【課題】有底の凹部の状態を非破壊で検査し、製造コストを低減させる。
【解決手段】本発明のウエハ５０のビア孔５１の検査方法は、有底のビア孔５１が表面に形成されたウエハ５０に被転写材料を塗布し、この被転写材料をビア孔５１内に充填させ、被転写材料を硬化させた後、ウエハ５０から離型させることでビア孔５１がビア像７１として転写されてなる被転写体７０を形成する転写工程と、ビア像７１の表面を観察することでその表面形状の画像データを作成する表面観察工程と、ビア像７１の画像データに基づいてビア像７１の形状を評価し、ビア孔５１内の状態を検査する検査工程とを備えたところに特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】改良されたレベルセンサアレンジメント及びその動作を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置内の基板上の少なくとも１つの実質的な反射層表面の位置を測定するための方法、並びに、関連付けられたレベルセンサ及びリソグラフィ装置が開示される。該方法は、広帯域光源を使用して少なくとも２つの干渉計測定を実行することを含む。各測定間で、広帯域ソースビームの成分波長及び／又は成分波長全体にわたる強度レベルが変化し、強度レベルのみが変化する場合、強度変化はビームの成分波長の少なくとも一部について異なる。あるいは、成分波長及び／又は成分波長全体にわたる強度レベルが異なる測定データを取得するための単一の測定及び後続の測定の処理を、位置を取得するためにも同様に適用することができる。 （もっと読む）

【目的】マスクに形成されたパターン自体の位置精度の均質性を検査可能な検査装置を提供する。
【構成】検査装置１００は、離散的な領域を撮像した際に取得されたそれぞれの光学画像中の図形の寸法と、対応する参照画像中の図形の寸法との間での第１の位置ずれ量を用いて、被検査領域全体における第１の位置ずれ量マップを作成するマップ作成回路１３１と、検査領域全体を撮像した際に取得されたそれぞれの光学画像中の図形の寸法と、それぞれ対応する参照画像中の図形の寸法との間での第２の位置ずれ量を用いて、被検査領域全体における第２の位置ずれ量マップを作成するマップ作成回路１３２と、第２の位置ずれ量マップを、第１の位置ずれ量マップと第２の位置ずれ量マップとの第１の差分マップで補正した第３の位置ずれ量マップに定義される各値のうち、許容値を超える値の有無を判定する判定回路１５６と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の反りを簡易に検出することができる技術の提供。
【解決手段】電子部品を基板に実装するためのパッドの中から前記基板の反りを検出するための基準パッドを選択し、前記基板に反りが発生していない場合の前記基板の表面である基準平面に対して傾斜した方向に光軸が配向したカメラによって撮影された前記基準パッドの像を含む画像を取得し、前記基準パッドの像の前記画像内での位置と前記基板に反りが発生していない場合における前記基準パッドの像の前記画像内での位置である基準位置とに基づいて前記基準平面に垂直な方向への前記基板の反りの量を特定する。 （もっと読む）

【課題】手間や時間をかけることなく光学素子材料の厚さを随時測定することができる光学素子製造装置及び光学素子製造方法を提供する。
【解決手段】光学素子製造装置は、光学素子材料１０を保持する光学素子保持具１１と、光学素子材料１０の加工面１０ａに当接し、該光学素子材料１０を研削又は研磨する加工工具２０を支持する加工工具支持装置２１と、光学素子材料１０と加工工具２０との間の相対的な運動を与えるモータ及び運動制御部と、光学素子保持具１１に保持された光学素子材料１０に対して加工工具支持装置２１に支持された加工工具２０とは反対側に設けられ、光学素子材料１０の厚さを非接触で測定する測定部３０とを備える。 （もっと読む）

【課題】欠陥検査装置のレシピで設定するセル領域の設定を自動化する方法を提供する。
【解決手段】CellMatAreaの区別をCellMatAreaと非CellMatAreaのGrayLevelの分布特徴の差を用いてイメージをスキャンして、その結果からCellMatAreaと非CellMatAreaを分ける方法を取った。具体的にはCellMatの始点と終点を区別するための基準になる閾値をMemoryCellだけあるAreaで計算した後、その閾値を適用して始点と終点を探してそのそれぞれを繋げてCellAreaを作成した。 （もっと読む）

