移動体装置、露光装置、デバイス製造方法、及び移動体の位置情報計測方法
【課題】レーザ干渉計システムの計測精度を向上させる。
【解決手段】基板ステージ装置には、基板Ｐが載置された微動ステージ２１の位置情報を計測するためのＸ干渉計６０Ｘから照射されるレーザビームＬ１、Ｌ２の光路の上方にエアガイド装置７０が設けられている。エアガイド装置７０は、Ｘ干渉計６０Ｘから照射されるレーザビームＬ１，Ｌ２の上方に沿って配置されたガイド部材７１の下面に気体を噴出し、その気体は、コアンダ効果によりガイド部材７１の下面に付着した状態で、高速でレーザビームに平行に流れる。そして、高速で流れる気体に光路近傍の気体がベルヌーイ効果により引き寄せられることにより、その光路近傍の空気ゆらぎが抑制される。
【解決手段】基板ステージ装置には、基板Ｐが載置された微動ステージ２１の位置情報を計測するためのＸ干渉計６０Ｘから照射されるレーザビームＬ１、Ｌ２の光路の上方にエアガイド装置７０が設けられている。エアガイド装置７０は、Ｘ干渉計６０Ｘから照射されるレーザビームＬ１，Ｌ２の上方に沿って配置されたガイド部材７１の下面に気体を噴出し、その気体は、コアンダ効果によりガイド部材７１の下面に付着した状態で、高速でレーザビームに平行に流れる。そして、高速で流れる気体に光路近傍の気体がベルヌーイ効果により引き寄せられることにより、その光路近傍の空気ゆらぎが抑制される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、移動体装置、露光装置、デバイス製造方法、及び移動体の位置情報計測方法に係り、更に詳しくは、所定平面に平行な少なくとも一軸方向に移動可能な移動体を含む移動体装置、該移動体装置を含む露光装置、該露光装置を用いたデバイス製造方法、及び所定平面に平行な少なくとも一軸方向に移動可能な移動体の位置情報計測方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示素子、半導体素子（集積回路等）等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するリソグラフィ工程では、マスク又はレチクル（以下、「マスク」と総称する）と、ガラスプレート又はウエハ（以下、「基板」と総称する）とを所定の走査方向（スキャン方向）に沿って同期移動させつつ、マスクに形成されたパターンをエネルギビームを用いて基板上に転写するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが用いられている。
【０００３】
この種の露光装置は、基板を保持し、その基板をスキャン方向に案内する基板ステージを備えている。そして、基板ステージの位置情報は、レーザ干渉計を含む干渉計システムにより、基板ステージに設けられた反射面を用いて求められる（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
ここで、近年、露光装置の露光対象である基板は、より大型化される傾向にあり、これに伴いレーザ干渉計から照射される測長ビーム、及びその反射面からの反射ビームの光路長が長くなっている。そして、測長ビーム、及び反射ビームは、光路長が長くなると、そのビーム（レーザ光）を伝播させるための媒質（例えば、空気）の屈曲率変動（空気ゆらぎなどと称される）の影響をより受け易くなり、干渉計システムの計測精度が低下するおそれがある。このため、従来、レーザ光の光路に対して、例えば上方から空気を吹き付けることにより、空気ゆらぎの発生を抑制するなどの対策が講じられていた。
【０００５】
しかし、レーザ光の光路に大量の空気を吹き付けると、パーティクル（塵）が基板ステージ上の基板に付着することを避けるために、その大量の空気をフィルタなどを用いて濾過するなど、大掛かりな設備が必要であった。また、このような空調設備は、その設置スペースの確保が難しく、しかもコスト高になり、さらに振動や騒音が発生して露光装置の性能に悪影響を及ぼすおそれがあった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】米国特許第５，７２９，３３１号明細書
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上述の事情の下でなされたもので、第１の観点からすると、所定平面に平行な少なくとも一軸方向に移動可能な移動体と；前記移動体に設けられた反射面に前記一軸方向に平行な光路に沿って測長ビームを照射し、前記測長ビームの前記反射面からの反射ビームを受光して、前記移動体の前記一軸方向に関する位置情報を計測する位置計測系と；前記光路の近傍に前記光路に沿って配置され、前記光路近傍の気体をその表面に沿って案内するガイド部材と；を備える移動体装置である。
【０００８】
これによれば、移動体の一軸方向に関する位置情報が、位置計測系により計測される。そして、移動体に照射される測長ビーム（及びその反射ビーム）の光路近傍の気体が、ガイド部材により、その光路に沿って案内される。従って、その案内される気体の流れにより、上記光路上の気体のゆらぎが抑制され、移動体の位置情報を高精度で計測できる。
【０００９】
本発明は、第２の観点からすると、エネルギビームにより物体を露光する露光装置であって、前記物体が前記移動体上に載置される本発明の移動体装置と；前記物体にエネルギビームを照射して前記物体上にパターンを生成するパターン生成装置と；を備える露光装置である。
【００１０】
これによれば、本発明の移動体装置を用いて物体の位置制御を行うので、その物体上に高精度でパターンを生成できる。
【００１１】
本発明は、第３の観点からすると、本発明の露光装置を用いて前記物体を露光することと；前記露光された前記物体を現像することと；を含むデバイス製造方法である。
【００１２】
本発明は、第３の観点からすると、移動体を所定平面に平行な少なくとも一軸方向に移動させる工程と：前記移動体に設けられた反射面に前記一軸方向に平行な光路に沿って測長ビームを照射し、前記測長ビームの前記反射面からの反射ビームを受光して、前記移動体の前記一軸方向に関する位置情報を計測する工程と：前記光路の近傍に前記光路に沿って配置され、前記光路近傍の気体をその表面に沿って案内する工程と；を含む移動体の位置情報計測方法である。
【００１３】
これによれば、移動体の一軸方向に関する位置情報が、計測する工程により計測される。そして、案内する工程により、移動体に照射される測長ビーム（及びその反射ビーム）の光路近傍の気体が、その光路に沿って案内される。従って、その案内される気体の流れにより、上記光路上の気体のゆらぎが抑制され、移動体の位置情報を高精度で計測できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】第１の実施形態に係る液晶露光装置の概略構成を示す側面図である。
【図２】図１の液晶露光装置が有するエアガイド装置の拡大図である。
【図３】第２の実施形態に係る液晶露光装置が有するエアガイド装置の拡大図である。
【図４】第３の実施形態に係る液晶露光装置が有するエアガイド装置の拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
《第１の実施形態》
以下、本発明の第１の実施形態について、図１及び図２に基づいて説明する。
【００１６】
図１には、第１の実施形態に係る液晶露光装置１０の概略構成が示されている。液晶露光装置１０は、例えば液晶表示装置の表示パネルなどに用いられる矩形（角型）のガラス基板Ｐ（以下、単に基板Ｐと称する）を露光対象物とするステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。
【００１７】
液晶露光装置１０は、照明系ＩＯＰ、マスクＭを保持するマスクステージＭＳＴ、投影光学系ＰＬ、上記マスクステージＭＳＴ及び投影光学系ＰＬなどが搭載されたボディ３０、基板Ｐを保持する基板ステージ装置ＰＳＴ、及びこれらの制御系等を含んでいる。以下においては、露光時にマスクＭと基板Ｐとが投影光学系ＰＬに対してそれぞれ相対走査される方向をＸ軸方向とし、水平面内でこれに直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸及びＹ軸に直交する方向をＺ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。
【００１８】
照明系ＩＯＰは、例えば米国特許第５，７２９，３３１号明細書などに開示される照明系と同様に構成されている。すなわち、照明系ＩＯＰは、図示しない光源（例えば、水銀ランプ）から射出された光を、それぞれ図示しない反射鏡、ダイクロイックミラー、シャッター、波長選択フィルタ、各種レンズなどを介して、露光用照明光（照明光）ＩＬとしてマスクＭに照射する。照明光ＩＬとしては、例えばｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）などの光（あるいは、上記ｉ線、ｇ線、ｈ線の合成光）が用いられる。また、照明光ＩＬの波長は、波長選択フィルタにより、例えば要求される解像度に応じて適宜切り替えることが可能になっている。
【００１９】
マスクステージＭＳＴには、回路パターンなどがそのパターン面（図１における下面）に形成されたマスクＭが、例えば真空吸着（あるいは静電吸着）により固定されている。マスクステージＭＳＴは、後述するボディ３０の一部である鏡筒定盤３１の上面に固定されたマスクステージガイド３５上に、例えばエアベアリング３６を介して非接触状態（浮上した状態）で搭載されている。マスクステージＭＳＴは、例えばリニアモータを含むマスクステージ駆動系（図示省略）により、マスクステージガイド３５上で、走査方向（Ｘ軸方向）に所定のストロークで駆動されるとともに、Ｙ軸方向、及びθｚ方向にそれぞれ適宜微少駆動される。マスクステージＭＳＴのＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）は、マスクステージＭＳＴが有する不図示の反射面に測長ビームを照射するレーザ干渉計を含むマスク干渉計システム３７により計測される。
【００２０】
投影光学系ＰＬは、マスクステージＭＳＴの図１における下方において、鏡筒定盤３１に固定されている。投影光学系ＰＬは、例えば米国特許第５，７２９，３３１号明細書に開示された投影光学系と同様に構成されている。すなわち、投影光学系ＰＬは、レンズモジュールなどを含む光学系（鏡筒）を複数有し、その複数の光学系は、Ｙ軸方向に沿って、いわゆる千鳥状に配列されている（マルチレンズ投影光学系とも称される）。複数の光学系それぞれとしては、例えば両側テレセントリックな等倍系で正立正像を形成するものが用いられている。前述の照明系ＩＯＰは、複数の光学系に対応した複数の照明光ＩＬをそれぞれマスクＭに照射するように構成されている。このため、マスクＭ上には、千鳥状に配置された複数の照明光ＩＬの照明領域が形成されるとともに、投影光学系ＰＬの下方に配置された基板Ｐ上には、複数の光学系それぞれに対応して、千鳥状に配置された複数の照明光ＩＬの照射領域が形成される。液晶露光装置１０では、基板Ｐ上に形成される複数の照射領域が合成されることにより、千鳥状に配置された複数の光学系から成る投影光学系ＰＬが、Ｙ軸方向を長手方向とする単一の長方形状（帯状）のイメージフィールドを持つ投影光学系と同等に機能する。
【００２１】
このため、照明系ＩＯＰからの照明光ＩＬによってマスクＭ上の照明領域が照明されると、マスクＭを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬを介してその照明領域内のマスクＭの回路パターンの投影像（部分正立像）が、投影光学系ＰＬの像面側に配置される、表面にレジスト（感応剤）が塗布された基板Ｐ上の照明領域に共役な照明光ＩＬの照射領域（露光領域）に形成される。そして、マスクステージＭＳＴと基板ステージ装置ＰＳＴとの同期駆動によって、照明領域（照明光ＩＬ）に対してマスクＭを走査方向（Ｘ軸方向）に相対移動させるとともに、露光領域（照明光ＩＬ）に対して基板Ｐを走査方向（Ｘ軸方向）に相対移動させることで、基板Ｐ上の１つのショット領域（区画領域）の走査露光が行われ、そのショット領域にマスクＭのパターンが転写される。すなわち、本実施形態では照明系ＩＯＰ及び投影光学系ＰＬによって基板Ｐ上にマスクＭのパターンが生成され、照明光ＩＬによる基板Ｐ上の感応層（レジスト層）の露光によって基板Ｐ上にそのパターンが形成される。
