説明

ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアにより出願された特許

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イソシアネートを、当該イソシアネートに対応するアミンとホスゲンとを不活性媒体の存在下又は非存在下で気相において反応させて製造する方法であって、
(a)気化器においてアミンを気化する工程と、
(b)アミンを過熱する工程と、
(c)気体アミンをホスゲンと混合し、反応領域に導入する工程と、
(d)反応領域においてアミンとホスゲンを反応させて、イソシアネートと塩化水素を含む反応混合物を生成することによりイソシアネートを得る工程と、
(e)イソシアネートと塩化水素を含む反応混合物を冷却する工程と、
を有し、
上記気化器は、熱伝達媒体を流す管を有する容器を含み、
上記管が少なくとも300m2/m3のアミン体積流量に対する特定熱伝達面積を有するように、該管の数及び径が形成されることを特徴とする製造方法。 (もっと読む)


研磨材として、水相中に微分散し且つ研磨されるべき表面上で金属及び/又は金属酸化物と相互作用でき且つ前記金属及び金属カチオンと錯体を形成できる複数の少なくとも1種の官能基(a1)をその表面上に有する少なくとも1種のポリマー粒子(A)を含む、水性研磨剤であって、前記ポリマー粒子(A)は、複数の官能基(a1)を有する少なくとも1種のオリゴマー又はポリマーの存在下で少なくとも1つのラジカル重合性二重結合を有する少なくとも1種のモノマーのエマルション重合又は懸濁重合によって製造される、水性研磨剤;少なくとも1種のオリゴマー又はポリマーのアミノトリアジン−ポリアミン縮合物の存在下で少なくとも1つのラジカル重合性二重結合を有する少なくとも1つのモノマーのエマルション重合又は懸濁重合によって製造される、グラフトコポリマー;及び前記水性研磨剤を使用してパターン形成された及び構造化されていない金属表面の化学機械研磨方法。 (もっと読む)


本発明は、触媒化された煤フィルターであって、フィルターの入口被覆部は、白金(Pt)及び任意にパラジウム(Pd)を含む酸化触媒を含み、フィルターの出口被覆部は、Pd及び任意にPtを含む酸化触媒を含み、出口被覆部のPt濃度は、入口被覆部のPt濃度よりも低く、及び出口被覆部中のPt:Pdの質量割合は、0:1〜2:1の範囲であり、及び入口被覆部及び出口被覆部は、壁流基材上に、0.5〜1.5の範囲の被覆積載割合で存在し、該被覆積載割合は、入口被覆部の積載量(in g/inch3(g/(2.54cm)3)):出口被覆部の積載量(in g/inch3(g/(2.54cm)3))の割合として計算される、触媒化された煤フィルターに関する。 (もっと読む)


軟質ポリウレタンフォームは、発泡剤の存在での、イソシアネート成分とイソシアネート反応性成分との反応生成物を含む。該イソシアネート成分は、ポリマージフェニルメタンジイソシアネート成分とモノマージフェニルメタンジイソシアネート成分とを含む。該モノマージフェニルメタンジイソシアネート成分は、2,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートと4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートとを含む。該イソシアネート反応性成分は、約700〜約20000の分子量と、実質的にエチレンオキシド基を含まない複数の末端キャップとを有するポリエーテルポリオールを含む。該軟質ポリウレタンフォームは、実質的に補助的な難燃添加剤を含んでおらず、かつカリフォルニア州技術告示117規定による燃焼試験下で難燃性を示す。 (もっと読む)


【課題】N−置換ラクタム中に不純物として存在するアミンの濃度を低下させるための経済的、選択的かつ効率的な方法を見いだす。
【解決手段】アミン汚染されたN−置換ラクタムのアミン含有率を低下させるにあたり、汚染されたN−置換ラクタムを酸性マクロ孔質カチオン交換体で処理する。 (もっと読む)


本発明は、ポリイソシアネート(i)及びポリイソシアネートに対して反応性の化合物に基づく熱可塑性ポリイソシアネート重付加生成物を、鎖延長剤、第1の触媒(iv)及び/又は助剤及び/又は添加剤(v)を使用して、又は使用することなく製造するための方法であって、第2の触媒(vi)が、最初に蒸気化され、そして次に凝縮によってポリイソシアネート重付加生成物に施されることを特徴とする方法に関し、及びこの方法から製造される生成物に関する。 (もっと読む)


