【課題】改良されたレベルセンサアレンジメント及びその動作を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置内の基板上の少なくとも１つの実質的な反射層表面の位置を測定するための方法、並びに、関連付けられたレベルセンサ及びリソグラフィ装置が開示される。該方法は、広帯域光源を使用して少なくとも２つの干渉計測定を実行することを含む。各測定間で、広帯域ソースビームの成分波長及び／又は成分波長全体にわたる強度レベルが変化し、強度レベルのみが変化する場合、強度変化はビームの成分波長の少なくとも一部について異なる。あるいは、成分波長及び／又は成分波長全体にわたる強度レベルが異なる測定データを取得するための単一の測定及び後続の測定の処理を、位置を取得するためにも同様に適用することができる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置のための変位測定システムを較正するための改善された方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置の可動物体の第１方向の変位を測定放射ビームおよびリフレクタを使って測定するように動作可能な干渉型変位測定システム。リフレクタは、実質的に平面的で、かつ第１方向に実質的に垂直である。較正は、可動物体の角位置の第１組の測定値を使って得られる。測定ビームの位相オフセットが影響を受ける。可動物体の角位置の第２組の測定値が得られる。干渉型変位測定システムは、第１および第２組の測定値に基づいて較正される。 （もっと読む）

【課題】測長結果から精度よくデッドパスの影響を排除するヘテロダインレーザー干渉測長器を提供する。
【解決手段】ヘテロダインレーザー光源１０からのビームを分岐させて測定ビームＢ１と参照ビームＢ２を生成する分岐器８０と、測定ビームＢ１及び参照ビームＢ２を分割する偏光ビームスプリッタ３０と、測定光路ＬＰ１，ＬＰ２に設けられる１／４波長板３１，３２と、可動測定物５０に固定され、測定ビームＢ１１，Ｂ１２が照射される測定ミラー３４１，３４２と、測定ミラー３４１，３４２近傍に配置され、参照ビームＢ２１，Ｂ２２が照射される反射ミラー４１１，４１２と、測定ミラー３４１，３４２の反射光を干渉させた光と反射ミラー４１１，４１２の反射光を干渉させた光に基づく２つのビート信号から変位を算出する演算回路７０を備え、分機器８０は測定ビームＢ１と参照ビームＢ２の光量比を連続的に変化させて調整する調整手段を有する。 （もっと読む）

【課題】参照面と被検面との間の距離の測定に有利な技術を提供する。
【解決手段】光源からの光を２つの光に分割して、一方の光を参照面に入射させ、他方の光を被検面に入射させ、前記参照面で反射された光と前記被検面で反射された光との干渉光を検出する検出部と、距離を求める処理を行う処理部、前記光源からの光の波長を固定しての干渉光である第１の信号と、前記光源からの光の波長を連続的に変更させながらの干渉光である第２の信号、前記第２の信号を周波数解析して前記第２の信号に含まれる周期誤差を算出し、前記第１の信号に含まれる周期誤差と前記第２の信号に含まれる周期誤差との対応関係を表すテーブルを用いて、前記算出された前記第２の信号に含まれる周期誤差に対応する前記第１の信号に含まれる周期誤差を特定し、前記第１の信号から前記特定された周期誤差を減算し、前記参照面と前記被検面との間の光路長に対応する位相を求める。 （もっと読む）

【課題】外乱の影響を受けにくい距離測定装置を提供する。
【解決手段】本発明を例示する距離測定装置の一態様は、光周波数コム光源（１１）が発振する光パルス信号（Ｓ）を光電変換して電気信号に変換する光電変換部（１２）と、前記光電変換部が生成する電気信号（Ｓ’）から、前記光パルス信号の複数種類のモード間ビート信号を分離して抽出する分離抽出手段（１３−１、１３−２、１３−３、１３−４）と、抽出された前記複数種類のモード間ビート信号の間の強度関係と、前記複数種類のモード間ビート信号の間の周波数関係とに基づき、前記光周波数コム光源から前記光電変換部までの距離（Ｄ）を算出する演算手段（１４）とを備える。 （もっと読む）