【００２２】
ボディＢＤは、基板ステージ架台３２と、鏡筒定盤３１とを有している。鏡筒定盤３１は、ＸＹ平面に平行な平板状の部材から成り、前述したように投影光学系ＰＬを支持している。基板ステージ架台３２は、Ｙ軸方向に延びる部材から成り、Ｘ軸方向に所定間隔で、例えば２つ設けられている。なお、２つの基板ステージ架台３２のうち、−Ｘ側の基板ステージ架台３２は、後述する干渉計ベース３３を取り付けるためにＹ軸方向の中央部分が−Ｘ側に張り出している。２つの基板ステージ架台３２それぞれは、Ｙ軸方向の両端部が床面１１上に設置された複数の防振装置３４に下方から支持されており、床面１１に対して振動的に分離されている。２つの基板ステージ架台３２の＋Ｙ側の端部上、及び−Ｙ側の端部上には、それぞれサイドコラム（図示省略）が搭載され、鏡筒定盤３１は、そのサイドコラムによりＹ軸方向の両端部が下方から支持されている。これにより、ボディ３０、及びボディ３０に支持された投影光学系ＰＬなどが、床面１１に対して振動的に分離される。
【００２３】
基板ステージ装置ＰＳＴは、基板ステージ架台３２上に固定された定盤１２と、Ｘ粗動ステージ２３Ｘと、Ｘ粗動ステージ２３Ｘ上に搭載され、Ｘ粗動ステージ２３Ｘと共にＸＹ二次元ステージ装置を構成するＹ粗動ステージ２３Ｙと、Ｙ粗動ステージ２３Ｙの＋Ｚ側（上方）に配置された微動ステージ２１と、定盤１２上で微動ステージ２１を下方から支持する重量キャンセル装置４０と、微動ステージ２１の位置情報を計測するステージ位置計測系とを備えている。
【００２４】
定盤１２は、例えば石材により形成された平面視で（＋Ｚ側から見て）矩形の板状部材から成り、その上面は、平面度が非常に高く仕上げられている。定盤１２は、２つの基板ステージ架台３２上に架け渡された状態で搭載されている。
【００２５】
Ｘ粗動ステージ２３Ｘは、平面視矩形の外形形状を有する枠形の部材から成り、その中央部にＹ軸方向を長手方向とする長孔状の開口部が形成されている。Ｘ粗動ステージ２３Ｘは、Ｙ軸方向に関して定盤１２よりも長く形成されている。そして、Ｘ粗動ステージ２３Ｘは、＋Ｙ側の端部、及び−Ｙ側の端部が、それぞれ定盤１２の＋Ｙ側、および−Ｙ側に配置された一対のベースフレーム（図示省略）により下方から支持されている。不図示の一対のベースフレームは、２つの基板ステージ架台３２、および定盤１２それぞれに振動的に分離された状態（直接振動が伝達しない状態）で床面１１上に固定されている。従って、Ｘ粗動ステージ２３Ｘは、ボディ３０および定盤１２に対して振動的に分離されている。また、不図示の一対のベースフレームは、それぞれＸ粗動ステージ２３ＸをＸ軸方向に直進案内するためのＸリニアガイド部材、及びＸ粗動ステージ２３Ｘを駆動するためのＸリニアモータを構成するＸ固定子（例えば磁石ユニット）などを有している。
【００２６】
これに対し、Ｘ粗動ステージ２３Ｘは、それぞれ不図示ではあるが、上記Ｘリニアガイド部材にスライド可能に係合するスライダ、及びＸ固定子と共にＸリニアモータを構成するＸ可動子（例えばコイルユニット）を有している。Ｘ粗動ステージ２３Ｘは、Ｘリニアモータを含むＸ粗動ステージ駆動系により、不図示の一対のベースフレーム上でＸ軸方向に所定ストロークで直進駆動される。また、Ｘ粗動ステージ２３Ｘの上面には、複数のＹリニアガイド部材２８がＸ軸方向に所定間隔で固定されている。また、不図示ではあるが、Ｘ粗動ステージ２３Ｘの上面には、Ｙ粗動ステージ２３Ｙを駆動するためのＹリニアモータを構成するＹ固定子（例えば磁石ユニット）が固定されている。
【００２７】
Ｙ粗動ステージ２３Ｙは、Ｘ粗動ステージ２３ＸよりもＹ軸方向の寸法が短い平面視で矩形の外形形状を有する枠形の部材から成り、その中央部に開口部が形成されている。Ｙ粗動ステージ２３Ｙの下面には、上述したＹリニアガイド部材２８にスライド可能に係合する複数のスライド部材２９が固定されている。また、不図示ではあるが、Ｙ粗動ステージ２３Ｙの下面には、上述したＹ固定子と共にＹリニアモータを構成するＹ可動子（例えば、コイルユニット）が固定されている。Ｙ粗動ステージ２３Ｙは、Ｙリニアモータを含むＹ粗動ステージ駆動系により、Ｘ粗動ステージ２３Ｘ上でＹ軸方向に所定ストロークで駆動される。Ｘ粗動ステージ２３Ｘ、及びＹ粗動ステージ２３Ｙそれぞれの位置情報は、例えば不図示のリニアエンコーダシステムにより計測される。また、Ｘ粗動ステージ２３ＸとＹ粗動ステージ２３Ｙと間には、一対のケーブルキャリア装置２６を介してケーブルが架設されている。なお、Ｘ粗動ステージ２３Ｘ，Ｙ粗動ステージ２３ＹをそれぞれＸ軸方向、Ｙ軸方向に駆動する駆動方式は、例えば送りねじによる駆動方式、あるいはベルト駆動方式などの他の方式であっても良い。また、Ｘ粗動ステージ２３Ｘ、及びＹ粗動ステージ２３Ｙそれぞれの位置情報は、例えば光干渉計システムなどの他の計測方法により求めても良い。
【００２８】
微動ステージ２１は、平面視ほぼ正方形の高さの低い直方体状の部材から成り、その上面に基板ホルダ２７を介して基板Ｐを保持する。基板ホルダ２７は、例えば図示しない真空吸着装置（又は静電吸着装置）を有しており、その上面に基板Ｐを吸着保持する。微動ステージ２１の−Ｘの側面には、ミラーベース２４Ｘを介してＸ軸に直交する反射面を有するＸ移動鏡（バーミラー）２２Ｘが固定されている。また、不図示ではあるが、微動ステージ２１の−Ｙ側の側面には、ミラーベースを介してＹ軸に直交する反射面を有するＹ移動鏡（バーミラー）が固定されている。なお、ミラーベース２４Ｘ上には、Ｘ移動鏡２２Ｘの他に、例えば環境計測用の装置などが搭載されている。
【００２９】
微動ステージ２１は、Ｙ粗動ステージ２３Ｙに固定されたＸ固定子（例えば、コイルユニット）と、微動ステージ２１に固定されたＸ可動子（例えば、磁石ユニット）とを含むローレンツ電磁力駆動方式のＸボイスコイルモータ１８Ｘにより、Ｙ粗動ステージ２３Ｙ上でＸ軸方向に微少ストロークで駆動される。Ｘボイスコイルモータ１８Ｘは、不図示ではあるが、Ｙ軸方向に所定間隔で複数設けられている。また、不図示であるが、微動ステージ２１は、Ｙ粗動ステージ２３Ｙに固定されたＹ固定子と、微動ステージ２１に固定されたＹ可動子とを含むローレンツ電磁力駆動方式のＹボイスコイルモータにより、Ｙ粗動ステージ２３Ｙ上でＹ軸方向に微少ストロークで駆動される。Ｙボイスコイルモータは、Ｘ軸方向に所定間隔で複数設けられている。
【００３０】
また、微動ステージ２１は、Ｙ粗動ステージ２３Ｙに固定されたＺ固定子と、微動ステージ２１に固定されたＺ可動子とを含むローレンツ電磁力駆動方式のＺボイスコイルモータ１８Ｚにより、Ｙ粗動ステージ２３Ｙ上でＺ軸方向に微少ストロークで駆動される。Ｚボイスコイルモータ１８Ｚは、例えば微動ステージ２１の四隅部に対応する位置に配置されている。以上の構成により、微動ステージ２１は、投影光学系ＰＬ（図１参照）に対し、Ｙ粗動ステージ２３ＹとともにＸＹ２軸方向に長ストロークで移動（粗動）可能、且つ６自由度方向（Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θｘ、θｙ、θｚの各方向）に微少ストロークで移動（微動）可能となっている。また、微動ステージ２１は、その下面側に後述するレベリング装置５０と称される装置を有している
【００３１】
重量キャンセル装置４０は、Ｚ軸方向に延設された柱状の部材から成り、心柱とも称される。重量キャンセル装置４０は、Ｘ粗動ステージ２３Ｘの開口部内、及びＹ粗動ステージ２３Ｙの開口部内に挿入されている。重量キャンセル装置４０は、レベリング装置５０を介して微動ステージ２１の中央部を下方から支持している。重量キャンセル装置４０は、筐体４１、空気ばね４２、及びＺスライダ４３を有している。
【００３２】
筐体４１は、Ｚ軸方向に開口する有底の筒状部材から成る。筐体４１の底面には、気体静圧軸受の一種である複数のエアベアリング４４が取り付けられている。重量キャンセル装置４０は、複数のエアベアリング４４（ベースパッドとも称される）により、定盤１２上に非接触（浮上）状態で載置されている。また、筐体４１は、板ばね（あるいは、ばね性を有しない薄い鋼板）を含む複数の連結装置４５（フレクシャ装置とも称される）によりＹ粗動ステージ２３Ｙに機械的に接続されている。連結装置４５は、筐体４１の＋Ｘ側、−Ｘ側，＋Ｙ側，及び−Ｙ側それぞれに設けられ、筐体４１とＹ粗動ステージ２３Ｙとを、重量キャンセル装置４０のＺ軸方向に関する重心付近の高さ位置（重心高さ）で接続している（ただし、筐体４１の＋Ｙ側及び−Ｙ側の連結装置４５は図示省略）。筐体４１は、Ｙ粗動ステージ２３Ｙに連結装置４５を介して牽引されることにより、Ｙ粗動ステージ２３Ｙと一体的にＸ軸方向、及び／又はＹ軸方向に、水平面に平行に定盤上１２を移動する。
【００３３】
空気ばね４２は、筐体４１内の最下部に収容されている。空気ばね４２の内部は、図示しない気体供給装置（例えば、コンプレッサ）から圧縮気体（例えば、空気）が供給されることにより、外部に比べて圧力の高い陽圧空間となっている。重量キャンセル装置４０は、空気ばね４２が発生する上向き（＋Ｚ方向）の力で、その支持対象物、具体的には、Ｚスライダ４３、微動ステージ２１（レベリング装置５０を含む）、基板ホルダ２７、基板Ｐなどから成る系の重量（重力加速度による下向き（−Ｚ方向）の力）を打ち消すことにより、上述した複数のＺボイスコイルモータ１８Ｚの負荷を低減する。
【００３４】
Ｚスライダ４３は、筐体４１の内部に収容された筒状の部材から成り、空気バネ４２上に載置されている。重量キャンセル装置４０は、Ｚボイスコイルモータ１８Ｚにより駆動される微動ステージ２１のＺ軸方向に関する位置（Ｚ位置）に応じて、適宜空気バネ４２の内圧を変化させることにより、スライド部４３を上下動させる。なお、空気ばね４２のばね定数が小さい場合には、Ｚスライダ４３の位置変化による発生力の変化も小さいので、空気ばね４２の内圧を変化させなくても良い。
【００３５】
レベリング装置５０は、Ｚスライダ４３の上部に取り付けられた不図示のエアベアリングにより下方から浮上支持されている。レベリング装置５０は、例えばボールなどの転動体を含み、これにより微動ステージ２１が重量キャンセル装置４０にＸＹ平面に対して揺動自在に支持される。
【００３６】
微動ステージ２１の重量キャンセル装置４０に対するＺ軸方向、θｘ、θｙ方向それぞれの位置情報（Ｚ軸方向の移動量、及び水平面に対するチルト量）は、微動ステージ２１の下面に固定された複数のレーザ変位センサ４６（Ｚセンサとも称される）により、重量キャンセル装置４０の筐体４１にアーム部材を介して固定されたターゲット４７を用いて求められる。
【００３７】
ここで、ボディ３０，基板ステージ装置ＰＳＴなどを含み、本実施形態の液晶露光装置１０は、不図示のチャンバ内に収容されている。そして、液晶露光装置１０は、チャンバ内の温度、湿度、大気圧などを制御する全体空調システムを有している。全体空調システムは、温度、湿度、気圧などが適宜調整され、かつＨＥＰＡ（High Efficiency Particle Air）フィルタなどを用いて塵が除去された空気をチャンバ内で送風することにより、温度変化に起因する装置の変形を抑制したり、塵の基板Ｐへの付着を防止したり、干渉計システムの光路上の空気ゆらぎの発生を抑制する。本実施形態の全体空調システムは、基板ステージ装置ＰＳＴの近傍において、−Ｘ側から＋Ｘ側に向けて温度などが調整された空気を送風している。なお、本明細書において、空気ゆらぎとは、空気の屈折率変動を意味し、例えば温度、気圧、水蒸気圧、ＣＯ２濃度などの変化により発生する。
【００３８】
次に、微動ステージ２１のＸＹ平面内の位置情報を計測するためのステージ位置計測系の構成について説明する。微動ステージ２１のＸＹ平面内の位置情報は、Ｘ移動鏡２２Ｘ、及びＹ移動鏡（図示省略）それぞれに測長ビームを照射し、その反射光を受光するレーザ干渉計を含む基板干渉計システムによって、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出されている。レーザ干渉計システムは、Ｘ移動鏡２２Ｘ、及びＹ移動鏡それぞれに対応したＸレーザ干渉計６０Ｘ、及び不図示のＹレーザ干渉計を有している。なお、不図示のＹレーザ干渉計は、鏡筒定盤３１、あるいはボディ３０を構成する不図示のサイドコラムに固定されている。
【００３９】
