【課題】リソグラフィ装置のための変位測定システムを較正するための改善された方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置の可動物体の第１方向の変位を測定放射ビームおよびリフレクタを使って測定するように動作可能な干渉型変位測定システム。リフレクタは、実質的に平面的で、かつ第１方向に実質的に垂直である。較正は、可動物体の角位置の第１組の測定値を使って得られる。測定ビームの位相オフセットが影響を受ける。可動物体の角位置の第２組の測定値が得られる。干渉型変位測定システムは、第１および第２組の測定値に基づいて較正される。 （もっと読む）

【課題】汎用性の高い横座標の校正方法によって横座標を校正する形状計測装置、及びその横座標校正方法を提供する。
【解決手段】複数の開口が形成され、これら複数の開口の配列によって校正パターンを形成するアパーチャー板２０をワークＷの被検面Ｗｓの前面に配置する。この開口を通過すると共に、被検面Ｗｓで反射され、再度開口を通過した測定光Ｌｍを撮像素子５によって検出する。撮像素子上にて結像した校正パターンの横座標位置と、予め計測されている校正パターンの基準横座標位置とを、演算装置７によって比較することによって、形状計測装置１の横座標を校正する。 （もっと読む）

【課題】シアリング干渉測定装置においてシア量を高精度に決定するために有利な技術を提供する。
【解決手段】撮像素子の撮像面におけるシア量が第１の目標シア量Ｓ１になるように駆動機構に回折格子を駆動させたときに前記撮像素子によって得られる第１の干渉縞データを複数のシア量のそれぞれを使って処理することによって得られる複数の波面をそれぞれ近似する複数の多項式のそれぞれにおける少なくとも１つの係数と当該複数のシア量との関係を示す直線１を決定し、前記撮像面におけるシア量が第２の目標シア量Ｓ２になるように前記駆動機構に前記回折格子を駆動させたときに直線１と同様にして直線２を決定し、直線１、２におけるシア量の差分ＤＤが第１の目標シア量Ｓ１と第２の目標シア量Ｓ２との差分ＳＤと等しくなる直線１、２におけるシア量Ｓ１Ｔ、Ｓ２Ｔをそれぞれ真のシア量として決定する。 （もっと読む）

【課題】高精度な面形状計測に有利な面形状計測装置を提供する。
【解決手段】計測装置は、基準点を通過し被検面で反射し基準点に戻る被検光と参照光との干渉波を検出する検出器を含む計測ヘッドと、計測ヘッドを走査する走査機構と、検出された干渉波に基づき被検面の形状を算出する処理部とを備える。処理部は、検出された干渉波から参照光と被検光との間の光路長差を算出し、被検面の形状のノミナル値と計測ヘッド内の光学部品の光学情報とに基づき、検出器における被検光の被検波面及び参照光の参照波面を光学演算により算出し、算出した被検波面及び参照波面から被検光と参照光との間の波面差を算出し、当該波面差から該波面差による位相誤差を算出し、算出した光路長差を算出した位相誤差に基づき補正し、当該光路長差に基づき基準点と被検面との間の距離を算出し、算出した基準点と被検面との間の距離と基準点の座標とに基づき被検面の形状を算出する。 （もっと読む）

【課題】干渉縞の濃淡に基づき対象物の形状を測定する光学干渉測定装置において、干渉縞の観測対象領域を自動的に設定する。
【解決手段】ベースプレート３６と、これの上に置いたブロックゲージ３４の干渉縞画像を複数得る。取得した複数の画像において、ベースプレートとブロックゲージの境界であるエッジ抽出を行い、エッジ画像を得る。エッジ画像を加算して、さらに所定のしきい値により二値化し、ベースプレートとブロックゲージの境界を抽出する。得られた境界に基づきブロックゲージ上の干渉縞画像を得る。 （もっと読む）