【課題】移動体の絶対位置を高い精度で求めること。
【解決手段】絶対位置測定装置は、移動体２に形成された２つの減圧空間部３，２３に個々に収容されて、中心波長が単一の光源を用いて移動体に光を照射して干渉信号を得る２つの干渉計６，２５と、２つの減圧空間部の少なくとも一方を減圧して、２つの減圧空間部を互いに異なる圧力にする真空ポンプ４及び真空排気流路５，２４と、２つの干渉計より得られる干渉信号の位相を検出する２つの位相検出器１７，３５と、２つの位相検出器で検出される位相を比較する位相比較器１９と、位相比較器１９における位相比較結果に応じて原点を設定する原点信号発生器２１と、原点信号発生器２１で設定される原点を基準として移動体の絶対位置を求める絶対位置算出器２２，３７とを備えている。 （もっと読む）

【課題】位置決め装置を初期化する際に、短時間で移動体の絶対位置測定が可能であり、なおかつ長時間に渡り安定した移動体の移動量測定が可能な光干渉測長装置を提供する。
【解決手段】移動体であるスライダ１０の移動量を測定する光干渉測長装置は、光を測定光と参照光に分離し、測定光を、スライダ１０に設置された測定ミラー９によって反射させ、参照光を参照ミラー８によって反射させる。測定ミラー９による測定光路の屈折率を、チャンバー２の内部の気圧を増減させることによって変化させ、屈折率の変化による干渉計の測長値の変化から、スライダ１０の絶対位置を測定する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線が照射される位置の安定性を容易に評価することができる変位検出回路を提供する。
【解決手段】ヘテロダイン干渉計と、該ヘテロダイン干渉計の基準信号と測定信号のそれぞれの光ビート回数をカウントするデジタルカウンタと、前記基準信号と前記測定信号との差分をとる減算器と、前記基準信号の波形の位相をシフトさせる位相シフト回路と、該位相シフト回路で位相シフトされた位相シフト信号の波形から特定の１つの信号波形を選択するスイッチ回路と、前記基準信号と前記測定信号との位相差を検出するゲートと、該ゲートの出力からヘテロダイン周波数の信号を取り除くローパスフィルタと、を構成とする。 （もっと読む）

【課題】位置精度性能が向上した、改善されたリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】基準構造に対してある方向に移動可能である支持部と、第１の周波数範囲内で上記方向における基準構造に対する支持部の位置を表す第１測定信号を提供するように構成される第１位置測定システムと、第２の周波数範囲内で上記方向における基準構造に対する支持部の位置を表す第２測定信号を提供するように構成される第２位置測定システムと、（ａ）第２周波数範囲内の周波数を有する信号成分を減衰させるように第１測定信号をフィルタリングし、（ｂ）第１周波数範囲内の周波数を有する信号成分を減衰させるように第２測定信号をフィルタリングし、（ｃ）フィルタリング後の第１測定信号とフィルタリング後の第２測定信号とを結合して、上記方向における基準構造に対する支持部の位置を表す結合測定信号を生成するように構成されるプロセッサと、を備える。 （もっと読む）