Ｘレーザ干渉計６０Ｘは、−Ｘ側の基板ステージ架台３２上に一体的に固定された干渉計ベース３３に固定されている。干渉計ベース３３は、Ｙ軸方向から見た側面視でＬ字状の部材から成る。Ｘレーザ干渉計６０Ｘは、投影光学系ＰＬの一部（例えば筐体）に固定されたＸ固定鏡６１にＸ軸に平行なレーザビームＬ１（以下、参照ビームＬ１と称する）を照射するとともに、Ｘ移動鏡２２Ｘに別のＸ軸に平行なレーザビームＬ２（以下、測長ビームＬ２と称する）を照射する。また、Ｘレーザ干渉計６０Ｘは、参照ビームＬ１のＸ固定鏡６１からの反射ビーム、及び測長ビームＬ２のＸ移動鏡２２Ｘからの反射ビームの干渉に基づいて、Ｘ固定鏡６１のＸ軸方向の位置（Ｘ位置）を基準とするＸ移動鏡２２Ｘの反射面上における測長ビームＬ１の照射点のＸ位置を求める。Ｘレーザ干渉計６０ＸからＸ固定鏡６１に照射される参照ビームＬ１、及びそのＸ固定鏡６１からの反射ビームの光路は、Ｘレーザ干渉計６０ＸからＸ移動鏡２２Ｘに照射される測長ビームＬ２、及びそのＸ移動鏡２２Ｘからの反射ビームの光路よりも＋Ｚ側に設定されている。以下、参照ビームＬ１及びその反射ビーム、並びに測長ビームＬ２及びその反射ビームを、適宜まとめて測長用ビームと称して説明する。
【００４０】
また、ステージ位置計測系は、上述した参照ビームＬ１、及び測長ビームＬ２の光路近傍の空気をその光路とほぼ平行な方向（すなわちＸ軸方向）に案内するエアガイド装置７０を有している。エアガイド装置７０は、図２に示されるように、ガイド部材７１、ノズルユニット７２、及びノズルユニット７２に加圧気体（例えば空気）を供給する不図示の加圧気体供給装置（例えばコンプレッサ）を含む。
【００４１】
ガイド部材７１は、Ｘ軸方向に延びる矩形（帯状）の板状部材から成り、参照ビームＬ２（及びその反射ビーム）の光路の上方で鏡筒定盤３１の下面に固定部材７３を介して吊り下げ固定されている。ガイド部材７１の下面は、ＸＹ平面にほぼ平行とされ、そのガイド部材７１の下面に沿って流れる空気の流れを乱さない程度に滑らかに（空気を乱さないような表面荒さで）仕上げられている。ガイド部材７１は、例えばステンレス鋼により形成されている。ガイド部材７１は、＋Ｘ側の端部がＸ固定鏡６１の上方に位置し、−Ｘ側の端部がＸレーザ干渉計６０Ｘの上方に位置している。すなわち、ガイド部材７１は、参照ビームＬ１の光路のほぼ全域をカバーしている。なお、ガイド部材７１は、参照ビームＬ１及び測長ビームＬ２の光路をカバーできれば良いので、その幅方向の寸法（Ｙ軸方向の寸法）は、数ｃｍ程度に設定されている。
【００４２】
ノズルユニット７２は、Ｘレーザ干渉計６０Ｘの上方に配置され、ガイド部材７１の−Ｘ側の端部に接続されている。なお、図１及び図２では、ガイド部材７１とノズルユニット７２とが一体の部材として図示されているが、ガイド部材７１とノズルユニット７２とは一体の部材でも別部材でも良い。ノズルユニット７２は、Ｙ軸方向を長手方向とする長方形（矩形）断面のノズル孔を有している。ノズル孔のアスペクト比（高さとノズル孔の幅との比率）は、例えば１：５〜２００程度に設定されている。ノズルユニット７２は、不図示の加圧気体供給装置から供給される加圧気体（例えば、ＨＥＰＡフィルタなどを介して塵が除去された圧縮エア）をノズル孔からガイド部材７１の下方に噴出する。
【００４３】
ここで、ノズルユニット７２は、加圧気体を水平面に対して斜め下方、具体的には、Ｘ軸に対して、例えば３０°程度の角度を成す方向に噴出するように設けられている。不図示の加圧気体供給装置から供給される加圧気体の速度は、特に限定されないが、上述した全体空調システムが流す気体の速度よりも高速であることが好ましく、本実施形態では、例えば１〜１０ｍ／ｓ程度に設定されている。
【００４４】
ここで、ガイド部材７１は、−Ｘ側の端部近傍（すなわち、ノズルユニット７２との接続部近傍）に、その下面が下方（−Ｚ方向）にＸＺ断面の輪郭が円弧状となるように張り出して（ガイド部材７１の下面が−Ｚ側に張り出した円筒面となるように）形成された張り出し部７４を有している。そして、ノズルユニット７２のノズル孔を規定する壁面のうち、＋Ｚ側の壁面は、張り出し部７４の下面と連続面を形成している。
【００４５】
次に、エアガイド装置７０の動作について説明する。エアガイド装置７０では、ノズルユニット７２から加圧気体が噴出されると、Ｘレーザ干渉計６０から照射されるレーザビーム（参照ビームＬ１、及び測長ビームＬ２、並びにそれらの反射ビーム）の光路とガイド部材７１の下面（張り出し部７４の下面を含む）との間であって、ノズルユニット７２の吐出口の近傍に低圧渦Ｓが発生する。そして、ノズルユニット７２から噴出された加圧気体（噴流）は、ガイド部材７１の下面近傍における低圧渦Ｓの発生に伴う効果（コアンダ効果）により、ガイド部材７１の下面に付着し、そのガイド部材７１の下面に沿って＋Ｚ方向に案内される（図２の矢印Ｆ１参照）。
【００４６】
そして、ガイド部材７１の下面に沿ってノズルユニット７２から噴出された気体（噴流）が高速で流れると、ベルヌーイ効果によりＸレーザ干渉計６０から照射されるレーザビーム（参照ビームＬ１、及び測長ビームＬ２、並びにそれらの反射ビーム）の光路を含む空間の気体（ほぼ大気圧）が、高速で流れる噴流（比較的低圧）側に引き寄せられ（図２の矢印Ｆ２参照）、その噴流と共に＋Ｘ方向に流れる。これにより、Ｘレーザ干渉計６０から照射されるレーザ光の光路を含む空間の気体が常時入れ替わり、空気ゆらぎの発生が抑制される。なお、ガイド部材７１の下面に案内された気体は、例えばＸ固定鏡６１の近傍でダクトなどを用いて回収しても良いし、全体空調システムにより生成される気流と共に、その気流の下流側（＋Ｘ方向）に流しても良い。
【００４７】
上述のようにして構成された液晶露光装置１０（図１参照）では、不図示の主制御装置の管理の下、不図示のマスクローダによって、マスクステージＭＳＴ上へのマスクＭのロード、及び不図示の基板ローダによって、基板ステージ装置ＰＳＴ上への基板Ｐのロードが行なわれる。その後、主制御装置により、不図示のアライメント検出系を用いてアライメント計測が実行され、アライメント計測の終了後、ステップ・アンド・スキャン方式の露光動作が行なわれる。なお、この露光動作は従来から行われているステップ・アンド・スキャン方式と同様であるので、その詳細な説明は省略するものとする。そして、上記基板Ｐのロード、アライメント計測、露光動作などが行わせる際、基板Ｐを保持する微動ステージ２１は、Ｘレーザ干渉計６０Ｘを含む干渉計システムの出力に基づいて位置制御がされる。
【００４８】
以上説明したように、本実施形態の液晶露光装置１０が有するステージ位置計測系のレーザ干渉計システムでは、エアガイド装置７０が測長用レーザビームの光路の上方に生成する高速の気体の流れにより、そのレーザ光の光路を含む雰囲気の空気ゆらぎの発生が抑制される。従って、レーザ干渉計システムの位置情報計測精度の低下を抑制でき、基板Ｐの位置を高精度で制御すること、すなわち、マスクパターンを高精度で基板Ｐ上に転写することができる。
【００４９】
また、本実施形態のエアガイド装置７０は、測長用レーザビームの光路に沿って配置された板状部材から成るガイド部材７１により、ノズルユニット７２から噴出された気体を案内する構成（すなわちダクトなどの管路を用いない構成）であるので、微動ステージ２１の位置に関わらず（レーザビームの光路長が変化しても）、その光路の全域において容易に空気ゆらぎの発生を抑制できる。
【００５０】
また、ガイド部材７１は、ノズルユニット７２の吐出口の近傍に張り出し部７４を有し、その張り出し部７４（−Ｚ側に膨らんだ部分）と他の部分（ＸＹ平面に平行な部分）との間に段差（窪み）が形成されているので、その段差部分で低圧渦が発生し易くなっている。従って、容易にノズルユニット７２から供給される噴流をガイド部材７１の下面に付着させることができる。
【００５１】
また、エアガイド装置７０は、板状部材からなるガイド部材７１に沿って高速の噴流を流す簡単な構成であるから、例えば測長用ビームの光路に沿って複数の気体噴出部（あるいは気体吸引部）を設け、その光路上に直接気体を噴出（あるいは吸引）する場合に比べ、設置が容易であり、かつコストもかからない。また、ノズルユニット７２から噴出する加圧気体の風量も少量で良いので、風量を節約できて経済的であり、かつ振動、騒音の発生を抑制できる。
【００５２】
また、ノズルユニット７２は、矩形断面のノズル孔を有しているため、その吐出口の近傍で低圧渦Ｓが発生し易い。
【００５３】
《第２の実施形態》
次に、本発明の第２の実施形態に係る液晶露光装置について説明する。第２の実施形態の液晶露光装置は、上記第１の実施形態と比べ、エアガイド装置の構成が異なるのみなので、以下、エアガイド装置の構成について、図３を用いて説明する。第２の実施形態に係るエアガイド装置１７０は、上記第１の実施形態と比べ、Ｘレーザ干渉計６０ＸからＸ固定鏡６１に照射される参照ビームＬ１、及びその反射ビームがガイド部材１７１に形成された管路内を通過する点が異なる。なお、説明の簡略化及び図示の便宜上から、上記第１の実施形態と同様の構成を有するものについては、上記第１の実施形態と同じ符号を付して、その説明を省略する。
【００５４】
エアガイド装置１７０は、ガイド部材１７１、ノズルユニット１７２、及びノズルユニット１７２に加圧気体を供給する不図示の加圧気体供給装置（例えばコンプレッサ）を含む。ガイド部材１７１は、参照光Ｌ１（及びその反射ビーム）を通過させるための貫通孔１７５が形成されている点、及びノズルユニット１７２が−Ｘ側の端部に内蔵されている点を除き、上記第１の実施形態に係るガイド部材７１（図２参照）と同様の部材から成る。
【００５５】
貫通孔１７５は、Ｘ軸に平行に形成され、ガイド部材１７１の＋Ｘ側、及び−Ｘ側の端部それぞれに開口している。貫通孔１７５の断面形状は、特に限定されない。このように、第２の実施形態に係るエアガイド装置１７０では、参照ビームＬ１及びその反射光が基板ステージ装置ＰＳＴ（図１参照）の周辺雰囲気から隔離された専用の管路内を通過する。従って、空気ゆらぎの影響を受けにくい。
【００５６】
ノズルユニット１７２は、ガイド部材１７１内に一端が設けられ、他端が不図示の気体供給装置に接続された気体供給配管１７６と、その気体供給配管１７６から分岐して設けられたノズル１７７ａ、１７７ｂとを含む。気体供給配管１７６は、Ｙ軸に平行に配置されている。ノズル１７７ａは、加圧気体を水平面に対して斜め下方、具体的にはＸ軸に対して、例えば３０°程度の角度を成す方向に噴出することにより、ガイド部材１７１の下面側に加圧気体を供給する。ノズル１７７ａから噴出される加圧気体の作用、及び効果（空気ゆらぎの発生の抑制）については、上記第１の実施形態と同じなので、説明を省略する。なお、ガイド部材１７１の下面におけるノズル１７７ａの吐出口近傍には、上記第１の実施形態と同様に、低圧渦Ｓを発生し易くするための張り出し部１７４が形成されている。
【００５７】
また、ノズル１７７ｂは、加圧気体を水平面に対して斜め上方、具体的にはＸ軸に対して、例えば４５°程度の角度を成す方向に噴出させることにより、貫通孔１７５の内部に気体を供給させる。貫通孔１７５内に噴出された加圧気体は、貫通孔１７５内を＋Ｘ方向に進行し、ガイド部材１７１の＋Ｘ側の端部に形成される開口部から排出される。このように、本第２の実施形態では、微動ステージ２１の位置に関わらず光路長が変化しない参照ビームＬ１（及びその反射光）が通過する貫通孔内１７５内に加圧気体を噴出するので、貫通孔１７５内の空気ゆらぎが抑制される。
【００５８】
《第３の実施形態》
次に、本発明の第３の実施形態に係る液晶露光装置について説明する。第３の実施形態の液晶露光装置は、上記第２の実施形態と比べ、エアガイド装置の構成が異なるのみなので、以下、エアガイド装置の構成について、図４を用いて説明する。なお、説明の簡略化及び図示の便宜上から、上記第１及び第２の実施形態と同様の構成を有するものについては、上記第１及び第２の実施形態と同じ符号を付して、その説明を省略する。
【００５９】
第３の実施形態に係るエアガイド装置２７０は、Ｘ軸方向に沿って２つのノズルユニット１７２ａ、１７２ｂを有している。ノズルユニット１７２ａ、１７２ｂそれぞれの構成は、上記第２の実施形態に係るエアガイド装置１７０（図３参照）のノズルユニット１７２の構成と同じである。ノズルユニット１７２ｂは、ガイド部材１７１の長手方向のほぼ中央部に設けられている。
【００６０】
また、ガイド部材２７１の下面におけるノズルユニット１７２ａ、１７２ｂそれぞれの吐出口近傍には、低圧渦Ｓを発生し易くするための窪み２７４ａ、２７４ｂが形成されている。これにより、ノズルユニット１７２ａ、１７２ｂから噴出された気体は、それぞれガイド部材２７１の下面に付着した状態で高速で＋Ｘ方向に流れ、測長ビームＬ２（及びその反射光）の光路を含む空間の気体がガイド部材２７１の下面側に引き寄せられる。