【課題】試験対象物の第１及び第２表面を干渉法によってプロファイルすることに加えて、第１基準面と第２基準面との間の空間的関係に基づき、試験対象物の幾何学的特性を測定する。
【解決手段】本発明は、試験対象物の幾何学的特性を測定するための方法を特徴とする。この方法は、第１基準面に対して、試験対象物の第１表面を干渉法によってプロファイルする工程と、第１基準面とは異なる第２基準面に対して、試験対象物の第２表面を干渉法によってプロファイルする工程と、第１基準面と第２基準面との間の空間的関係を提供する工程と、干渉法によってプロファイルした表面、並びに第１基準面と第２基準面との間の空間的関係に基づいて、試験対象物の幾何学的特性を計算する工程とを含む。ある実施形態では、この空間的関係は、校正済みのゲージ・ブロックを使用することによって、または変位測定干渉計を使用することによって測定することができる。対応するシステムも説明される。 （もっと読む）

干渉計システムは、２つの間隔を空けて配置された参照フラットを含み得る。前記２つの間隔を空けて配置された参照フラットは、２つの平行参照表面間に光キャビティを形成する。第１のおよび第２の基板表面が対応する第１の参照表面および第２の参照表面に実質的に平行な様態で、前記第１のまたは第２の基板表面の間の空間が前記参照表面または減衰表面のうち対応するものから３ミリメートル以下の位置に来るように、前記基板を前記キャビティ内に配置するように基板ホルダが構成され得る。前記キャビティの直径方向において対向する両側においてかつ前記キャビティ光学的に結合して、干渉計デバイスが設けられ得る。
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【課題】干渉計の原点の検出に関して、光源からの光の波長が変化した場合にも（実環境においても）高い再現性を実現できる。
【解決手段】第１の波長の第１光源からの光による第１の干渉信号と第２の波長の第２光源からの光による第２の干渉信号との位相差が０となる位置を原点とする干渉計の調整方法であって、前記第１の波長がλ１、前記第２の波長がλ２である場合における原点に対する前記第２の干渉信号の振幅が最大となる位置の相対位置Ｄを求めて、パラメータの値ＰをＰ＝Ｄ／λ２（λ２−λ１）の式に従って算出し、このパラメータの値Ｐに基づいて、前記第１の波長がλ１からλ１’、前記第２の波長がλ２からλ２’に変化した場合における前記原点の移動量ＢをＢ＝Ｐ・（λ１’・λ２’−λ１・λ２）の式に従って算出し、この原点の移動量Ｂに基づいて、前記第１の波長がλ１’、前記第２の波長がλ２’である場合における原点を決定する調整方法。 （もっと読む）

【課題】使用者が使用環境下で簡便に実施できる斜入射干渉計における測定感度の校正方法を提供すること。
【解決手段】対象物３０を傾斜ステージ１５に載置して第１干渉縞を取得後、所定の角度だけステージ１５Ａを傾斜させて、その傾斜角度の変化量σを取得するとともに、第２干渉縞を取得する。第１干渉縞の像中の２点の各位相φ1Ａ，φ1Ｂの差である第１位相差Δφ1、および、第２干渉縞の像中の２点の各位相φ2Ａ，φ2Ｂの差である第２位相差Δφ2を算出し、第１位相差Δφ1と第２位相差Δφ2との差分ΔΦを取得する。２点間の距離Ｌおよび傾斜角度の変化量σに基づく傾斜前後の対象物面上の２点の高低差の変化量ΔＨを算出し、変化量ΔＨを差分ΔΦで叙した算出値を用いて測定感度である縞感度Λを校正する。 （もっと読む）

【課題】２波長レーザ干渉計を、長ストロークの測定範囲に渡って詳細かつ高精度に評価、校正することが可能な２波長レーザ干渉計評価校正方法、評価校正装置および評価校正システムを提供する。
【解決手段】２波長レーザ干渉計１の測定光束の光路上に配置され測定光束と対向する端面の内外面に平面ミラー２２，２３を有する真空容器２と、この真空容器の端面を測定光束の光路に沿って移動させる駆動機構３と、測定光束を真空容器内に導くとともに、真空容器内の反射面よって反射された光束と参照面によって反射された光束を重ね合わせて真空容器内の反射面の変位量を求める基準レーザ干渉計４と、駆動手段によって真空容器を移動させたときに、基準レーザ干渉計によって得られた測定値と２波長レーザ干渉計によって得られた測定値とを比較し、２波長レーザ干渉計を評価、校正する評価校正手段５とを備える。 （もっと読む）

