金属層でコーティングされたミラーの表面の炭素質汚染を制御する方法であって、ミラー表面上に炭素質付着物を形成するための炭素の材料源および前記付着物と反応させるための反応物の材料源をミラーに供給する工程、ここで、前記反応は、還元的にまたは酸素以外のヘテロ原子の導入により行われて揮発性生成物を生成する反応である、および、ミラーを極端紫外線(EUV)に露光して反応を始動する工程を含む、前記方法。炭素材料源と反応物材料源との分圧比の制御は、ミラー表面上の汚染物のレベルを能動的に制御することを可能にする。
【化１】

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トルクを一方のシャフトから他方のシャフトに伝達するためのギアアセンブリーは、それぞれのシャフトに取り付けられた２つの噛み合ったギアを有する。ギアの一方は、シャフトの一方を受け入れるためのハブ部材と、ハブ部材と一緒に回転可能に取付けられた歯付環状部材と、を含む。ハブ部材と環状部材との間に設けられた少なくとも１つのばねは、ギアの少なくとも一方の偏心によりギアの回転中に誘発されるねじり振動及び騒音を減らすことのできる剛性を有する。
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電気膜デバイスにおける電解質溶液からイオン性不純物を除去するための装置が記載される。該装置は、陰極及び陽極の間に電解質溶液を再循環するための手段、及び電流の適用により、選択されたイオンを電解質溶液から別の流れに移動させるための手段を含む。
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凍結乾燥機は、長方形のスロット（１４）を有するチャンバ（１６）を有し、ガラス瓶が、スロットを通してチャンバに挿入され、凍結乾燥機は、スロットを閉じるためにチャンバについて密封を形成するためのスロットドア（１２）を更に有する。引き続いて、ガラス瓶をチャンバから取り出すことができるために、スロットドア（１２）を上昇させる。ドアを上昇させたら、ドアを回転させてクリーニングのためにドアの背面（５８）を露出させる。
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【課題】ぺルフルオロ化合物-含有ガス・ストリーム、例えば、半導体製造処理ツールから排出流動体ストリームを処理する方法を提供する。
【解決手段】一実施形態では、窒素又はアルゴンのような、イオン化ガスからプラズマを生成するためにプラズマ・トーチが用いられる。このプラズマは、水蒸気のストリーム及び排出流動体ストリームの両方を受け容れる、反応室の中に注入される。イオン化ストリームは、ぺルフルオロ化合物との反応のために加熱Ｈ⁺及びＯＨ^-イオンに水蒸気を分解する。ぺルフルオロ化合物-含有ガス・ストリームを処理する装置は、源ガスからプラズマを生成する手段と、反応室の中にプラズマを注入する手段と、反応室へガス・ストリームを運ぶ手段と、及びプラズマにＨ⁺及びＯＨ^-イオンの源を運ぶ手段とを備えている。 （もっと読む）

事前圧縮型の振動ダンパは、機器の真空排気の間におけるポンプによる前記機器への振動の伝達を抑制するために設けられる。 （もっと読む）

【課題】トリッピングのいかなる可能性もなしにシステムを過負荷状態で過渡期の間、意図的に作動することによって、排気システムの性能を向上させる。
【解決手段】排気機構６４と、排気機構６４を駆動するためのモータ３０と、モータ３０を制御するための変速駆動装置８と、モータ電流Ｉ_motorを監視するためのセンサーとを含む排気システムであって、システムの性能を向上させるために、変速駆動装置８は、モータ電流が所定の作動制限を超えることができる過負荷状態で過渡期の間システムを作動し、過負荷状態で作動するときに、変速駆動装置８は、モータ電流のレベルに応じてモータ３０への電力を制御し、モータ電流が作動制限を超えるのを回避する。 （もっと読む）

【課題】半導体又はフラットパネルディスプレイ製造アセンブリの真空チャンバのための圧力制御方法を提供する。
【解決手段】本発明は、チャンバをガス抜きするためのポンプと、チャンバ内へのガスの流入を可能にするための流量コントローラとを含む圧力制御システムを備えた真空システムのチャンバ内の圧力を所要圧力に設定する方法に関し、本方法は、圧力増加率を増大させるために、圧力が所要圧力を超過することを許さない過渡期間にわたって発生するチャンバに入る及び／又はそこから出る初期流量を所要圧力を超える圧力を達成するように設定する段階と、過渡期間が経過した後のチャンバに入る及び／又はそこから出る事前設定流量を所要圧力を達成して維持するように設定する段階とを含む。所要圧力を達成して維持するために、Ｉｐｅｒｉｏｄが経過する。 （もっと読む）

有機汚染物質分子センサ（１０）は、固体酸素アニオン導体（１２）と、監視される環境（１８）に露出するために導体の第１の表面に形成された測定電極（１４）と、参照環境（２０）に露出するために導体の第２の表面に形成された参照電極（１６）とを有する電気化学セルを含む。電極は、酸素の解離的吸収に対する触媒作用を及ぼすための材料から形成されるか、あるいは、その材料でコーティングされる。電極間の電位差を監視するための手段（３２）が提供され、監視される環境内に有機汚染物質分子がない場合には、電極間の電位差が基本値Ｖ_bをとり、監視される環境内に有機汚染物質分子が導入されたときには、電位差は監視される環境における有機汚染物質分子と酸素との反応により測定値Ｖ_mをとり、Ｖ_m−Ｖ_bは監視される環境内に導入された有機汚染物質分子の量を示す。
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ロードロック室を排気するための真空排気装置を説明する。ブースタポンプが、分子ドラッグ段と、多段遠心コンプレッサ機構とを有する。補助ポンプが、流体を大気圧で又は約大気圧で排気するための多段遠心コンプレッサ機構からなる。かかる装置は、在来のロードロック排気装置と関連した騒音、大きさ、及び振動レベルを下げることができる。
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