【００６１】
本第３の実施形態に係るエアガイド装置２７０では、測長ビームＬ２（及びその反射ビーム）の光路の途中に加圧気体の吐出口を設けたので、ガイド部材２７１の下面に沿って流れる気体の速度低下を抑制できる。従って、確実に測長ビームＬ２（及びその反射ビーム）の光路を含む雰囲気の空気ゆらぎを抑制できる。
【００６２】
なお、上記第１〜第３の実施形態に係る干渉計システムの構成は、一例であって、本発明がこれに限定されるものではない。例えば、上記第１〜第３の実施形態では、微動ステージ２１のＸ軸方向における位置情報を計測するＸレーザ干渉計６０Ｘの測長用ビームの光路上にのみエアガイド装置７０、１７０，２７０が設けられているが、これに代えてあいはこれに加えて、微動ステージ２１のＹ軸方向の位置情報を計測するＹレーザ干渉計の測長ビームの光路上に同様の構成のエアガイド装置を設けても良い。また、エアガイド装置は、マスクステージＭＳＴの位置を計測する干渉計システムの測長ビーム、及び参照ビームの光路上に設けられても良い。また、エアガイド装置は、鉛直方向に移動する移動体の位置情報を計測する干渉計システムに適用しても良い。
【００６３】
また、上記第１〜第３の実施形態では、エアガイド装置７０，１７０，２７０を用いて噴流を＋Ｘ方向、すなわちＸ干渉計から照射される測長用ビーム、及び参照ビームの進行方向と同じ方向に案内しているが、噴流を案内する方向はこれに限られず、−Ｘ方向、あるいは水平面内でＸ軸に交差する方向（例えばＹ軸方向）でも良い。
【００６４】
また、上記第１〜第３の実施形態に係るエアガイド装置７０，１７０，２７０は、測長用ビームの光路の上方に設けられたが、これに限らず、エアガイド装置は、測長用ビームの光路の下方に配置されても良いし（エアガイド装置が上下逆さまに配置される）、測長ビーム及び参照ビームの光路の側方に配置されても良い（ガイド部材のガイド面がＸＹ平面に垂直となるように配置される）。
【００６５】
また、上記第１〜第３の実施形態では、コアンダ効果を得やすくするために、ガイド部材７１（あるいはガイド部材１７１，１７２）の下面に張り出し部７４、又は窪み１７４，２７４ａ、２７４ｂが形成されたが、噴流をガイド部材の下面に付着させることができれば、上記張り出し部７４などは形成されていなくても良い。また、張り出し部７４は、曲面で形成する必要はなく、角部を有していても良い。また、ノズルユニットの吐出口の近傍に低圧渦が発生しやすくするために、ノズルユニットの吐出口近傍に圧力制御口を設けても良い。また、ノズルユニットからガイド部材の下面側に噴出される噴流の角度は、９０°未満であれば特に限定されない。
【００６６】
また、上記第１〜第３の実施形態に係るエアガイド装置７０，１７０，２７０は、参照鏡内蔵型のレーザ干渉計を用いた干渉計システムにも適用できる。
【００６７】
また、上記第１〜第３の実施形態に係るエアガイド装置は、ＸＹ平面に平行なガイド面を有する平板状の部材から成るガイド部材７１（あるいはガイド部材１７１，１７２）により噴流を測長ビームの光路に沿って案内したが、ガイド部材の形状はこれに限られず、光路側（上記第１〜第３の実施形態では−Ｚ側）に開口した断面逆Ｕ字状でも良い。
【００６８】
また、上記第２及び第３の実施形態では、参照ビーム及びその反射ビームを通過させるための貫通孔がガイド部材に形成したが、これに限らずダクト部材などを用いて参照ビーム及びその反射ビームを外気から隔離しても良い。
【００６９】
また、上記第３の実施形態に係るエアガイド装置２７０は、測長ビームの光路に沿って２つのノズルユニットが設けられているが、ノズルユニットの数はこれに限られず、例えば３つ以上でも良い。
【００７０】
また、上記第１〜第３の実施形態に係るエアガイド装置７０，１７０，２７０では、気体供給装置（例えばコンプレッサなど）を用いてガイド部材７１（あるいはガイド部材１７１、２７１）の下面に沿って高速の噴流を流したが、全体空調システムが流す気流によりガイド部材に沿って低圧の気体の流れを生成できれば、エアガイド装置は、気体供給装置を備えなくても良い。
【００７１】
なお、露光装置で使用される照明光は、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などの紫外光や、Ｆ2レーザ光（波長１５７ｎｍ）などの真空紫外光であっても良い。また、照明光としては、例えばＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。また、固体レーザ（波長：３５５ｎｍ、２６６ｎｍ）などを使用しても良い。
【００７２】
また、上記第１〜第３の実施形態では、投影光学系ＰＬが、複数本の光学系を備えたマルチレンズ方式の投影光学系である場合について説明したが、投影光学系の本数はこれに限らず、１本以上あれば良い。また、マルチレンズ方式の投影光学系に限らず、オフナー型の大型ミラーを用いた投影光学系などであっても良い。
【００７３】
また、上記第１〜第３の実施形態では投影光学系ＰＬとして、投影倍率が等倍系のものを用いる場合について説明したが、これに限らず、投影光学系は拡大系及び縮小系のいずれでも良い。
【００７４】
また、本発明に係る移動体装置が有する移動体は、露光装置以外の装置、例えばインクジェット式の機能性液体付与装置を備えた素子製造装置などに設けられたものであっても良い。
【００７５】
なお、上記第１〜第３の実施形態では、プレートのステップ・アンド・スキャン動作を伴う走査型露光を行う投影露光装置に適用された場合について説明したが、これに限らず、本発明は、投影光学系を用いない、プロキシミティ方式の露光装置にも適用することができる。また、本発明は、ステップ・アンド・リピート方式の露光装置（いわゆるステッパ）あるいはステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用することができる。
【００７６】
また、露光装置の用途としては角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置に限定されることなく、例えば半導体製造用の露光装置、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるマスク又はレチクルを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。なお、露光対象となる物体はガラスプレートに限られるものでなく、例えばウエハ、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。
【００７７】
なお、本発明に係る露光装置は、外径が５００ｍｍ以上の基板が露光対象物である場合に特に有効である。
【００７８】
液晶表示素子（あるいは半導体素子）などの電子デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたマスク（あるいはレチクル）を製作するステップ、ガラス基板（あるいはウエハ）を製作するステップ、上述した各実施形態の露光装置、及びその露光方法によりマスク（レチクル）のパターンをガラス基板に転写するリソグラフィステップ、露光されたガラス基板を現像する現像ステップ、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト除去ステップ、デバイス組み立てステップ、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上記実施形態の露光装置を用いて前述の露光方法が実行され、ガラス基板上にデバイスパターンが形成されるので、高集積度のデバイスを生産性良く製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【００７９】
以上説明したように、本発明の移動体装置は、高精度で移動体の位置を制御するのに適している。また、本発明の露光装置は、物体に高精度でパターンを形成するのに適している。また、本発明のデバイス製造方法は、マイクロデバイスの生産に適している。また、本発明の移動体の位置情報計測方法は、移動体の位置情報を高精度で計測するのに適している。
【符号の説明】
【００８０】
１０…液晶露光装置、２１…微動ステージ、６０Ｘ…Ｘレーザ干渉計、６１Ｘ…Ｘ固定鏡、７０…エアガイド装置、７１…ガイド部材、７２…ノズルユニット、７４…張り出し部、Ｐ…基板、ＰＳＴ…基板ステージ装置。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、移動体装置、露光装置、デバイス製造方法、及び移動体の位置情報計測方法に係り、更に詳しくは、所定平面に平行な少なくとも一軸方向に移動可能な移動体を含む移動体装置、該移動体装置を含む露光装置、該露光装置を用いたデバイス製造方法、及び所定平面に平行な少なくとも一軸方向に移動可能な移動体の位置情報計測方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示素子、半導体素子（集積回路等）等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するリソグラフィ工程では、マスク又はレチクル（以下、「マスク」と総称する）と、ガラスプレート又はウエハ（以下、「基板」と総称する）とを所定の走査方向（スキャン方向）に沿って同期移動させつつ、マスクに形成されたパターンをエネルギビームを用いて基板上に転写するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが用いられている。
【０００３】
この種の露光装置は、基板を保持し、その基板をスキャン方向に案内する基板ステージを備えている。そして、基板ステージの位置情報は、レーザ干渉計を含む干渉計システムにより、基板ステージに設けられた反射面を用いて求められる（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
ここで、近年、露光装置の露光対象である基板は、より大型化される傾向にあり、これに伴いレーザ干渉計から照射される測長ビーム、及びその反射面からの反射ビームの光路長が長くなっている。そして、測長ビーム、及び反射ビームは、光路長が長くなると、そのビーム（レーザ光）を伝播させるための媒質（例えば、空気）の屈曲率変動（空気ゆらぎなどと称される）の影響をより受け易くなり、干渉計システムの計測精度が低下するおそれがある。このため、従来、レーザ光の光路に対して、例えば上方から空気を吹き付けることにより、空気ゆらぎの発生を抑制するなどの対策が講じられていた。
【０００５】
しかし、レーザ光の光路に大量の空気を吹き付けると、パーティクル（塵）が基板ステージ上の基板に付着することを避けるために、その大量の空気をフィルタなどを用いて濾過するなど、大掛かりな設備が必要であった。また、このような空調設備は、その設置スペースの確保が難しく、しかもコスト高になり、さらに振動や騒音が発生して露光装置の性能に悪影響を及ぼすおそれがあった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】米国特許第５，７２９，３３１号明細書
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上述の事情の下でなされたもので、第１の観点からすると、所定平面に平行な少なくとも一軸方向に移動可能な移動体と；前記移動体に設けられた反射面に前記一軸方向に平行な光路に沿って測長ビームを照射し、前記測長ビームの前記反射面からの反射ビームを受光して、前記移動体の前記一軸方向に関する位置情報を計測する位置計測系と；前記光路の近傍に前記光路に沿って配置され、前記光路近傍の気体をその表面に沿って案内するガイド部材と；を備える移動体装置である。
【０００８】
これによれば、移動体の一軸方向に関する位置情報が、位置計測系により計測される。そして、移動体に照射される測長ビーム（及びその反射ビーム）の光路近傍の気体が、ガイド部材により、その光路に沿って案内される。従って、その案内される気体の流れにより、上記光路上の気体のゆらぎが抑制され、移動体の位置情報を高精度で計測できる。
【０００９】
本発明は、第２の観点からすると、エネルギビームにより物体を露光する露光装置であって、前記物体が前記移動体上に載置される本発明の移動体装置と；前記物体にエネルギビームを照射して前記物体上にパターンを生成するパターン生成装置と；を備える露光装置である。