【課題】高精度なオートフォーカス処理が可能な画像測定装置を安価に提供する。
【解決手段】画像測定装置は、ワークを撮像するローリングシャッター式の撮像装置と、撮像装置の合焦位置を制御して合焦位置を合焦軸方向の位置情報として出力する位置制御システムと、撮像装置から取得した画像情報から画像情報のコントラスト情報を算出する演算処理装置とを備え、演算処理装置は、取得した画像を複数の領域に分割し、各領域の、画像内における位置とコントラスト情報とに基づいて画像情報のコントラスト情報を補正する。 （もっと読む）

【課題】回折格子の形状特徴物などの小寸法の形状特徴物のプロフィールを見出すためのシステムを提供する。
【解決手段】シード・プロフィールのギャラリが作られ、半導体装置についての製造プロセス情報を用いて該プロフィールに関連する初期パラメータ値が選択される。回折構造および関連するフィルムを測定するとき、反射率Ｒ_s，Ｒ_pなどのいろいろな放射パラメータおよび楕円偏光パラメータを使用することができる。放射パラメータのうちのあるものは、該プロフィールまたは該フィルムのパラメータ値の変化に対してより敏感な１つ以上の放射パラメータを選択してより精密な測定に到達することができる。プロフィール・パラメータのエラーを補正するために上述した手法をトラック／ステッパおよびエッチャに供給してリソグラフィおよびエッチングのプロセスを制御することができる。 （もっと読む）

【課題】複数の測定面領域が互いにオーバーラップ領域を持たない場合などでも、複数の面測定データの相対位置関係を高精度に合わせることができる表面形状測定装置及び表面形状測定方法を提供する。
【解決手段】表面形状測定装置１０は、光学的表面形状測定機１１と触針式検出器２２などの高さ測定機を備え、光学式表面形状測定機１１で測定した複数箇所の測定面領域の各面測定データにおける高さ測定点の各測定値の相対的位置関係を、高さ測定機２２で測定した前記高さ測定点の各測定値の相対的位置関係に合わせるように前記各面測定データを移動補正する。 （もっと読む）

【課題】磁気センサや大型マグネットを用いることなく、簡単かつ小型な構成で、１ｍｍ以上の位置センシングが良好にでき、また高い分解能の検出が可能となるようにする。
【解決手段】発光素子９と受光素子１０を有する反射型フォトセンサ７、移動方向に対し上り傾斜Ｋａ及び下り傾斜Ｋｂを有する形状が形成された反射板８を備え、上記受光素子１０では、検出出力が反射板８の移動量に応じて直線的に変化するように、移動方向の中心部から両端へ向かう程、単位長さ当りの面積が広くなる受光領域を設け、上記反射板８をフォトセンサ７の発光／受光面Ｓ_Ｌに略平行で、かつ発光素子９と受光素子１０を結ぶ方向に略垂直となる方向に移動するように配置する。これにより、長い距離でリニアリティがあり、高分解能の検出ができる。 （もっと読む）

【課題】断面円形材である高温の棒鋼、線材や鋼管の外径を測定しても測定精度が良く、かつ、スケールや粉塵が投光部及び受光部に付着し難い外径測定装置を提供する。
【解決手段】外径測定装置１は、棒鋼Ｗの外径を測定する外径測定器２と、棒鋼Ｗを挿通させる挿通部材３とを備えている。外径測定器２は、棒鋼Ｗに光Ｌを投光する投光部２１と、光Ｌを受光する受光部２２と、棒鋼Ｗの外径を演算する制御演算部２３とを有している。挿通部材３は、棒鋼Ｗを挿通させる挿通口３１を有しており、挿通口３１が投光部２１から受光部２２への光路に対向するように設けられている。挿通部材３は、挿通口３１を囲繞する環状の送風口３２を有しており、送風口３２は、棒鋼Ｗの径方向外方の周囲を棒鋼Ｗの軸方向にエアーＦを送風してエアーカーテンＡを形成する。送風口３２から送風されるエアーＦの送風方向には遮蔽物がない。 （もっと読む）

