【課題】可視域から赤外域まで高反射率な光学特性を有するとともに、折り曲げても剥離を抑制できる密着性を有し、耐性が高く、スパッタリングによる成膜のための設備を簡易なものにすることができるＡｇリフレクタとその製造方法を提供する。
【解決手段】ステンレス基板と、その表面に設けられたＮｉＷ膜からなる密着層と、その表面に設けられたＡｇ膜からなる反射層と、その表面に設けられた第１のＩＴＯ膜と、その表面に設けられた第２のＩＴＯ膜と、その表面に順に設けられたＳｉＯ₂膜およびＮｂ₂Ｏ₅膜からなる増反射層とを備えることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】特に大口径石英ガラスルツボを用いてシリコン単結晶引上げを行う際、内表面の結晶化物質の剥離を抑制でき、石英ガラスルツボの変形を抑制できるとともに、毒性が低く、取扱いが容易な石英ガラスルツボとその製造方法およびシリコン単結晶の製造方法を提供する。
【解決手段】モリブデン含有物質を石英ガラスルツボの内表面および／または外表面の全部または一部に有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】内表面に点在的に発生する結晶化物質の剥離が生じることがなく、そして内表面全面に結晶層を形成した場合のように結晶層の一部が微小剥離してガス放出穴が形成されることがなく、また溶解シリコンが微小剥離によるガス放出穴から結晶層とその下のガラス層との間に入り込むこともなく、それにより高い歩留まりが得られるシリコン単結晶引き上げ用の石英ガラスルツボおよびそれを用いたシリコン単結晶の製造方法を提供する。
【解決手段】結晶化促進剤含有層を内表面に有し、シリコン単結晶の引き上げ時に、内表面に結晶化促進剤により斑状の結晶化領域５が形成される。 （もっと読む）

【課題】 タッチパネル、特に静電容量方式によるタッチパネルをＬＣＤなどの表示素子の上に装着した場合に、透明導電配線膜のパターンが目立つことにより見栄えが優れないなど視認性に課題があった。そこで本発明において、配線パターンを目立たなくステルス化し、しかも高透過率で低反射率の優れた光学特性を有する透明導電配線膜付き光学薄膜を提供すること。
【解決手段】 透明基板上に、ＩＴＯ等からなる透明導電膜から配線パターンを形成し、その上に、ＳｉＯ_２等の低屈折率誘電体材料からなる層と、Ｎｂ_２Ｏ_５等の高屈折率誘電体材料からなる層とを交互に所望の膜厚で積層することにより、それらの各層による光干渉効果により、配線パターンがステルス化し、ニュートラルな色調を併せて持ち、薄型軽量で、Ｓ／Ｎ比が十分に大きく取れる静電容量方式のタッチパネルを提供できる。
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【課題】装置を大型かつ複雑にすることなく、経済的課題を解消し、被成膜体表面に効率よく同時に均一な膜を成膜することができるスパッタリングカソード及びそれを用いたスパッタ装置を提供する。
【解決手段】スパッタリングカソード１１は、互いに極性が異なる一対のリング状磁石１２Ａ、１２Ｂ、リング状スパッタリングターゲット１５、磁気ヨーク１６、冷却ジャケット１４、グラファイトシート１７から構成される。スパッタリングカソード１１はスパッタ装置に設置され、内側にリング状のスパッタリングターゲット１５を収容した状態で、被成膜体をスパッタリングターゲット１５の内側に固定配置して、又は一定速度でリング軸方向に移動させながら、被成膜体に成膜を行う。 （もっと読む）

【課題】基板表面に対してターゲット表面を任意の角度で傾斜することができ、材料に適した傾斜角度を見出し、良質の薄膜を再現性良く作製し、生産に結びつけることができるスパッタ装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバ１１内に配置されたターゲット電極１２及び基板ホルダ１３と、ターゲット電極１２に保持されたターゲット１４と、基板ホルダ１３に保持された基板１５と、真空チャンバ１１の内外に跨り且つ軸線Ｏ１を中心として回転可能な導入パイプ１６と、導入パイプ１６の先端とターゲット電極１２とを接続すると共にターゲット１４を基板１５に対して傾斜状態で対向させるエルボパイプ１７と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】眼鏡装着時にレンズ後方や周辺の隙間から侵入し、レンズの内表面に反射して眼に入る紫外線を減ずる眼鏡用レンズを提供する。
【解決手段】レンズ基材１の内表面１ａに、λ＝２５０nm〜４１０nmを中心の波長とした反射防止膜２を成膜してなるものとしている。 （もっと読む）

【課題】耐候性、耐食性に優れたフレキシブル透明膜を簡易に形成することができる多層膜の形成方法及び多層膜を提供すること。
【解決手段】一つのスパッタリング用電極上に、異種成分からなる複数の素材を張り合わせて取り付け、前記複数の素材同士の境界の上方に分離板を設けておき、放電行いながら基板を前記ターゲット上を移動させて該基板上に多層膜を形成すること特徴とする多層膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】低抵抗な透明導電膜を得ることが可能で、低温における焼結において製造可能なＺｎＯ系ターゲットを提供すること。
【解決手段】Ｇａ_２Ｏ_３及び／又はＡｌ_２Ｏ_３を含むＺｎＯ系ターゲットにＢ_２Ｏ_３を０．４ｗｔ％以下含むことを特徴とするＺｎＯ系ターゲット。Ｇａ及び／又はＡｌを含むＺｎＯ粉体とＢ_２Ｏ_３粉体とを混合した後、８００〜１２００℃において仮焼成し、仮焼結体を粉砕後、粉砕された粉体をプレス成形し、次いで、９００〜１３００℃において焼結することを特徴とするＺｎＯ系ターゲットの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は従来の樹脂フィルムから成るプローブ基板における熱や湿度による伸縮とこれによる加圧接触用バンプのピッチ誤差を防止し、加えて同バンプの高さのバラツキを防止し、フラットディスプレイパネルの電極との健全なる加圧接触が行えるようにすると共に、上記加圧接触用バンプと電極とのアライメントが適切に実行できるようにしたフラットディスプレイパネル検査用プローブ基板を提供する。
【解決手段】プローブ基板６Ｄを透明なガラス製プレート６Ｃで形成し、該ガラス製プレート６Ｃの前端面１３に微細な凹凸１０を形成して半透光面にし、該透明ガラス製プローブ基板６Ｄの前端縁７とフラットディスプレイパネル２の側端縁とでオーバーラップ状態を形成し、上記半透光面の内側の透明なガラス製プレート前端縁７を透過してプローブ基板６Ｄの加圧接触用バンプ１４とフラットディスプレイパネルの電極とのアライメントを図る構成とした。 （もっと読む）