【００１０】
これによれば、本発明の移動体装置を用いて物体の位置制御を行うので、その物体上に高精度でパターンを生成できる。
【００１１】
本発明は、第３の観点からすると、本発明の露光装置を用いて前記物体を露光することと；前記露光された前記物体を現像することと；を含むデバイス製造方法である。
【００１２】
本発明は、第３の観点からすると、移動体を所定平面に平行な少なくとも一軸方向に移動させる工程と：前記移動体に設けられた反射面に前記一軸方向に平行な光路に沿って測長ビームを照射し、前記測長ビームの前記反射面からの反射ビームを受光して、前記移動体の前記一軸方向に関する位置情報を計測する工程と：前記光路の近傍に前記光路に沿って配置され、前記光路近傍の気体をその表面に沿って案内する工程と；を含む移動体の位置情報計測方法である。
【００１３】
これによれば、移動体の一軸方向に関する位置情報が、計測する工程により計測される。そして、案内する工程により、移動体に照射される測長ビーム（及びその反射ビーム）の光路近傍の気体が、その光路に沿って案内される。従って、その案内される気体の流れにより、上記光路上の気体のゆらぎが抑制され、移動体の位置情報を高精度で計測できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】第１の実施形態に係る液晶露光装置の概略構成を示す側面図である。
【図２】図１の液晶露光装置が有するエアガイド装置の拡大図である。
【図３】第２の実施形態に係る液晶露光装置が有するエアガイド装置の拡大図である。
【図４】第３の実施形態に係る液晶露光装置が有するエアガイド装置の拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
《第１の実施形態》
以下、本発明の第１の実施形態について、図１及び図２に基づいて説明する。
【００１６】
図１には、第１の実施形態に係る液晶露光装置１０の概略構成が示されている。液晶露光装置１０は、例えば液晶表示装置の表示パネルなどに用いられる矩形（角型）のガラス基板Ｐ（以下、単に基板Ｐと称する）を露光対象物とするステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。
【００１７】
液晶露光装置１０は、照明系ＩＯＰ、マスクＭを保持するマスクステージＭＳＴ、投影光学系ＰＬ、上記マスクステージＭＳＴ及び投影光学系ＰＬなどが搭載されたボディ３０、基板Ｐを保持する基板ステージ装置ＰＳＴ、及びこれらの制御系等を含んでいる。以下においては、露光時にマスクＭと基板Ｐとが投影光学系ＰＬに対してそれぞれ相対走査される方向をＸ軸方向とし、水平面内でこれに直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸及びＹ軸に直交する方向をＺ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。
【００１８】
照明系ＩＯＰは、例えば米国特許第５，７２９，３３１号明細書などに開示される照明系と同様に構成されている。すなわち、照明系ＩＯＰは、図示しない光源（例えば、水銀ランプ）から射出された光を、それぞれ図示しない反射鏡、ダイクロイックミラー、シャッター、波長選択フィルタ、各種レンズなどを介して、露光用照明光（照明光）ＩＬとしてマスクＭに照射する。照明光ＩＬとしては、例えばｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）などの光（あるいは、上記ｉ線、ｇ線、ｈ線の合成光）が用いられる。また、照明光ＩＬの波長は、波長選択フィルタにより、例えば要求される解像度に応じて適宜切り替えることが可能になっている。
【００１９】
マスクステージＭＳＴには、回路パターンなどがそのパターン面（図１における下面）に形成されたマスクＭが、例えば真空吸着（あるいは静電吸着）により固定されている。マスクステージＭＳＴは、後述するボディ３０の一部である鏡筒定盤３１の上面に固定されたマスクステージガイド３５上に、例えばエアベアリング３６を介して非接触状態（浮上した状態）で搭載されている。マスクステージＭＳＴは、例えばリニアモータを含むマスクステージ駆動系（図示省略）により、マスクステージガイド３５上で、走査方向（Ｘ軸方向）に所定のストロークで駆動されるとともに、Ｙ軸方向、及びθｚ方向にそれぞれ適宜微少駆動される。マスクステージＭＳＴのＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）は、マスクステージＭＳＴが有する不図示の反射面に測長ビームを照射するレーザ干渉計を含むマスク干渉計システム３７により計測される。
【００２０】
投影光学系ＰＬは、マスクステージＭＳＴの図１における下方において、鏡筒定盤３１に固定されている。投影光学系ＰＬは、例えば米国特許第５，７２９，３３１号明細書に開示された投影光学系と同様に構成されている。すなわち、投影光学系ＰＬは、レンズモジュールなどを含む光学系（鏡筒）を複数有し、その複数の光学系は、Ｙ軸方向に沿って、いわゆる千鳥状に配列されている（マルチレンズ投影光学系とも称される）。複数の光学系それぞれとしては、例えば両側テレセントリックな等倍系で正立正像を形成するものが用いられている。前述の照明系ＩＯＰは、複数の光学系に対応した複数の照明光ＩＬをそれぞれマスクＭに照射するように構成されている。このため、マスクＭ上には、千鳥状に配置された複数の照明光ＩＬの照明領域が形成されるとともに、投影光学系ＰＬの下方に配置された基板Ｐ上には、複数の光学系それぞれに対応して、千鳥状に配置された複数の照明光ＩＬの照射領域が形成される。液晶露光装置１０では、基板Ｐ上に形成される複数の照射領域が合成されることにより、千鳥状に配置された複数の光学系から成る投影光学系ＰＬが、Ｙ軸方向を長手方向とする単一の長方形状（帯状）のイメージフィールドを持つ投影光学系と同等に機能する。
【００２１】
このため、照明系ＩＯＰからの照明光ＩＬによってマスクＭ上の照明領域が照明されると、マスクＭを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬを介してその照明領域内のマスクＭの回路パターンの投影像（部分正立像）が、投影光学系ＰＬの像面側に配置される、表面にレジスト（感応剤）が塗布された基板Ｐ上の照明領域に共役な照明光ＩＬの照射領域（露光領域）に形成される。そして、マスクステージＭＳＴと基板ステージ装置ＰＳＴとの同期駆動によって、照明領域（照明光ＩＬ）に対してマスクＭを走査方向（Ｘ軸方向）に相対移動させるとともに、露光領域（照明光ＩＬ）に対して基板Ｐを走査方向（Ｘ軸方向）に相対移動させることで、基板Ｐ上の１つのショット領域（区画領域）の走査露光が行われ、そのショット領域にマスクＭのパターンが転写される。すなわち、本実施形態では照明系ＩＯＰ及び投影光学系ＰＬによって基板Ｐ上にマスクＭのパターンが生成され、照明光ＩＬによる基板Ｐ上の感応層（レジスト層）の露光によって基板Ｐ上にそのパターンが形成される。
【００２２】
ボディＢＤは、基板ステージ架台３２と、鏡筒定盤３１とを有している。鏡筒定盤３１は、ＸＹ平面に平行な平板状の部材から成り、前述したように投影光学系ＰＬを支持している。基板ステージ架台３２は、Ｙ軸方向に延びる部材から成り、Ｘ軸方向に所定間隔で、例えば２つ設けられている。なお、２つの基板ステージ架台３２のうち、−Ｘ側の基板ステージ架台３２は、後述する干渉計ベース３３を取り付けるためにＹ軸方向の中央部分が−Ｘ側に張り出している。２つの基板ステージ架台３２それぞれは、Ｙ軸方向の両端部が床面１１上に設置された複数の防振装置３４に下方から支持されており、床面１１に対して振動的に分離されている。２つの基板ステージ架台３２の＋Ｙ側の端部上、及び−Ｙ側の端部上には、それぞれサイドコラム（図示省略）が搭載され、鏡筒定盤３１は、そのサイドコラムによりＹ軸方向の両端部が下方から支持されている。これにより、ボディ３０、及びボディ３０に支持された投影光学系ＰＬなどが、床面１１に対して振動的に分離される。
【００２３】
基板ステージ装置ＰＳＴは、基板ステージ架台３２上に固定された定盤１２と、Ｘ粗動ステージ２３Ｘと、Ｘ粗動ステージ２３Ｘ上に搭載され、Ｘ粗動ステージ２３Ｘと共にＸＹ二次元ステージ装置を構成するＹ粗動ステージ２３Ｙと、Ｙ粗動ステージ２３Ｙの＋Ｚ側（上方）に配置された微動ステージ２１と、定盤１２上で微動ステージ２１を下方から支持する重量キャンセル装置４０と、微動ステージ２１の位置情報を計測するステージ位置計測系とを備えている。
【００２４】
定盤１２は、例えば石材により形成された平面視で（＋Ｚ側から見て）矩形の板状部材から成り、その上面は、平面度が非常に高く仕上げられている。定盤１２は、２つの基板ステージ架台３２上に架け渡された状態で搭載されている。
【００２５】
Ｘ粗動ステージ２３Ｘは、平面視矩形の外形形状を有する枠形の部材から成り、その中央部にＹ軸方向を長手方向とする長孔状の開口部が形成されている。Ｘ粗動ステージ２３Ｘは、Ｙ軸方向に関して定盤１２よりも長く形成されている。そして、Ｘ粗動ステージ２３Ｘは、＋Ｙ側の端部、及び−Ｙ側の端部が、それぞれ定盤１２の＋Ｙ側、および−Ｙ側に配置された一対のベースフレーム（図示省略）により下方から支持されている。不図示の一対のベースフレームは、２つの基板ステージ架台３２、および定盤１２それぞれに振動的に分離された状態（直接振動が伝達しない状態）で床面１１上に固定されている。従って、Ｘ粗動ステージ２３Ｘは、ボディ３０および定盤１２に対して振動的に分離されている。また、不図示の一対のベースフレームは、それぞれＸ粗動ステージ２３ＸをＸ軸方向に直進案内するためのＸリニアガイド部材、及びＸ粗動ステージ２３Ｘを駆動するためのＸリニアモータを構成するＸ固定子（例えば磁石ユニット）などを有している。
【００２６】
これに対し、Ｘ粗動ステージ２３Ｘは、それぞれ不図示ではあるが、上記Ｘリニアガイド部材にスライド可能に係合するスライダ、及びＸ固定子と共にＸリニアモータを構成するＸ可動子（例えばコイルユニット）を有している。Ｘ粗動ステージ２３Ｘは、Ｘリニアモータを含むＸ粗動ステージ駆動系により、不図示の一対のベースフレーム上でＸ軸方向に所定ストロークで直進駆動される。また、Ｘ粗動ステージ２３Ｘの上面には、複数のＹリニアガイド部材２８がＸ軸方向に所定間隔で固定されている。また、不図示ではあるが、Ｘ粗動ステージ２３Ｘの上面には、Ｙ粗動ステージ２３Ｙを駆動するためのＹリニアモータを構成するＹ固定子（例えば磁石ユニット）が固定されている。
【００２７】
Ｙ粗動ステージ２３Ｙは、Ｘ粗動ステージ２３ＸよりもＹ軸方向の寸法が短い平面視で矩形の外形形状を有する枠形の部材から成り、その中央部に開口部が形成されている。Ｙ粗動ステージ２３Ｙの下面には、上述したＹリニアガイド部材２８にスライド可能に係合する複数のスライド部材２９が固定されている。また、不図示ではあるが、Ｙ粗動ステージ２３Ｙの下面には、上述したＹ固定子と共にＹリニアモータを構成するＹ可動子（例えば、コイルユニット）が固定されている。Ｙ粗動ステージ２３Ｙは、Ｙリニアモータを含むＹ粗動ステージ駆動系により、Ｘ粗動ステージ２３Ｘ上でＹ軸方向に所定ストロークで駆動される。Ｘ粗動ステージ２３Ｘ、及びＹ粗動ステージ２３Ｙそれぞれの位置情報は、例えば不図示のリニアエンコーダシステムにより計測される。また、Ｘ粗動ステージ２３ＸとＹ粗動ステージ２３Ｙと間には、一対のケーブルキャリア装置２６を介してケーブルが架設されている。なお、Ｘ粗動ステージ２３Ｘ，Ｙ粗動ステージ２３ＹをそれぞれＸ軸方向、Ｙ軸方向に駆動する駆動方式は、例えば送りねじによる駆動方式、あるいはベルト駆動方式などの他の方式であっても良い。また、Ｘ粗動ステージ２３Ｘ、及びＹ粗動ステージ２３Ｙそれぞれの位置情報は、例えば光干渉計システムなどの他の計測方法により求めても良い。
【００２８】
微動ステージ２１は、平面視ほぼ正方形の高さの低い直方体状の部材から成り、その上面に基板ホルダ２７を介して基板Ｐを保持する。基板ホルダ２７は、例えば図示しない真空吸着装置（又は静電吸着装置）を有しており、その上面に基板Ｐを吸着保持する。微動ステージ２１の−Ｘの側面には、ミラーベース２４Ｘを介してＸ軸に直交する反射面を有するＸ移動鏡（バーミラー）２２Ｘが固定されている。また、不図示ではあるが、微動ステージ２１の−Ｙ側の側面には、ミラーベースを介してＹ軸に直交する反射面を有するＹ移動鏡（バーミラー）が固定されている。なお、ミラーベース２４Ｘ上には、Ｘ移動鏡２２Ｘの他に、例えば環境計測用の装置などが搭載されている。
