【課題】 部材に堆積された堆積物を効率的に除去する描画装置を提供する。
【解決手段】 エネルギービーム描画装置は、エネルギービーム源１と基板１２との間に配置され、堆積物が堆積される部材６、１１と、前記堆積物を除去する除去ユニットと、を備える。前記除去ユニットは、前記エネルギービームが照射されることによって、前記堆積物を分解する活性種を前記気体から生成するための触媒１５、１８と、前記部材に気体を供給する気体供給機構１６、１７と、前記堆積物の除去処理を行う場合に前記触媒を前記エネルギービームが照射される第１位置に移動し、前記基板に描画処理を行う場合に前記触媒を前記エネルギービームが照射されない第２位置に移動する移動機構１３、５と、を含む。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ露光装置のチャンバ内で発生したコンタミネーションによるマスクや光学系の汚染を抑制する。
【解決手段】ＥＵＶ露光装置１０Ａのチャンバ２５内に設置されたウエハステージ２４の近傍にエネルギー線発生源４１を配置し、ウエハ２３の表面に塗布されたレジストから発生する放出ガスをエネルギー線４２で分解することにより、照明光学系１３を構成する照明ミラー１４〜１６、投影系光学系３７を構成する投影ミラー３１〜３６、マスク２１などをコンタミネーションによる汚染から保護する。 （もっと読む）

【課題】露光量のきめ細かな監視および調整を可能にする。
【解決手段】実施形態の露光装置は、ＥＵＶ光を発光し、パターンが作成された第１の基板に照射する光源と、光学素子を有し、前記第１の基板から発せられる光束を縮小して第２の基板に照射することにより前記パターンを前記第２の基板に転写する縮小光学系と、前記ＥＵＶ光の照射により前記光学素子から発生する光電子を検出する光電子検出手段と、前記光電子検出手段の検出信号と前記光学素子表面の座標情報とから前記光学素子表面の状態分布を表す面内分布情報を作成する面内分布情報作成部と、を持つ。 （もっと読む）

【課題】液浸露光における露光不良の発生を抑制する。
【解決手段】第１の態様の液浸部材３は、液浸露光装置において、光学部材８と物体との間の液体ＬＱを通過する露光光の光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材３である。第１面、第１面と異なる方向を向く第２面、及び前記第１面と第２面とを結ぶ孔３２を有し、第１面と対向する物体上の液体の少なくとも一部を孔３２から回収可能な第１部材３１と、孔３２を通った液体ＬＱを含む流体Ｆ中の気泡の膨張を抑制する第２部材３４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 インプリント処理がなされる空間内の気体がインプリント装置外に流出することの防止とインプリント装置外のパーティクルが前記空間内に流入することの防止との両立。
【解決手段】 インプリント装置は、モールド１１を保持するヘッド１２と、基板１３を保持するステージ１４と、樹脂を前記基板に塗布する塗布機構２０と、インプリント処理がなされる第１空間Ａとその外側の第２空間Ｂとの境界を定める第１隔壁４１と、前記第２空間とその外側の第３空間Ｃとの境界を定める第２隔壁４０と、を備え、前記第２空間を経由した前記第１空間と前記第３空間との間の気体の流通を阻害するように前記第２空間の圧力を調節する。 （もっと読む）

【課題】光学機器の計測精度を向上するとともに、光学機器における光路を囲繞するカバー内を、迅速に温度調整し温度の安定化を行う。
【解決手段】光路４を備えた光学機器Ｆが収容されるブースＫと、光路４を囲繞するカバー３と、ブースＫ内でカバー３外のブース内温度を検出するブース内温度検出手段２と、カバー３内のカバー内温度を検出するカバー内温度検出手段５と、ブースＫ内に温調空気Ｐを通流させ温調空気Ｐの温度を調整可能な第１温度調整手段と、ブース内温度を制御対象温度として制御対象温度が設定温度になるように第１温度調整手段の運転を制御する制御手段Ｅｂとを備えた温度調整システムＤにて、制御手段Ｅｂが、カバー内温度の設定温度に対する温度差が所定の基準値以上となる状態を温度乖離状態として判定し、温度乖離状態では制御対象温度をブース内温度からカバー内温度に切り替えるように構成される。 （もっと読む）