【課題】
液浸露光装置の投影光学系の波面収差を高精度に測定する波面収差測定装置を提供する。
【解決手段】
光源からの光を被検光と参照光とに分離し、投影光学系に前記被検光を入射させる入射光学系と、前記投影光学系から出射される前記被検光を、再び、同一光路で前記投影光学系に向けて反射する反射光学系と、前記反射光学系により反射され前記投影光学系から出射される前記被検光と、前記投影光学系を通過しない前記参照光との干渉により生成された干渉縞を検出する検出器と、を有し、前記投影光学系と基板との間の浸液を介して前記基板を露光する露光装置の前記投影光学系の波面収差を測定する波面収差測定装置において、前記反射光学系を回転させる回転機構および傾斜させる傾斜機構を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 干渉計測装置がもつシステムエラーを短時間で簡便に保証し、絶対値計測の回数を減らす。
【解決手段】 被検光と参照光を干渉させて得られた干渉縞の計測データから、被検物１の透過波面を計測する際、被検用光束を計測用球面ミラー２で反射させて波面計測を行い、かつ複数の校正用球面ミラー４、５、６、７のそれぞれで反射させて波面計測を行うとともに、２回目以降の透過波面計測時は、今回及び前回得られたデータに基づいて前回計測時に対するシステムエラーの変化を検知する。 （もっと読む）

【課題】 反射面の表面形状を高精度に求める。
【解決手段】 ステージＷＳＴを反射面２４Ｘの延設方向にほぼ一致するＹ軸方向に沿って所定ステップ間隔でステップ移動し、Ｘ軸方向に関するステージの位置を計測するためにＹ軸方向に所定間隔隔てた２つの測長軸ＷＸＭ，ＷＸＢを有する第１レーザ干渉計２６Ｘ₁を用い、ステップ移動位置（図２のＰ₁〜Ｐ_M）毎に、少なくともＸ軸方向に関する位置が異なる複数点で第１レーザ干渉計２６Ｘ₁の各測長軸位置での測定データを求める。そして、ステップ移動位置毎に、複数点における第１レーザ干渉計の各測長軸位置での測定データの平均値の差分、又は該測定データの差分の平均値を算出することで、反射面の測長軸間隔毎の離散的な形状誤差を計測する。そして、この形状誤差に基づいて、反射面の形状を求める。 （もっと読む）

【課題】測定する傾斜角度が所定の角度範囲に限定されるような傾斜角度測定用の干渉計における角度感度を、容易かつ高精度に較正することが可能な干渉計角度感度較正方法を得る。
【解決手段】被検面の傾斜角度に対応した所定の被測定角度範囲内においては、被検面の単位長さあたりの干渉縞の本数と傾斜角度との間に、比例関係が成立するとみなして所定の角度感度式を設定し、この設定した角度感度式の比例係数を、被測定角度範囲内の基準傾斜角度をなすように設定された基準傾斜面３１の測定結果に基づき較正する。 （もっと読む）

【課題】光軸偏向型レーザ干渉計の基準球に対する２軸回転機構の運動精度による光軸方向の誤差を補正するための変位計を特別な校正装置を準備すること無く、校正ができ、トレーサビリティを確保する。
【解決手段】測定の基準球３４と、測定対象１０に配設される再帰的反射手段１２と、該再帰的反射手段１２との距離を測定するレーザ干渉測長機２０と、前記基準球３４を中心として回動するための回動機構３０とを有し前記基準球３４の中心座標を基準とし前記回転機構３０に載ったレーザ干渉測長機２０からの出射光と戻り光の光軸が平行となる再帰的反射手段１２との距離を測定する光軸偏向型レーザ干渉計において、前記基準球３４とレーザ干渉測長機２０との相対運動による誤差を測定する変位計５０Ｒ、５０Ｌと前記レーザ干渉測長機２０と変位計５０Ｒ、５０Ｌの相対位置関係を保ったままで基準球３４に対して測定光軸方向に変位させる機構（５２）とを備える。 （もっと読む）