【課題】撮像した画像を高い精度で高解像化することが可能な画像処理装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、被写体と撮像素子の相対位置を異ならせて撮像した複数の画像を合成して高画素化を行う画像処理装置において、相対位置検出手段と、画像合成手段とを備える。相対位置検出手段は、被写体と標本図形の間の相対的な位置を固定した状態が撮影された複数の画像について、前記標本図形が写る部分を比較して、前記複数の画像間の相対位置を検出する。そして、画像合成手段は、相対位置検出手段が検出した相対位置に基づいて、前記複数の画像を合成するするようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】振動の影響による３次元形状の測定誤差を低減した形状測定装置を提供する。
【解決手段】形状測定装置は、被測定物をライン光で照明して撮像するプローブと、プローブと被測定物とを相対移動させるリニアモータと、照明の状態と撮像の状態から被測定物の形状を測定する形状演算部３４と、プローブの振れを検出する振れ検出部２８と、パッシブ補正およびアクティブ補正を行う補正部と、振れ検出部２８に検出された振れに基づいて、パッシブ補正およびアクティブ補正のうちいずれの補正を行うかを決定する処理部３２とを備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】振動の影響による３次元形状の測定誤差を低減した形状測定装置を提供する。
【解決手段】形状測定装置は、被測定物をライン光で照明して撮像するプローブ２０と、プローブ２０と被測定物とを相対移動させるリニアモータと、照明の状態と撮像の状態から被測定物の形状を測定する形状演算部と、プローブの振れを検出する振れ検出部と、振れ検出部に検出された振れに基づいて被照明位置の補正を行う補正機構６０，８０，９０とを備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】測定対象膜に照明光を照射して測定される表面形状データ及び界面形状データから、この測定対象膜の屈折率を得ることができる膜構造測定方法及び表面形状測定装置を提供する。
【解決手段】表面形状測定装置の制御用プロセッサで実行される膜構造測定方法は、撮像装置により、物体に形成された測定対象膜に光を照射し、当該光の反射光からこの測定対象膜の表面の形状である表面形状データ及び測定対象膜と物体との界面の形状である界面形状データを測定するステップ２２０と、平均値がほぼ０となるように表面形状データ及び界面形状データの各々を基準面を用いて補正することにより、補正された表面形状データ及び補正された界面形状データを算出するステップ２３０と、補正された表面形状データ及び補正された界面形状データから、測定対象膜の屈折率を算出するステップ２４０と、を有する。 （もっと読む）

【課題】被検物の表面形状を高精度かつ短時間で測定する。
【解決手段】被検物の表面で反射された物体光と参照光との光路差によって得られる干渉縞を解析する形状測定装置を用いて被検物の表面形状を測定する本発明の形状測定方法は、参照面を第１位置に固定して被検物の複数の位置における第１干渉縞を取得する第１工程と、参照面を参照光の光軸上の第２位置に固定して、複数の位置における第２干渉縞を取得する第２工程と、参照面を参照光の光軸上の第３位置に固定して、複数の位置における第３干渉縞を取得する第３工程と、第１干渉縞と、第２干渉縞と、第３干渉縞とを用いて、被検物の複数の位置における干渉縞の位相解析を行う位相解析工程Ｓ２０とを備え、第１干渉縞、第２干渉縞、及び第３干渉縞の少なくとも１つは、被検物を形状測定装置に対して相対移動させながら複数の位置の近傍で断続的に取得された複数の干渉縞に基づいて取得される。 （もっと読む）

パターン発生器は、書込ツールと校正システムとを有する。書込ツールは、ステージ上に配列されたワークピース上にパターンを発生させるように構成される。校正システムは、書込ツールの座標系と、ステージおよびワークピースのうちの１つ上の校正プレートの座標系との間の相関を決定するように構成される。校正システムはまた、校正プレートの表面上の少なくとも１つの反射パターンから反射した少なくとも１つの光ビーム状の光相関信号、またはパターンに少なくとも部分的に基づき相関を決定するように構成される。
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【課題】被測定物の三次元形状測定を可能とする画像測定機を提供する。
【解決手段】テーブル１と、撮像光学部１０と、これらを相対移動させる相対移動機構５０とを有する画像測定機において、撮像光学部１０は、前側レンズ１２、後側レンズ１３およびテレセントリック絞り１４を有するテレセントリック光学系１１と、このテレセントリック光学系１１によって結像された被測定物の画像を撮像するＣＣＤカメラ１５とを含んで構成され、レーザ光を用いて、テレセントリック光学系１１の光軸上における被測定物表面の光軸方向の位置を非接触で測定するオートフォーカスレーザ変位計部２０とを備える。 （もっと読む）

【課題】被検出体の端部位置間距離の測定精度を向上できるようにする。
【解決手段】各センサ１１−１及び１１−２で端部位置が検出された検出開始タイミングの差が減少する方向へ、時間的に先に端部位置を検出した一方のセンサ１１−１又は１１−２の出力値をシフトし、シフトした出力値と他方のセンサ１１−２又は１１−１の出力値とに基づいて、被検出体１００の第１及び第２の端部位置間の距離を測定する。 （もっと読む）