【課題】反射光を常に入射光と平行な方向へ効率よく戻すことができるレーザ反射体を提供すること。
【解決手段】レーザ光の光軸（Ｐ軸）上に設けられるレンズ５および球体４と、球体４の表面を覆いレーザ光を反射する被覆体１２と、これらを収納する筺体７を備えており、レーザ光をレンズ５と球体４で１点に集光させ、被覆体１２で反射させる。レンズ５の中心と焦点Ｆ_１をＰ軸上に配置して、球体４の中心を、レンズ５の中心と焦点Ｆ_１を結ぶ線上に配置する。被覆体１２は、焦点Ｆ_１に近い方の半球面上の領域で、半球面とＰ軸との交点Ｑ_１を少なくとも含む領域を覆う。レンズ５と球体４の中心間距離Ｓ_１、球体４の屈折率ｎ１を、レンズ５により焦点Ｆ_１に向けて集光されるレーザ光が球体４で屈折して被覆体１２で覆われた交点Ｑ_１に集光するように設定する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、試料室の熱変形に依らず、高精度にステージ位置を検出することが可能な試料ステージを備えた荷電粒子線装置の提供にある。
【解決手段】上記目的を達成するために、試料ステージの位置を検出するためのレーザ干渉計を備えた荷電粒子線装置において、前記レーザ干渉計は、レーザを放出する光源と、前記試料ステージに設置される計測光用ミラーと、前記光源が設置される前記荷電粒子線装置の試料室壁面と対向する壁面に設置される参照光用ミラーと、前記光源から放出されるレーザを、計測光と参照光とに分割するビームスプリッタとを備え、当該ビームスプリッタと前記計測光用ミラーとの間に、１／４λ波長板を備えていることを特徴とする荷電粒子線装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】測長結果から精度よくデッドパスの影響を排除するヘテロダインレーザー干渉測長器を提供する。
【解決手段】ヘテロダインレーザー光源１０からのビームを２本の物理的に離れた平行なレーザービームに分岐させて測定ビームＢ１と参照ビームＢ２を生成する分岐器８０と、測定ビームＢ１及び参照ビームＢ２を測定光路ＬＰ１，ＬＰ２に向けて分割する偏光ビームスプリッタ３０と、測定光路ＬＰ１，ＬＰ２に設けられる１／４波長板３１，３２と、可動測定物５０に仮想直線上にお互いの反射面を反対方向に向けて固定され、測定ビームＢ１１，Ｂ１２が照射される測定ミラー３４１，３４２と、測定ミラー３４１，３４２近傍に配置され、参照ビームＢ２１，Ｂ２２が照射される反射ミラー４１１，４１２と、測定ミラー３４１，３４２の反射光を干渉させた光と反射ミラー４１１，４１２の反射光を干渉させた光に基づく２つのビート信号から変位を算出する演算回路７０を備える。 （もっと読む）

【課題】レーザ干渉計システムの計測精度を向上させる。
【解決手段】基板ステージ装置には、基板Ｐが載置された微動ステージ２１の位置情報を計測するためのＸ干渉計６０Ｘから照射されるレーザビームＬ１、Ｌ２の光路の上方にエアガイド装置７０が設けられている。エアガイド装置７０は、Ｘ干渉計６０Ｘから照射されるレーザビームＬ１，Ｌ２の上方に沿って配置されたガイド部材７１の下面に気体を噴出し、その気体は、コアンダ効果によりガイド部材７１の下面に付着した状態で、高速でレーザビームに平行に流れる。そして、高速で流れる気体に光路近傍の気体がベルヌーイ効果により引き寄せられることにより、その光路近傍の空気ゆらぎが抑制される。 （もっと読む）

【課題】検出結果の誤差を低減することが可能な干渉計システム、ステージ装置及び露光装置を提供すること。
【解決手段】移動体の位置情報を検出する干渉計システムであって、光を射出する光源と、光を分光して射出する分光装置と、移動体に設けられ、分光された光を反射させる移動鏡と、移動鏡を介した光を受光する受光装置と、光が分光装置から射出され移動鏡に入射し当該移動鏡で反射された後に分光装置へ向かう所定の光路を形成する第１光学系と、当該光路を進行した光が分光装置に入射せずに当該光路の進行方向とは逆向きに当該光路を進行するように光を導光する第２光学系と、第２光学系を進行する光のうち所定成分を前記受光装置に入射させ、所定成分以外の成分を光路に入射させないように当該光を分光する第２分光装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】測定用干渉計の測定出力を補正用干渉計の測定出力を用いて補正する際に、屈折率分布の影響による補正誤差を低減し、測定精度の向上を図ること。
【解決手段】レーザ光の干渉を利用したレーザ干渉測長器１００が、移動体３３の変位によって測定出力を生じる測定用干渉計５１と、距離一定の基準間隔における空気屈折率変化によって測定出力を生じる補正用干渉計５２と、を備えている。演算処理装置６０は、空気屈折率変化の影響を補正した測定対象変位量を演算する。補正用干渉計５２から照射される補正用レーザ光は、測定用干渉計５１を透過することにより、測定用干渉計５１から照射される補正用レーザ光と同一光路を辿り、測定用レーザ光が通過した空気屈折率の変化に対応した干渉光となり演算処理装置６０に出射される。 （もっと読む）