【００２９】
微動ステージ２１は、Ｙ粗動ステージ２３Ｙに固定されたＸ固定子（例えば、コイルユニット）と、微動ステージ２１に固定されたＸ可動子（例えば、磁石ユニット）とを含むローレンツ電磁力駆動方式のＸボイスコイルモータ１８Ｘにより、Ｙ粗動ステージ２３Ｙ上でＸ軸方向に微少ストロークで駆動される。Ｘボイスコイルモータ１８Ｘは、不図示ではあるが、Ｙ軸方向に所定間隔で複数設けられている。また、不図示であるが、微動ステージ２１は、Ｙ粗動ステージ２３Ｙに固定されたＹ固定子と、微動ステージ２１に固定されたＹ可動子とを含むローレンツ電磁力駆動方式のＹボイスコイルモータにより、Ｙ粗動ステージ２３Ｙ上でＹ軸方向に微少ストロークで駆動される。Ｙボイスコイルモータは、Ｘ軸方向に所定間隔で複数設けられている。
【００３０】
また、微動ステージ２１は、Ｙ粗動ステージ２３Ｙに固定されたＺ固定子と、微動ステージ２１に固定されたＺ可動子とを含むローレンツ電磁力駆動方式のＺボイスコイルモータ１８Ｚにより、Ｙ粗動ステージ２３Ｙ上でＺ軸方向に微少ストロークで駆動される。Ｚボイスコイルモータ１８Ｚは、例えば微動ステージ２１の四隅部に対応する位置に配置されている。以上の構成により、微動ステージ２１は、投影光学系ＰＬ（図１参照）に対し、Ｙ粗動ステージ２３ＹとともにＸＹ２軸方向に長ストロークで移動（粗動）可能、且つ６自由度方向（Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θｘ、θｙ、θｚの各方向）に微少ストロークで移動（微動）可能となっている。また、微動ステージ２１は、その下面側に後述するレベリング装置５０と称される装置を有している
【００３１】
重量キャンセル装置４０は、Ｚ軸方向に延設された柱状の部材から成り、心柱とも称される。重量キャンセル装置４０は、Ｘ粗動ステージ２３Ｘの開口部内、及びＹ粗動ステージ２３Ｙの開口部内に挿入されている。重量キャンセル装置４０は、レベリング装置５０を介して微動ステージ２１の中央部を下方から支持している。重量キャンセル装置４０は、筐体４１、空気ばね４２、及びＺスライダ４３を有している。
【００３２】
筐体４１は、Ｚ軸方向に開口する有底の筒状部材から成る。筐体４１の底面には、気体静圧軸受の一種である複数のエアベアリング４４が取り付けられている。重量キャンセル装置４０は、複数のエアベアリング４４（ベースパッドとも称される）により、定盤１２上に非接触（浮上）状態で載置されている。また、筐体４１は、板ばね（あるいは、ばね性を有しない薄い鋼板）を含む複数の連結装置４５（フレクシャ装置とも称される）によりＹ粗動ステージ２３Ｙに機械的に接続されている。連結装置４５は、筐体４１の＋Ｘ側、−Ｘ側，＋Ｙ側，及び−Ｙ側それぞれに設けられ、筐体４１とＹ粗動ステージ２３Ｙとを、重量キャンセル装置４０のＺ軸方向に関する重心付近の高さ位置（重心高さ）で接続している（ただし、筐体４１の＋Ｙ側及び−Ｙ側の連結装置４５は図示省略）。筐体４１は、Ｙ粗動ステージ２３Ｙに連結装置４５を介して牽引されることにより、Ｙ粗動ステージ２３Ｙと一体的にＸ軸方向、及び／又はＹ軸方向に、水平面に平行に定盤上１２を移動する。
【００３３】
空気ばね４２は、筐体４１内の最下部に収容されている。空気ばね４２の内部は、図示しない気体供給装置（例えば、コンプレッサ）から圧縮気体（例えば、空気）が供給されることにより、外部に比べて圧力の高い陽圧空間となっている。重量キャンセル装置４０は、空気ばね４２が発生する上向き（＋Ｚ方向）の力で、その支持対象物、具体的には、Ｚスライダ４３、微動ステージ２１（レベリング装置５０を含む）、基板ホルダ２７、基板Ｐなどから成る系の重量（重力加速度による下向き（−Ｚ方向）の力）を打ち消すことにより、上述した複数のＺボイスコイルモータ１８Ｚの負荷を低減する。
【００３４】
Ｚスライダ４３は、筐体４１の内部に収容された筒状の部材から成り、空気バネ４２上に載置されている。重量キャンセル装置４０は、Ｚボイスコイルモータ１８Ｚにより駆動される微動ステージ２１のＺ軸方向に関する位置（Ｚ位置）に応じて、適宜空気バネ４２の内圧を変化させることにより、スライド部４３を上下動させる。なお、空気ばね４２のばね定数が小さい場合には、Ｚスライダ４３の位置変化による発生力の変化も小さいので、空気ばね４２の内圧を変化させなくても良い。
【００３５】
レベリング装置５０は、Ｚスライダ４３の上部に取り付けられた不図示のエアベアリングにより下方から浮上支持されている。レベリング装置５０は、例えばボールなどの転動体を含み、これにより微動ステージ２１が重量キャンセル装置４０にＸＹ平面に対して揺動自在に支持される。
【００３６】
微動ステージ２１の重量キャンセル装置４０に対するＺ軸方向、θｘ、θｙ方向それぞれの位置情報（Ｚ軸方向の移動量、及び水平面に対するチルト量）は、微動ステージ２１の下面に固定された複数のレーザ変位センサ４６（Ｚセンサとも称される）により、重量キャンセル装置４０の筐体４１にアーム部材を介して固定されたターゲット４７を用いて求められる。
【００３７】
ここで、ボディ３０，基板ステージ装置ＰＳＴなどを含み、本実施形態の液晶露光装置１０は、不図示のチャンバ内に収容されている。そして、液晶露光装置１０は、チャンバ内の温度、湿度、大気圧などを制御する全体空調システムを有している。全体空調システムは、温度、湿度、気圧などが適宜調整され、かつＨＥＰＡ（High Efficiency Particle Air）フィルタなどを用いて塵が除去された空気をチャンバ内で送風することにより、温度変化に起因する装置の変形を抑制したり、塵の基板Ｐへの付着を防止したり、干渉計システムの光路上の空気ゆらぎの発生を抑制する。本実施形態の全体空調システムは、基板ステージ装置ＰＳＴの近傍において、−Ｘ側から＋Ｘ側に向けて温度などが調整された空気を送風している。なお、本明細書において、空気ゆらぎとは、空気の屈折率変動を意味し、例えば温度、気圧、水蒸気圧、ＣＯ２濃度などの変化により発生する。
【００３８】
次に、微動ステージ２１のＸＹ平面内の位置情報を計測するためのステージ位置計測系の構成について説明する。微動ステージ２１のＸＹ平面内の位置情報は、Ｘ移動鏡２２Ｘ、及びＹ移動鏡（図示省略）それぞれに測長ビームを照射し、その反射光を受光するレーザ干渉計を含む基板干渉計システムによって、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出されている。レーザ干渉計システムは、Ｘ移動鏡２２Ｘ、及びＹ移動鏡それぞれに対応したＸレーザ干渉計６０Ｘ、及び不図示のＹレーザ干渉計を有している。なお、不図示のＹレーザ干渉計は、鏡筒定盤３１、あるいはボディ３０を構成する不図示のサイドコラムに固定されている。
【００３９】
Ｘレーザ干渉計６０Ｘは、−Ｘ側の基板ステージ架台３２上に一体的に固定された干渉計ベース３３に固定されている。干渉計ベース３３は、Ｙ軸方向から見た側面視でＬ字状の部材から成る。Ｘレーザ干渉計６０Ｘは、投影光学系ＰＬの一部（例えば筐体）に固定されたＸ固定鏡６１にＸ軸に平行なレーザビームＬ１（以下、参照ビームＬ１と称する）を照射するとともに、Ｘ移動鏡２２Ｘに別のＸ軸に平行なレーザビームＬ２（以下、測長ビームＬ２と称する）を照射する。また、Ｘレーザ干渉計６０Ｘは、参照ビームＬ１のＸ固定鏡６１からの反射ビーム、及び測長ビームＬ２のＸ移動鏡２２Ｘからの反射ビームの干渉に基づいて、Ｘ固定鏡６１のＸ軸方向の位置（Ｘ位置）を基準とするＸ移動鏡２２Ｘの反射面上における測長ビームＬ１の照射点のＸ位置を求める。Ｘレーザ干渉計６０ＸからＸ固定鏡６１に照射される参照ビームＬ１、及びそのＸ固定鏡６１からの反射ビームの光路は、Ｘレーザ干渉計６０ＸからＸ移動鏡２２Ｘに照射される測長ビームＬ２、及びそのＸ移動鏡２２Ｘからの反射ビームの光路よりも＋Ｚ側に設定されている。以下、参照ビームＬ１及びその反射ビーム、並びに測長ビームＬ２及びその反射ビームを、適宜まとめて測長用ビームと称して説明する。
【００４０】
また、ステージ位置計測系は、上述した参照ビームＬ１、及び測長ビームＬ２の光路近傍の空気をその光路とほぼ平行な方向（すなわちＸ軸方向）に案内するエアガイド装置７０を有している。エアガイド装置７０は、図２に示されるように、ガイド部材７１、ノズルユニット７２、及びノズルユニット７２に加圧気体（例えば空気）を供給する不図示の加圧気体供給装置（例えばコンプレッサ）を含む。
【００４１】
ガイド部材７１は、Ｘ軸方向に延びる矩形（帯状）の板状部材から成り、参照ビームＬ２（及びその反射ビーム）の光路の上方で鏡筒定盤３１の下面に固定部材７３を介して吊り下げ固定されている。ガイド部材７１の下面は、ＸＹ平面にほぼ平行とされ、そのガイド部材７１の下面に沿って流れる空気の流れを乱さない程度に滑らかに（空気を乱さないような表面荒さで）仕上げられている。ガイド部材７１は、例えばステンレス鋼により形成されている。ガイド部材７１は、＋Ｘ側の端部がＸ固定鏡６１の上方に位置し、−Ｘ側の端部がＸレーザ干渉計６０Ｘの上方に位置している。すなわち、ガイド部材７１は、参照ビームＬ１の光路のほぼ全域をカバーしている。なお、ガイド部材７１は、参照ビームＬ１及び測長ビームＬ２の光路をカバーできれば良いので、その幅方向の寸法（Ｙ軸方向の寸法）は、数ｃｍ程度に設定されている。
【００４２】
ノズルユニット７２は、Ｘレーザ干渉計６０Ｘの上方に配置され、ガイド部材７１の−Ｘ側の端部に接続されている。なお、図１及び図２では、ガイド部材７１とノズルユニット７２とが一体の部材として図示されているが、ガイド部材７１とノズルユニット７２とは一体の部材でも別部材でも良い。ノズルユニット７２は、Ｙ軸方向を長手方向とする長方形（矩形）断面のノズル孔を有している。ノズル孔のアスペクト比（高さとノズル孔の幅との比率）は、例えば１：５〜２００程度に設定されている。ノズルユニット７２は、不図示の加圧気体供給装置から供給される加圧気体（例えば、ＨＥＰＡフィルタなどを介して塵が除去された圧縮エア）をノズル孔からガイド部材７１の下方に噴出する。
【００４３】
ここで、ノズルユニット７２は、加圧気体を水平面に対して斜め下方、具体的には、Ｘ軸に対して、例えば３０°程度の角度を成す方向に噴出するように設けられている。不図示の加圧気体供給装置から供給される加圧気体の速度は、特に限定されないが、上述した全体空調システムが流す気体の速度よりも高速であることが好ましく、本実施形態では、例えば１〜１０ｍ／ｓ程度に設定されている。
【００４４】
ここで、ガイド部材７１は、−Ｘ側の端部近傍（すなわち、ノズルユニット７２との接続部近傍）に、その下面が下方（−Ｚ方向）にＸＺ断面の輪郭が円弧状となるように張り出して（ガイド部材７１の下面が−Ｚ側に張り出した円筒面となるように）形成された張り出し部７４を有している。そして、ノズルユニット７２のノズル孔を規定する壁面のうち、＋Ｚ側の壁面は、張り出し部７４の下面と連続面を形成している。
【００４５】
次に、エアガイド装置７０の動作について説明する。エアガイド装置７０では、ノズルユニット７２から加圧気体が噴出されると、Ｘレーザ干渉計６０から照射されるレーザビーム（参照ビームＬ１、及び測長ビームＬ２、並びにそれらの反射ビーム）の光路とガイド部材７１の下面（張り出し部７４の下面を含む）との間であって、ノズルユニット７２の吐出口の近傍に低圧渦Ｓが発生する。そして、ノズルユニット７２から噴出された加圧気体（噴流）は、ガイド部材７１の下面近傍における低圧渦Ｓの発生に伴う効果（コアンダ効果）により、ガイド部材７１の下面に付着し、そのガイド部材７１の下面に沿って＋Ｚ方向に案内される（図２の矢印Ｆ１参照）。
【００４６】
そして、ガイド部材７１の下面に沿ってノズルユニット７２から噴出された気体（噴流）が高速で流れると、ベルヌーイ効果によりＸレーザ干渉計６０から照射されるレーザビーム（参照ビームＬ１、及び測長ビームＬ２、並びにそれらの反射ビーム）の光路を含む空間の気体（ほぼ大気圧）が、高速で流れる噴流（比較的低圧）側に引き寄せられ（図２の矢印Ｆ２参照）、その噴流と共に＋Ｘ方向に流れる。これにより、Ｘレーザ干渉計６０から照射されるレーザ光の光路を含む空間の気体が常時入れ替わり、空気ゆらぎの発生が抑制される。なお、ガイド部材７１の下面に案内された気体は、例えばＸ固定鏡６１の近傍でダクトなどを用いて回収しても良いし、全体空調システムにより生成される気流と共に、その気流の下流側（＋Ｘ方向）に流しても良い。
