しつつ現像不良の発生を防止することが可能な現像装置および現像方法を提供する。
【解決手段】液層形成工程の時点ｔ１〜ｔ４の期間において、基板上に現像液の液層が形成される。その後、基板の回転速度を一時的に低速の５０ｒｐｍに保持し、その後、基板の回転を停止する。このように、基板の回転の停止前に基板Ｗの回転速度を極めて低い状態で一時的に保持することにより、基板上に現像液の液層が薄く引き延ばされた状態を安定に維持しつつ基板の回転を停止することができる。 （もっと読む）

【課題】インターフェイス部における基板搬送の信頼性を高めることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１０は処理部３とＩＦ部５とを備え、ＩＦ部５は本装置１０とは別体の露光機ＥＸＰに隣接している。ＩＦ部５は、露光機ＥＸＰに対して基板Ｗを搬送する第２主搬送機構Ｔ_ＩＦＭと、第２主搬送機構Ｔ_ＩＦＭに替わって露光機ＥＸＰに対して基板Ｗを搬送する第２予備搬送機構Ｔ_ＩＦＳとを有する。したがって、第２主搬送機構Ｔ_ＩＦＭの機能が低下した場合であっても第２主搬送機構Ｔ_ＩＦＭに替わって第２予備搬送機構Ｔ_ＩＦＳが基板搬送を行うことができる。よって、ＩＦ部５における基板搬送の信頼性が高く、装置１０および露光機ＥＸＰを安定して稼働することができる。 （もっと読む）

【課題】露光装置内の真空度の低下および汚染を防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置５００のインターフェースブロック５には、脱ガスユニットＤＧが設けられる。エッジ露光部ＥＥＷによるエッジ露光処理後であって露光装置６による露光処理前に、脱ガスユニットＤＧにより基板の脱ガス処理が行われる。脱ガスユニットＤＧにおいては、チャンバ内に基板が収納された状態で、真空ポンプによりチャンバ内が減圧される。チャンバ内の圧力が十分に低くなることにより、エッジ露光処理時に生成された反応生成物が基板上のレジスト膜およびその下地膜（例えば反射防止膜）から気化して放出され、確実に除去される。 （もっと読む）

【課題】フットプリントを増加させることなくスループットを向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】インデクサブロック１０に隣接した位置に現像処理ブロック２０を配置する。現像処理ブロック２０には、現像処理部２２ａ，２２ｂがセンターロボットＣＲ２を挟んで対向して設けられる。また、現像処理部２２ａの下側には、４個の密着強化処理ユニットＡＨＬが配置された密着強化処理部２１が設けられる。この構成によると、現像処理ブロック２０以外の他の処理ブロックに密着強化処理部を設ける必要がなくなるので、処理時間が比較的長い処理を行う処理部（例えば、反射防止膜を塗布後の熱処理を行う熱処理ユニット）の個数をその分だけ増加させることができる。これによって、フットプリントを増加させることなく、スループットを効果的に向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】処理ユニットが搬送不能な異常状態においても、通常状態の場合と同様に基板に一連の処理を好適に行うことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】複数の種類別処理部（３１、４５、４６、４７）と、各種類別処理部に所定の順番で基板を搬送する主搬送機構と、主搬送機構を制御する制御部とを備えている。種類別処理部はそれぞれ任意の数の処理ユニット（ＨＰ_１、ＣＰａ_１、ＳＣ_１、ＣＰｂ_１）を有する。制御部は、通常状態では所定の搬送サイクル時間間隔で、順番が相前後する各種類別処理部間で基板を１枚ずつ搬送させる。また、少なくとも一の処理ユニットが搬送不能である異常状態では、通常状態であればその異常処理ユニットを経由して搬送される予定の基板の一連の搬送を中止するとともに、通常状態であれば異常処理ユニットを経由せずに搬送される予定の基板の搬送を予定通り行わせる。 （もっと読む）