【課題】ターゲットミラーの傾きにより生じるレーザ光のオーバーラップの影響を緩和して干渉計光軸調整範囲を広げることにより汎用的な製品を提供する。
【解決手段】レーザ光を分光し、分光したレーザ光の一方をターゲットミラーで反射させて前記分光した他方のレーザ光と干渉させ、干渉により生じた干渉縞を光検出器により電気信号に変換してターゲットミラーの変位を測定するレーザ干渉変位測定装置において、前記レーザ光としてパワー分布がほぼフラットなトップハットレーザを用いた。 （もっと読む）

【課題】アッベ誤差を解消できる位置決め装置を提供する。
【解決手段】スライダに搭載されたレーザ干渉計と、固定ミラーとを備え、前記レーザ干渉計と前記固定ミラーとの間で往復するレーザ光を用いてレーザ干渉に基づく測長を行うことで前記スライダを位置決めする位置決め装置である。前記レーザ干渉計から得られた直線偏光のレーザ光を折り曲げることで、そのレーザ光の光路を変更させるミラーと、前記ミラーを経由した前記レーザ光を円偏光のレーザ光に変換して前記固定ミラーに照射するλ／４板と、を備える。 （もっと読む）

【課題】測定対象となる物体の位置や姿勢を非接触で高精度に計測、制御する位置決め装置を提供する。
【解決手段】位置決め装置１は、参照光としての光周波数コムと測定光としての光周波数コムとを出射する光源１０と、光源１０から出射された測定光を測定対象４０に取り付けられた反射体４２に照射するヘッド部３０と、光源１０から出射された参照光が入射される参照面３１と、反射体４２で反射されヘッド部３０を介して戻された測定光と、参照面３１から戻された参照光との干渉光に基づく干渉信号を検出する検出部２０と、検出部２０により検出した干渉信号に基づいて参照面３１までの距離を基準にした反射体４２までの距離を求める信号処理部６０と、測定対象４０の位置を変化させるアクチュエータ５０と、信号処理部６０で求めた距離に応じてアクチュエータ５０を制御する制御部７０とを備える。 （もっと読む）

【課題】 干渉光の強度のピーク及びコントラストを最適化し、高速かつ高精度に被測定物の表面位置を測定できる測定装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、光源から出射され分岐された光のうちの、参照面で反射された参照光と被測定物の表面で反射された測定光とによる干渉光の強度に基づいて前記被測定物の表面位置を測定する測定装置であって、測定光の光量を検出する検出部と、参照光の光量と前記検出部により検出された測定光の光量とに基づいて算出される干渉光の強度が目標範囲に入るように前記光源の光量を制御する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 干渉計と波長補償器の出力をデジタル信号に変換するときの量子化誤差に起因する計測誤差を低減した位置計測装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 移動体の位置を計測する干渉計と、前記干渉計の計測光の光路における気体の状態に起因する前記計測光の波長変動を補償する波長補償器と、前記干渉計と前記波長補償器の出力に応じた位置計測値を出力する制御器と、を備える位置計測装置であって、前記制御器は前記干渉計および前記波長補償器の出力をデジタル信号に変換するアナログ／デジタル変換器を含み、前記波長補償器の出力をデジタル信号に変換するときの分解能が、前記干渉計の出力をデジタル信号に変換するときの分解能よりも高い。 （もっと読む）