【００４７】
上述のようにして構成された液晶露光装置１０（図１参照）では、不図示の主制御装置の管理の下、不図示のマスクローダによって、マスクステージＭＳＴ上へのマスクＭのロード、及び不図示の基板ローダによって、基板ステージ装置ＰＳＴ上への基板Ｐのロードが行なわれる。その後、主制御装置により、不図示のアライメント検出系を用いてアライメント計測が実行され、アライメント計測の終了後、ステップ・アンド・スキャン方式の露光動作が行なわれる。なお、この露光動作は従来から行われているステップ・アンド・スキャン方式と同様であるので、その詳細な説明は省略するものとする。そして、上記基板Ｐのロード、アライメント計測、露光動作などが行わせる際、基板Ｐを保持する微動ステージ２１は、Ｘレーザ干渉計６０Ｘを含む干渉計システムの出力に基づいて位置制御がされる。
【００４８】
以上説明したように、本実施形態の液晶露光装置１０が有するステージ位置計測系のレーザ干渉計システムでは、エアガイド装置７０が測長用レーザビームの光路の上方に生成する高速の気体の流れにより、そのレーザ光の光路を含む雰囲気の空気ゆらぎの発生が抑制される。従って、レーザ干渉計システムの位置情報計測精度の低下を抑制でき、基板Ｐの位置を高精度で制御すること、すなわち、マスクパターンを高精度で基板Ｐ上に転写することができる。
【００４９】
また、本実施形態のエアガイド装置７０は、測長用レーザビームの光路に沿って配置された板状部材から成るガイド部材７１により、ノズルユニット７２から噴出された気体を案内する構成（すなわちダクトなどの管路を用いない構成）であるので、微動ステージ２１の位置に関わらず（レーザビームの光路長が変化しても）、その光路の全域において容易に空気ゆらぎの発生を抑制できる。
【００５０】
また、ガイド部材７１は、ノズルユニット７２の吐出口の近傍に張り出し部７４を有し、その張り出し部７４（−Ｚ側に膨らんだ部分）と他の部分（ＸＹ平面に平行な部分）との間に段差（窪み）が形成されているので、その段差部分で低圧渦が発生し易くなっている。従って、容易にノズルユニット７２から供給される噴流をガイド部材７１の下面に付着させることができる。
【００５１】
また、エアガイド装置７０は、板状部材からなるガイド部材７１に沿って高速の噴流を流す簡単な構成であるから、例えば測長用ビームの光路に沿って複数の気体噴出部（あるいは気体吸引部）を設け、その光路上に直接気体を噴出（あるいは吸引）する場合に比べ、設置が容易であり、かつコストもかからない。また、ノズルユニット７２から噴出する加圧気体の風量も少量で良いので、風量を節約できて経済的であり、かつ振動、騒音の発生を抑制できる。
【００５２】
また、ノズルユニット７２は、矩形断面のノズル孔を有しているため、その吐出口の近傍で低圧渦Ｓが発生し易い。
【００５３】
《第２の実施形態》
次に、本発明の第２の実施形態に係る液晶露光装置について説明する。第２の実施形態の液晶露光装置は、上記第１の実施形態と比べ、エアガイド装置の構成が異なるのみなので、以下、エアガイド装置の構成について、図３を用いて説明する。第２の実施形態に係るエアガイド装置１７０は、上記第１の実施形態と比べ、Ｘレーザ干渉計６０ＸからＸ固定鏡６１に照射される参照ビームＬ１、及びその反射ビームがガイド部材１７１に形成された管路内を通過する点が異なる。なお、説明の簡略化及び図示の便宜上から、上記第１の実施形態と同様の構成を有するものについては、上記第１の実施形態と同じ符号を付して、その説明を省略する。
【００５４】
エアガイド装置１７０は、ガイド部材１７１、ノズルユニット１７２、及びノズルユニット１７２に加圧気体を供給する不図示の加圧気体供給装置（例えばコンプレッサ）を含む。ガイド部材１７１は、参照光Ｌ１（及びその反射ビーム）を通過させるための貫通孔１７５が形成されている点、及びノズルユニット１７２が−Ｘ側の端部に内蔵されている点を除き、上記第１の実施形態に係るガイド部材７１（図２参照）と同様の部材から成る。
【００５５】
貫通孔１７５は、Ｘ軸に平行に形成され、ガイド部材１７１の＋Ｘ側、及び−Ｘ側の端部それぞれに開口している。貫通孔１７５の断面形状は、特に限定されない。このように、第２の実施形態に係るエアガイド装置１７０では、参照ビームＬ１及びその反射光が基板ステージ装置ＰＳＴ（図１参照）の周辺雰囲気から隔離された専用の管路内を通過する。従って、空気ゆらぎの影響を受けにくい。
【００５６】
ノズルユニット１７２は、ガイド部材１７１内に一端が設けられ、他端が不図示の気体供給装置に接続された気体供給配管１７６と、その気体供給配管１７６から分岐して設けられたノズル１７７ａ、１７７ｂとを含む。気体供給配管１７６は、Ｙ軸に平行に配置されている。ノズル１７７ａは、加圧気体を水平面に対して斜め下方、具体的にはＸ軸に対して、例えば３０°程度の角度を成す方向に噴出することにより、ガイド部材１７１の下面側に加圧気体を供給する。ノズル１７７ａから噴出される加圧気体の作用、及び効果（空気ゆらぎの発生の抑制）については、上記第１の実施形態と同じなので、説明を省略する。なお、ガイド部材１７１の下面におけるノズル１７７ａの吐出口近傍には、上記第１の実施形態と同様に、低圧渦Ｓを発生し易くするための張り出し部１７４が形成されている。
【００５７】
また、ノズル１７７ｂは、加圧気体を水平面に対して斜め上方、具体的にはＸ軸に対して、例えば４５°程度の角度を成す方向に噴出させることにより、貫通孔１７５の内部に気体を供給させる。貫通孔１７５内に噴出された加圧気体は、貫通孔１７５内を＋Ｘ方向に進行し、ガイド部材１７１の＋Ｘ側の端部に形成される開口部から排出される。このように、本第２の実施形態では、微動ステージ２１の位置に関わらず光路長が変化しない参照ビームＬ１（及びその反射光）が通過する貫通孔内１７５内に加圧気体を噴出するので、貫通孔１７５内の空気ゆらぎが抑制される。
【００５８】
《第３の実施形態》
次に、本発明の第３の実施形態に係る液晶露光装置について説明する。第３の実施形態の液晶露光装置は、上記第２の実施形態と比べ、エアガイド装置の構成が異なるのみなので、以下、エアガイド装置の構成について、図４を用いて説明する。なお、説明の簡略化及び図示の便宜上から、上記第１及び第２の実施形態と同様の構成を有するものについては、上記第１及び第２の実施形態と同じ符号を付して、その説明を省略する。
【００５９】
第３の実施形態に係るエアガイド装置２７０は、Ｘ軸方向に沿って２つのノズルユニット１７２ａ、１７２ｂを有している。ノズルユニット１７２ａ、１７２ｂそれぞれの構成は、上記第２の実施形態に係るエアガイド装置１７０（図３参照）のノズルユニット１７２の構成と同じである。ノズルユニット１７２ｂは、ガイド部材１７１の長手方向のほぼ中央部に設けられている。
【００６０】
また、ガイド部材２７１の下面におけるノズルユニット１７２ａ、１７２ｂそれぞれの吐出口近傍には、低圧渦Ｓを発生し易くするための窪み２７４ａ、２７４ｂが形成されている。これにより、ノズルユニット１７２ａ、１７２ｂから噴出された気体は、それぞれガイド部材２７１の下面に付着した状態で高速で＋Ｘ方向に流れ、測長ビームＬ２（及びその反射光）の光路を含む空間の気体がガイド部材２７１の下面側に引き寄せられる。
【００６１】
本第３の実施形態に係るエアガイド装置２７０では、測長ビームＬ２（及びその反射ビーム）の光路の途中に加圧気体の吐出口を設けたので、ガイド部材２７１の下面に沿って流れる気体の速度低下を抑制できる。従って、確実に測長ビームＬ２（及びその反射ビーム）の光路を含む雰囲気の空気ゆらぎを抑制できる。
【００６２】
なお、上記第１〜第３の実施形態に係る干渉計システムの構成は、一例であって、本発明がこれに限定されるものではない。例えば、上記第１〜第３の実施形態では、微動ステージ２１のＸ軸方向における位置情報を計測するＸレーザ干渉計６０Ｘの測長用ビームの光路上にのみエアガイド装置７０、１７０，２７０が設けられているが、これに代えてあいはこれに加えて、微動ステージ２１のＹ軸方向の位置情報を計測するＹレーザ干渉計の測長ビームの光路上に同様の構成のエアガイド装置を設けても良い。また、エアガイド装置は、マスクステージＭＳＴの位置を計測する干渉計システムの測長ビーム、及び参照ビームの光路上に設けられても良い。また、エアガイド装置は、鉛直方向に移動する移動体の位置情報を計測する干渉計システムに適用しても良い。
【００６３】
また、上記第１〜第３の実施形態では、エアガイド装置７０，１７０，２７０を用いて噴流を＋Ｘ方向、すなわちＸ干渉計から照射される測長用ビーム、及び参照ビームの進行方向と同じ方向に案内しているが、噴流を案内する方向はこれに限られず、−Ｘ方向、あるいは水平面内でＸ軸に交差する方向（例えばＹ軸方向）でも良い。
【００６４】
また、上記第１〜第３の実施形態に係るエアガイド装置７０，１７０，２７０は、測長用ビームの光路の上方に設けられたが、これに限らず、エアガイド装置は、測長用ビームの光路の下方に配置されても良いし（エアガイド装置が上下逆さまに配置される）、測長ビーム及び参照ビームの光路の側方に配置されても良い（ガイド部材のガイド面がＸＹ平面に垂直となるように配置される）。
【００６５】
また、上記第１〜第３の実施形態では、コアンダ効果を得やすくするために、ガイド部材７１（あるいはガイド部材１７１，１７２）の下面に張り出し部７４、又は窪み１７４，２７４ａ、２７４ｂが形成されたが、噴流をガイド部材の下面に付着させることができれば、上記張り出し部７４などは形成されていなくても良い。また、張り出し部７４は、曲面で形成する必要はなく、角部を有していても良い。また、ノズルユニットの吐出口の近傍に低圧渦が発生しやすくするために、ノズルユニットの吐出口近傍に圧力制御口を設けても良い。また、ノズルユニットからガイド部材の下面側に噴出される噴流の角度は、９０°未満であれば特に限定されない。
【００６６】
また、上記第１〜第３の実施形態に係るエアガイド装置７０，１７０，２７０は、参照鏡内蔵型のレーザ干渉計を用いた干渉計システムにも適用できる。
【００６７】
また、上記第１〜第３の実施形態に係るエアガイド装置は、ＸＹ平面に平行なガイド面を有する平板状の部材から成るガイド部材７１（あるいはガイド部材１７１，１７２）により噴流を測長ビームの光路に沿って案内したが、ガイド部材の形状はこれに限られず、光路側（上記第１〜第３の実施形態では−Ｚ側）に開口した断面逆Ｕ字状でも良い。
【００６８】
また、上記第２及び第３の実施形態では、参照ビーム及びその反射ビームを通過させるための貫通孔がガイド部材に形成したが、これに限らずダクト部材などを用いて参照ビーム及びその反射ビームを外気から隔離しても良い。
【００６９】
また、上記第３の実施形態に係るエアガイド装置２７０は、測長ビームの光路に沿って２つのノズルユニットが設けられているが、ノズルユニットの数はこれに限られず、例えば３つ以上でも良い。
【００７０】
また、上記第１〜第３の実施形態に係るエアガイド装置７０，１７０，２７０では、気体供給装置（例えばコンプレッサなど）を用いてガイド部材７１（あるいはガイド部材１７１、２７１）の下面に沿って高速の噴流を流したが、全体空調システムが流す気流によりガイド部材に沿って低圧の気体の流れを生成できれば、エアガイド装置は、気体供給装置を備えなくても良い。
【００７１】
なお、露光装置で使用される照明光は、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などの紫外光や、Ｆ2レーザ光（波長１５７ｎｍ）などの真空紫外光であっても良い。また、照明光としては、例えばＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。また、固体レーザ（波長：３５５ｎｍ、２６６ｎｍ）などを使用しても良い。
【００７２】
また、上記第１〜第３の実施形態では、投影光学系ＰＬが、複数本の光学系を備えたマルチレンズ方式の投影光学系である場合について説明したが、投影光学系の本数はこれに限らず、１本以上あれば良い。また、マルチレンズ方式の投影光学系に限らず、オフナー型の大型ミラーを用いた投影光学系などであっても良い。
【００７３】
また、上記第１〜第３の実施形態では投影光学系ＰＬとして、投影倍率が等倍系のものを用いる場合について説明したが、これに限らず、投影光学系は拡大系及び縮小系のいずれでも良い。
【００７４】
