【課題】耐摩耗剤としてＺｎＤＴＰを含有しながらも、低摩擦摺動材料用の潤滑油として用いた際に低い摩擦係数を示す潤滑油組成物を提供すること。
【解決手段】潤滑油基油に、（Ａ）特定のアルカリ土類金属含有清浄剤、（Ｂ）特定のホウ素未含有コハク酸イミド系無灰分散剤、（Ｃ）ジアルキルジチオリン酸亜鉛および（Ｄ）特定の硫黄系化合物を配合してなる特定の潤滑油組成物であって、低摩擦摺動材料に用いられる潤滑油組成物である。 （もっと読む）

【課題】潤滑油を使わない、いわゆる無潤滑摺動のみならず、極圧剤を含まない潤滑油中での摺動においても、従来の硬質炭素膜を凌ぐ優れた摺動特性や高耐久性を有する硬質炭素膜とその形成方法を提供する。
【解決手段】Ｘ線散乱スペクトルにおいてグラファイト結晶ピークを持つ炭素層を膜内に有する硬質炭素膜。結晶径が１５〜１００ｎｍであるグラファイト結晶が含有され、重量密度ｄ（ｇ／ｃｍ^３）が１．８１≦ｄ＜２．００であり、炭素原子対密度が式１を満足する硬質炭素膜。
（５．０１×ｄ）×１０^２２＜Ｐ＜（９．６０×ｄ−３．９０）×１０^２２・・式１
但し、Ｐ：第１近接近傍における炭素原子対密度（ｐａｉｒｓ／ｃｍ^３）
ｄ：重量密度（ｇ／ｃｍ^３） （もっと読む）

【課題】従来に比べ、離型性、耐久性に優れた皮膜を提供すること。離型性、耐久性に優れた型を提供すること。
【解決手段】膜表面１０ａでＦ濃度が最大であり、膜裏面１０ｂでＦ濃度が最小であるＳｉ含有炭素膜１０とする。Ｆ濃度は、膜表面から膜裏面にかけて傾斜していることが好ましい。膜表面は、接着材料および／または粘着材料と接触させて好適に使用することができる。また、型表面にＳｉ含有炭素膜１０が積層された型とする。 （もっと読む）

【課題】内部への樹脂由来のガスの放散を抑制できる半導体用ケースを提供する。
【解決手段】少なくとも内側面が樹脂で構成され、レチクルまたはウェハを収容するケース本体と、内側面を被覆すると共に、内側面から樹脂に含まれる気化物質が放散することを防止するダイヤモンドライクカーボン膜とを備えた。 （もっと読む）

【課題】研磨装置用キャリアの基材へのＤＬＣ膜の密着性を良好にして、研磨装置用キャリア自身の寿命を長くすると同時に、被研磨物の表面に傷を付けないようにする研磨装置用キャリアを提供する。
【解決手段】樹脂を母材とする研磨装置用キャリア１の基材２のすべり面をプラズマに暴露した後、前記基材のすべり面にＤＬＣ膜３を形成することを特徴とする研磨装置用キャリア１の製造方法。前記樹脂が、ガラス繊維、アラミド繊維およびカーボン繊維から選択された１種以上の強化繊維を含有する繊維強化樹脂である研磨装置用キャリア１の製造方法。研磨布を貼り付けた上下研磨プレート間に前記製造方法により製造された研磨装置用キャリア１を配置し、研磨装置用キャリア１の開口部４に被研磨物を挟み込んで被研磨物を両面研磨する両面研磨方法。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れるとともに、耐酸化性に優れた耐熱耐酸化性炭素膜及びその形成方並びに耐熱耐酸化性炭素膜被覆物品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】(1) 炭素を主成分とし、シリコンを含有しており、表面層として酸化シリコン含有層を有する耐熱耐酸化性炭素膜Ｆ、(2) 該膜で被覆された耐熱耐酸化性炭素膜被覆物品Ｗ、(3) シリコン含有炭素膜ｆ１を形成する工程と、該工程で形成された炭素膜ｆ１の表面を酸化処理して、酸化シリコン含有層ｆ２を形成する工程とを含む耐熱耐酸化性炭素膜Ｆの形成方法及び(4) 耐熱耐酸化性炭素膜被覆対象物品を準備し、該物品の表面の少なくとも一部に(3) の方法により耐熱耐酸化性炭素膜Ｆを形成して耐熱耐酸化性炭素膜被覆物品Ｗを得る物品製造方法。 （もっと読む）

【課題】使用の当初の摩擦係数を低下させることにより、安定した摺動特性を長時間有する硬質炭素被膜を形成する製造方法を提供する。
【解決手段】炭化水素系ガスを用いたプラズマ気相合成法によって、アモルファス状の炭素膜又は水素化炭素膜からなり、その表面にＣ−Ｈｘ結合（ｘ＝１，２，３）を有する硬質炭素被膜を形成した基材に、真空中又は所定のガス雰囲気中で、１００〜４００℃で熱処理することにより、硬質炭素被膜表面のＣ−Ｈｘ結合（ｘ＝１，２，３）を減少させる表面処理を行う。 （もっと読む）

【課題】使用の当初の摩擦係数を低下させることにより、安定した摺動特性を長時間有する硬質炭素被膜を形成しようとするものである。
【解決手段】炭化水素系ガスを用いたプラズマ気相合成法によって硬質炭素被膜を形成した基材に、ガスプラズマによるボンバード処理によって表面処理を行う。 （もっと読む）

【課題】必要な箇所のみ効率的に被膜を実施できる燃料噴射弁の製造装置を提供する。
【解決手段】内部に弁装置３のノズルプレート６、バルブハウジング５を収容可能であり、被膜処理装置のアノード電極２３に対面して開口する複数の保持穴３５、３７を整列させて備える保持装置１６を設け、前記保持装置１６の複数の保持穴３５、３７に、弁装置３の燃焼室へ露出するノズルプレート６の表面６Ｃを、前記複数の保持穴３５、３７の開口から夫々露出させて、多数の弁装置３を保持装置１６により位置決めし、前記位置決めした多数の弁装置３とその保持装置１６とを被膜処理装置のカソード電極２５上に配置して、アノード電極２３に対面するノズルプレート６の表面６Ｃおよび噴射孔６Ａ内面にデポジット付着防止の被膜を形成するようにした。 （もっと読む）

【課題】膜形成した物品における該膜の物品本体への密着性を評価する膜密着性評価方法であって、物品の実使用における膜密着性を、スクラッチ試験やロックウエル圧痕試験による膜密着性評価方法より正確に知ることができる膜密着性評価方法を提供する。
【解決手段】膜形成した物品１における該膜１２の物品本体１１への密着性を評価する膜密着性評価方法。物品本体１１に形成された膜１２の表面にボール３１を荷重Ｗで押しつけつつ同一軌道に沿って相対的に転動周回させることでボール転動周回軌道に対応する膜部分に予め定めた回数繰り返し荷重を印加し、繰り返し荷重印加後の膜部分の状態を膜密着性指標と照合して膜密着性を評価する。評価を短時間で行うために、ボール３１に加える荷重Ｗは、物品本体１１の膜形成部分に塑性変形を生じさせる荷重としてもよい。 （もっと読む）