【課題】マスク及びマスクホルダの温度制御を効果的に行う。
【解決手段】本体収容部７０内で、基板１をチャック１０により支持し、マスク２をマスクホルダ２０により保持し、チャック１０をステージによりマスクホルダ２０の下方へ移動する。本体収容部７０内へ横方向に温度調節された清浄な空気を供給し、本体収容部７０の上方に本体収容部７０とつなげて設けた照射光学系収容部３０内の照射光学系から、マスクホルダ２０に保持されたマスク２へ露光光を照射する。照射光学系収容部３０に第１の排気装置７２を設けて、第１の排気装置７２により、本体収容部７０内の空気を、照射光学系収容部３０を介して取り込み、照射光学系収容部３０外へ排気する。 （もっと読む）

【課題】ホイルトラップを交換するタイミングを適切に判断することが可能な光源装置を提供する。
【解決手段】プラズマによる光を発生するプラズマ生成部（１、２、３）と、プラズマ生成部で発生した光を集光する集光鏡（６）と、プラズマ生成部で発生したデブリが集光鏡に到達することを抑制するホイルトラップ（８）と、ホイルトラップと接地部との間に流れる電流を測定する電流測定部（１１）とを備える。 （もっと読む）

【課題】加湿器の加湿能力過多による結露を抑制し、かつ、加湿能力不足による制御不良を抑制する露光装置を提供する。
【解決手段】加湿エア供給装置３０は、気体３２を加湿する気化式加湿器３４と、気化式加湿器３４を通過する第１の気体の流量を制御する第１の流体制御機器３３ａと、通過しない第２の気体の流量を制御する第２の流体制御機器３３ｂと、気化式加湿器３４の加湿能力を可変する加湿能力可変機器３８、３９と、湿度検出部４５と、制御演算部４６とを有し、制御演算部４６は、湿度検出部４５が検出した加湿エア４１の湿度と、予め設定した目標湿度とに基づいて、第１及び第２の流体制御機器３３ａ、３３ｂを制御して第１及び第２の気体の流量比を調整し、第１の流体制御機器３３ａの操作量と、予め設定した目標湿度操作量に基づいて、加湿能力可変機器３８、３９を制御して気化式加湿器３４に導入される第１の気体の流量を一定とする。 （もっと読む）

【課題】高精度な描画と、搬送部でのパーティクル散乱の防止とを同時に達成することができる露光装置を提供する。
【解決手段】ステージ１６０と光学ヘッド１７０のボックス１７２とに挟まれた空間ＳＰの搬送ロボット１２０と反対側に気体吹出部１９０が配置されている。気体吹出部１９０は、空調器１９１で温調された空気を上記空間ＳＰに向けて吹き出し、気体吹出部１９０から吹き出された温調気体は横向きに流れて空間ＳＰを通過する。上記空間ＳＰを通過した空気は搬送ロボット１２０に流れ込む。搬送ロボット１２０の下方部に排気口１９２が設けられるとともに、排気口１９２が配管１９３を介して空調器１９１に接続されている。排気口１９２を設けたことで搬送ロボット１２０を取り囲む雰囲気は排気されて、同雰囲気内で下向きの気流、つまりダウンフローが形成される。 （もっと読む）

【課題】液体の漏洩や浸入を抑えることのできる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐ上にパターンの像を投影することによって、基板Ｐを露光する。露光装置ＥＸは、基板Ｐを保持する基板ホルダ５２を有し、基板ホルダ５２に基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージＰＳＴと、基板ホルダ５２に基板Ｐもしくはダミー基板が保持されているか否かを検出する検出器と、検出器の検出結果に応じて、基板ステージＰＳＴの可動領域を変更する制御装置ＣＯＮＴとを備える。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、基板の露光において射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように基板との間に第１液浸空間を形成する液浸部材と、光路に対する放射方向に関して液浸部材の外側に配置され、基板の露光において第１吸引力で気体を吸引し、液浸部材のクリーニングの少なくとも一部において第１吸引力よりも小さい第２吸引力で気体を吸引する吸引口とを備える。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる液浸部材を提供する。
【解決手段】液浸部材は、物体に照射される露光光の光路が第１液体で満たされるように、物体との間で第１液体を保持して液浸空間を形成する。液浸部材は、物体上の第１液体の少なくとも一部を回収する回収口と、光路に対して回収口の外側に配置され、第１液体に面するときに第２液体を供給し、第１液体に面しないときに第２液体を供給しない供給口と、回収口から回収される第１液体の少なくとも一部が流れる回収流路と、供給口に供給される第２液体の少なくとも一部が流れる供給流路と、回収流路の少なくとも一部と供給流路とを結ぶ接続流路とを備えている。 （もっと読む）