また、本発明に係る移動体装置が有する移動体は、露光装置以外の装置、例えばインクジェット式の機能性液体付与装置を備えた素子製造装置などに設けられたものであっても良い。
【００７５】
なお、上記第１〜第３の実施形態では、プレートのステップ・アンド・スキャン動作を伴う走査型露光を行う投影露光装置に適用された場合について説明したが、これに限らず、本発明は、投影光学系を用いない、プロキシミティ方式の露光装置にも適用することができる。また、本発明は、ステップ・アンド・リピート方式の露光装置（いわゆるステッパ）あるいはステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用することができる。
【００７６】
また、露光装置の用途としては角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置に限定されることなく、例えば半導体製造用の露光装置、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるマスク又はレチクルを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。なお、露光対象となる物体はガラスプレートに限られるものでなく、例えばウエハ、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。
【００７７】
なお、本発明に係る露光装置は、外径が５００ｍｍ以上の基板が露光対象物である場合に特に有効である。
【００７８】
液晶表示素子（あるいは半導体素子）などの電子デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたマスク（あるいはレチクル）を製作するステップ、ガラス基板（あるいはウエハ）を製作するステップ、上述した各実施形態の露光装置、及びその露光方法によりマスク（レチクル）のパターンをガラス基板に転写するリソグラフィステップ、露光されたガラス基板を現像する現像ステップ、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト除去ステップ、デバイス組み立てステップ、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上記実施形態の露光装置を用いて前述の露光方法が実行され、ガラス基板上にデバイスパターンが形成されるので、高集積度のデバイスを生産性良く製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【００７９】
以上説明したように、本発明の移動体装置は、高精度で移動体の位置を制御するのに適している。また、本発明の露光装置は、物体に高精度でパターンを形成するのに適している。また、本発明のデバイス製造方法は、マイクロデバイスの生産に適している。また、本発明の移動体の位置情報計測方法は、移動体の位置情報を高精度で計測するのに適している。
【符号の説明】
【００８０】
１０…液晶露光装置、２１…微動ステージ、６０Ｘ…Ｘレーザ干渉計、６１Ｘ…Ｘ固定鏡、７０…エアガイド装置、７１…ガイド部材、７２…ノズルユニット、７４…張り出し部、Ｐ…基板、ＰＳＴ…基板ステージ装置。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定平面に平行な少なくとも一軸方向に移動可能な移動体と；
前記移動体に設けられた反射面に前記一軸方向に平行な光路に沿って測長ビームを照射し、前記測長ビームの前記反射面からの反射ビームを受光して、前記移動体の前記一軸方向に関する位置情報を計測する位置計測系と；
前記光路の近傍に前記光路に沿って配置され、前記光路近傍の気体をその表面に沿って案内するガイド部材と；を備える移動体装置。
【請求項２】
前記ガイド部材の前記表面に沿って高速の気体の流れを生成する気流生成装置をさらに備える請求項１に記載の移動体装置。
【請求項３】
前記気流生成部は、前記ガイド部材側から前記光路に向けて、前記ガイド部材の前記表面に所定角度で前記気体を噴出するノズルを含む請求項２に記載の移動体装置。
【請求項４】
前記ノズルは、前記噴出する前記気体の流れる方向に直交する断面の輪郭が矩形であるノズル孔を有する請求項３に記載の移動体装置。
【請求項５】
前記ノズルは、前記光路に沿って複数設けられる請求項３又は４に記載の移動体装置。
【請求項６】
前記ガイド部材の前記表面には、前記ノズルの噴出口の近傍に窪みが形成される請求項３〜５のいずれか一項に記載の移動体装置。
【請求項７】
前記位置計測系は、所定の位置に固定された固定反射面に参照ビームを照射し、前記参照ビームの前記固定反射面からの参照反射ビームを受光して、前記反射ビームと前記参照反射ビームとの干渉に基づいて前記移動体の位置情報を求める干渉計システムを含み、
前記参照ビームの光路は、前記ガイド部材の近傍に前記ガイド部材の前記表面に沿って配置されている請求項１〜６のいずれか一項に記載の移動体装置。
【請求項８】
前記位置計測系は、所定の位置に固定された固定反射面に参照ビームを照射し、前記参照ビームの前記固定反射面からの参照反射ビームを受光して、前記反射ビームと前記参照反射ビームとの干渉に基づいて前記移動体の位置情報を求める干渉計システムを含み、
前記参照ビームの光路は、前記測長ビームの前記光路から隔離された管路内に設けられ、
前記気流生成装置は、前記管路内に気体の流れを生成する請求項２に記載の移動体装置。
【請求項９】
前記気流生成装置は、共通の気体供給装置から供給される気体を前記ガイド面側、及び前記管路側に噴出させる分岐ノズルを有する請求項８に記載の移動体装置。
【請求項１０】
前記分岐ノズルは、前記測長ビーム及び前記参照ビームの光路に沿って複数設けられる請求項９に記載の移動体装置。
【請求項１１】
前記測長ビームの前記光路を含む空間内の雰囲気を調整する全体空調システムをさらに有する請求項１〜１０のいずれか一項に記載の移動体装置。
【請求項１２】
エネルギビームにより物体を露光する露光装置であって、
前記物体が前記移動体上に載置される請求項１〜１１のいずれか一項に記載の移動体装置と；
前記物体にエネルギビームを照射して前記物体上にパターンを生成するパターン生成装置と；を備える露光装置。
【請求項１３】
前記物体は、フラットパネルディスプレイ装置に用いられる基板である請求項１２に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記基板は、少なくとも一辺の長さが５００ｍｍ以上である請求項１３に記載の露光装置。
【請求項１５】
請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと；
前記露光された前記物体を現像することと；を含むデバイス製造方法。
【請求項１６】
移動体を所定平面に平行な少なくとも一軸方向に移動させる工程と：
前記移動体に設けられた反射面に前記一軸方向に平行な光路に沿って測長ビームを照射し、前記測長ビームの前記反射面からの反射ビームを受光して、前記移動体の前記一軸方向に関する位置情報を計測する工程と：
前記光路の近傍に前記光路に沿って配置され、前記光路近傍の気体をその表面に沿って案内する工程と；を含む移動体の位置情報計測方法。
【請求項１７】
前記案内する工程では、前記ガイド部材の前記表面に沿って高速の気体の流れを生成する請求項１６に記載の移動体の位置情報計測方法。
【請求項１】
所定平面に平行な少なくとも一軸方向に移動可能な移動体と；
前記移動体に設けられた反射面に前記一軸方向に平行な光路に沿って測長ビームを照射し、前記測長ビームの前記反射面からの反射ビームを受光して、前記移動体の前記一軸方向に関する位置情報を計測する位置計測系と；
前記光路の近傍に前記光路に沿って配置され、前記光路近傍の気体をその表面に沿って案内するガイド部材と；を備える移動体装置。
【請求項２】
前記ガイド部材の前記表面に沿って高速の気体の流れを生成する気流生成装置をさらに備える請求項１に記載の移動体装置。
【請求項３】
前記気流生成部は、前記ガイド部材側から前記光路に向けて、前記ガイド部材の前記表面に所定角度で前記気体を噴出するノズルを含む請求項２に記載の移動体装置。
【請求項４】
前記ノズルは、前記噴出する前記気体の流れる方向に直交する断面の輪郭が矩形であるノズル孔を有する請求項３に記載の移動体装置。
【請求項５】
前記ノズルは、前記光路に沿って複数設けられる請求項３又は４に記載の移動体装置。
【請求項６】
前記ガイド部材の前記表面には、前記ノズルの噴出口の近傍に窪みが形成される請求項３〜５のいずれか一項に記載の移動体装置。
【請求項７】
前記位置計測系は、所定の位置に固定された固定反射面に参照ビームを照射し、前記参照ビームの前記固定反射面からの参照反射ビームを受光して、前記反射ビームと前記参照反射ビームとの干渉に基づいて前記移動体の位置情報を求める干渉計システムを含み、
前記参照ビームの光路は、前記ガイド部材の近傍に前記ガイド部材の前記表面に沿って配置されている請求項１〜６のいずれか一項に記載の移動体装置。
【請求項８】
前記位置計測系は、所定の位置に固定された固定反射面に参照ビームを照射し、前記参照ビームの前記固定反射面からの参照反射ビームを受光して、前記反射ビームと前記参照反射ビームとの干渉に基づいて前記移動体の位置情報を求める干渉計システムを含み、
前記参照ビームの光路は、前記測長ビームの前記光路から隔離された管路内に設けられ、
前記気流生成装置は、前記管路内に気体の流れを生成する請求項２に記載の移動体装置。
【請求項９】
前記気流生成装置は、共通の気体供給装置から供給される気体を前記ガイド面側、及び前記管路側に噴出させる分岐ノズルを有する請求項８に記載の移動体装置。
【請求項１０】
前記分岐ノズルは、前記測長ビーム及び前記参照ビームの光路に沿って複数設けられる請求項９に記載の移動体装置。
【請求項１１】
前記測長ビームの前記光路を含む空間内の雰囲気を調整する全体空調システムをさらに有する請求項１〜１０のいずれか一項に記載の移動体装置。
【請求項１２】
エネルギビームにより物体を露光する露光装置であって、
前記物体が前記移動体上に載置される請求項１〜１１のいずれか一項に記載の移動体装置と；
前記物体にエネルギビームを照射して前記物体上にパターンを生成するパターン生成装置と；を備える露光装置。
【請求項１３】
前記物体は、フラットパネルディスプレイ装置に用いられる基板である請求項１２に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記基板は、少なくとも一辺の長さが５００ｍｍ以上である請求項１３に記載の露光装置。
【請求項１５】
請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと；
前記露光された前記物体を現像することと；を含むデバイス製造方法。
【請求項１６】
移動体を所定平面に平行な少なくとも一軸方向に移動させる工程と：
前記移動体に設けられた反射面に前記一軸方向に平行な光路に沿って測長ビームを照射し、前記測長ビームの前記反射面からの反射ビームを受光して、前記移動体の前記一軸方向に関する位置情報を計測する工程と：
前記光路の近傍に前記光路に沿って配置され、前記光路近傍の気体をその表面に沿って案内する工程と；を含む移動体の位置情報計測方法。
【請求項１７】
前記案内する工程では、前記ガイド部材の前記表面に沿って高速の気体の流れを生成する請求項１６に記載の移動体の位置情報計測方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１１−１３３３９８（Ｐ２０１１−１３３３９８Ａ）
【公開日】平成２３年７月７日（２０１１．７．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２９４２１７（Ｐ２００９−２９４２１７）
【出願日】平成２１年１２月２５日（２００９．１２．２５）
【出願人】（０００００４１１２）株式会社ニコン (12,601)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年７月７日（２０１１．７．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１２月２５日（２００９．１２．２５）
【出願人】（０００００４１１２）株式会社ニコン (12,601)
【Ｆターム（参考）】
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