ビルダー組成物は、キレート成分A)、ビルダー成分B)、ポリマー成分C)、及び場合によりアルカリ成分D)及び/又はリン含有成分E)を含む。キレート成分A)は、a1)メチルグリシン−N−N−二酢酸(MGDA)及び/又はそれらのアルカリ塩、並びに/又はa2)N,N−ビス(カルボキシメチル)−L−グルタメート(GLDA)及び/又はそれらのアルカリ塩、並びに/又はa3)エチレンジアミンテトラ酢酸(EDTA)及び/又はそれらのアルカリ塩を含む。ビルダー成分B)は、b1)金属ケイ酸塩、及び/又はb2)金属炭酸塩、及び/又はb3)金属クエン酸塩を含む。ポリマー成分C)は、c1)アクリル酸−マレイン酸コポリマー、及び/又はc2)ポリアクリル酸(PAA)を含んでよい。 (もっと読む)


水性ポリマーゲルを強制通風型ベルト式乾燥機内で連続コンベヤベルト上で乾燥させ、かつ該連続コンベヤベルトの表面が、該水性ポリマーゲルの横方向への移動を制限するのに好適な多数の凸部又は凹部を有している、吸水性ポリマー粒子の製造法。 (もっと読む)


本発明は、式(I)又は(II)の酸、例えば、相応するスルホニウム塩及びインドニウム塩ならびに相応するスルホニルオキシムを生成する化合物に属し、式(I)又は(II)中、XはCH2又はCOであり;YはO、NR4、S、O(CO)、O(CO)O、O(CO)NR4 、OSO2、O(CS)又はO(CS)NR4 であり;R1は、例えばC1〜C18−アルキル、C1〜C10−ハロアルキル、C2〜C12−アルケニル、C4〜C30−シクロアルケニル、フェニル−C1〜C3−アルキル、C3〜C30−シクロアルキル、C3〜C30−シクロアルキル−C1〜C18−アルキル、中断されているC2〜C18−アルキル、中断されているC〜C30−シクロアルキル、中断されているC〜C30−シクロアルキル−C1〜C18−アルキル、中断されているC4〜C30−シクロアルケニル、フェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリル、ビフェニリル、フルオレニル又はヘテロアリールであり、全て非置換であるか又は置換されている;又はR1は、NR1213であり;R2とR3は、例えば、C3〜C30−シクロアルキレン、C3〜C30−シクロアルキル−C1〜C18−アルキレン、C1〜C18−アルキレン、C1〜C10−ハロアルキレン、C2〜C12−アルケニレン、C4〜C30−シクロアルケニレン、フェニレン、ナフチレン、アントラシレン、フェナントリレン、ビフェニレン又はヘテロアリーレンであり;全て非置換であるか又は置換されている;R4は、例えばC3〜C30−シクロアルキル、C3〜C30−シクロアルキル−C1〜C18−アルキル、C1〜C18−アルキル、C1〜C10−ハロアルキル、C2〜C12−アルケニル、C4〜C30−シクロアルケニル、フェニル−C1〜C3−アルキルであり;R12とR13は、例えばC3〜C30−シクロアルキル、C3〜C30−シクロアルキル−C1〜C18−アルキル、C1〜C18−アルキル、C1〜C10−ハロアルキル、C2〜C12−アルケニル、C4〜C30−シクロアルケニル、フェニル−C1〜C3−アルキル、Ar、(CO)R15、(CO)OR15又はSO215であり;かつArは、フェニル、ビフェニリル、フルオレニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリル又はヘテロアリールであり、全て非置換であるか又は置換されている。
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レーザー光回析によって測定して1〜500nmの平均一次粒子径を有し且つその表面に化学的に結合された電子供与基(a2)を有する、無機粒子、有機粒子、及び無機−有機ハイブリッド粒子(a1)からなる群から選択される固体研磨粒子(A)を含有する研磨物品が提供される。前記固体研磨粒子(A)は、固体マトリックス(B)の全体にわたって又はその上面に又は全体にわたって及びその上面に分布されている。研磨物品の製造方法及び電子機器及び光学装置の製造に有用な基材の処理方法が提供される。前記方法は前記研磨物品を使用する。 (もっと読む)


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