【課題】スループットを改善することのできる基板処理装置、及び基板処理装置の温調方法、及びこれら基板処理装置や温調方法を用いるデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】大気圧下にあるウエハＷの雰囲気を減圧して減圧雰囲気に変更する第１チャンバ１６と、減圧雰囲気に維持され、第１チャンバ１６から搬送されたウエハＷに所定の処理を施す第２チャンバ１２とを備える。そして、第２チャンバ１２内の温度を、第１チャンバ１６内で大気圧から減圧雰囲気への変更に伴って変化するウエハＷの温度に対応する設定温度に調整する温調機構を備える。 （もっと読む）

【課題】液浸液中の洗浄液の濃度を確実に規定値以下とすることが可能な液浸露光装置を提供する。
【解決手段】投影光学系１４下端部の鉛直下方に配設可能で、露光対象膜を有する半導体基板を載置し、退避可能な基板ステージ１７、投影光学１４系下端部と露光対象膜との間に液浸液を満たすように供給する液浸液供給部３２及び液浸液を排出する液浸液排出部３６と液浸液排出管３７、基板ステージ１７を置き換えて、投影光学系１４下端部の鉛直下方に配設可能で、供給口から排出口へ流れる洗浄液２５または液浸液を保持し、退避可能な洗浄ステージ１５、洗浄ステージ１５中に、液浸液と接した接触領域を含むように洗浄液２５を供給する洗浄液供給部２１及び洗浄液を排出する洗浄液排出管２８、並びに、液浸液排出管３７に配設され、液浸液中の洗浄液２５の濃度を測定する濃度測定器３０を備える。 （もっと読む）

【課題】投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、基板を露光する露光装置であって、投影光学系の像面付近に配置された部品上に残留した液体を除去する液体除去機構を備えている。 （もっと読む）

【課題】露光ユニットを大気開放することなくレチクルステージを洗浄することができる洗浄用レチクル、レチクルステージの洗浄方法及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】極端紫外線露光装置のレチクルステージの洗浄方法において、基板上にパーティクル取込層が形成された洗浄用レチクルのパーティクル取込層をレチクルステージに押し付ける工程と、洗浄用レチクルをレチクルステージから剥離する工程と、基板上からパーティクル取込層を除去する工程と、パーティクル取込層が除去された基板上に新たにパーティクル取込層を形成する工程と、を設ける。 （もっと読む）

【課題】レーザ干渉計システムの計測精度を向上させる。
【解決手段】基板ステージ装置には、基板Ｐが載置された微動ステージ２１の位置情報を計測するためのＸ干渉計６０Ｘから照射されるレーザビームＬ１、Ｌ２の光路の上方にエアガイド装置７０が設けられている。エアガイド装置７０は、Ｘ干渉計６０Ｘから照射されるレーザビームＬ１，Ｌ２の上方に沿って配置されたガイド部材７１の下面に気体を噴出し、その気体は、コアンダ効果によりガイド部材７１の下面に付着した状態で、高速でレーザビームに平行に流れる。そして、高速で流れる気体に光路近傍の気体がベルヌーイ効果により引き寄せられることにより、その光路近傍の空気ゆらぎが抑制される。 （もっと読む）

【課題】コンタミナントがリソグラフィ装置の投影系に侵入するのを防ぐ効果を改善する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、パターン形成された放射ビームを基板上に投影するよう構成された投影系を備える。投影系は、パターン形成された放射ビームが通過可能な開口部を備える。開口部の少なくとも一部は、投影系の壁の傾斜面と、投影系のミラーの傾斜面とを備える。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜を露光する工程において生産性の低下を招くことなくバブル欠陥の発生を防ぐ。
【解決手段】レジスト膜４ａを露光する工程では、液膜１７の中央を中心とした直径が異なる２種類の内側エアナイフ８及び外側エアナイフ９における、露光光の走査方向に対する前方側半周部分と後方側半周部分の一方側を用いて、レジスト膜４ａの上に液膜１７を保持しながら、露光光の走査方向に対する前方側半周部分に生じさせる内側エアナイフ８の直径を、後方側半周部分に生じさせる外側エアナイフ９の直径よりも小さくした状態で露光を行う。 （もっと読む）