【課題】干渉計で測定した面形状測定データの横座標を効率的に校正可能であって、多種多様な被検物にも容易に適用可能な座標校正方法を提供する。
【解決手段】遮光板２を被検物１と一体化し、遮光板２のエッジ２ａにより測定領域を限定したうえで干渉計による面形状測定を実施する。また、遮光板２により限定された測定領域と被検面１ａの基準座標との位置関係を、それぞれの基準面１ｂ、１ｃ、２ｂ、２ｃによって特定し、測定領域の相対位置情報を別途求めておく。そして、干渉計の測定結果から遮光板２により限定された測定領域を抽出し、被検物１上の基準座標系に対する前記相対位置情報に基づいて、干渉計による面形状測定データの横座標を校正する。 （もっと読む）

【課題】位相シフトデジタルホログラフィを用いた変位計測において、3次元変位計測を一挙に且つ短時間で行う手法を提供する。また、変位計測手法によって得られた変位分布からひずみ分布を算出する手法も提供する。
【解決手段】a) 計測物体に３つの異なる方向から同一波長の物体光を照射し、b) 物体光と同一波長を有する３つの参照光と計測物体からの反射光との干渉像を、各参照光の位相を互いに異なる速度で物体光に対して変化させつつ複数枚、２次元撮像素子で撮影し、c) フーリエ変換を用いて位相変化速度の異なる干渉成分を抽出することにより３つの物体光による干渉像を分離し、d) 各干渉像より、各物体光の照射方向に応じた方向の計測物体の変位分布を計測することにより計測物体の３次元変位を計測する。 （もっと読む）

【課題】絶対距離測定の誤差を低減または除去させることができる干渉計測定システムを提供する。
【解決手段】レーザ干渉計に基づく絶対的距離測定装置は、低、中、高解像度の測定技術を組み合わせて、サンプル表面までの絶対的距離を高解像度で求めることができる。前記装置は、少なくとも２つのレーザ波長を同時に提供して、動誤差成分を含めて、特定の共通モード誤差成分の低減や除去を可能とする。前記装置は、比較的狭い領域にわたって、レーザ波長の少なくとも１つを走査することができ、直交検出器を使用して、特定の自己補正を、結果として生じる走査信号および測定について行うことを可能とするのに十分な信号データを提供する。 （もっと読む）

【課題】温度、気圧等の外部影響因子の変化等の生成にも拘わらず、高精度な（相対）位置測定を可能にする位置決めテーブルの相対位置を求めるための測定装置及び方法。
【解決手段】干渉測定装置２５、２７は、少なくとも１つの波長を有するレーザ２２のレーザ光によって作動可能に構成され、周囲影響因子に基づいた前記レーザ光の波長の変化を顧慮して前記測定結果を評価するために、干渉較正装置２９、３２が、前記位置決めテーブル１８の位置決め運動中における前記レーザ光の実際に存在する（含まれる）波長を（帰納的に）導出することが可能な較正結果（複数）を生成するよう構成された測定装置において、前記干渉較正装置２９、３２は、前記干渉測定装置２５、２７に対し空間的に近接して配されること、及び前記空間的近接は、前記位置決めテーブル１８の前記最大走行路（Ｘｍａｘ、Ｙｍａｘ）の予め設定可能な部分に相応することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】干渉効率或るいはビジビリティの低下の原因となる干渉光を特定し，特定した干渉光を除去することにより干渉効率或るいはビジビリティの低下を軽減することが可能な干渉計及び該干渉計を用いたフーリエ分光装置を提供すること。
【解決手段】ビームスプリッタ３により生成された干渉光の波面画像を検出器１４で連続的に撮像し，撮像された連続波面画像に基づいて該連続波面画像における複数の分割領域（領域α，β，γ）ごとの干渉光波の位相差を算出し，算出された位相差に基づいて複数の分割領域ごとの干渉光波の同期性を判定し，同位相であると判定された干渉光のみを透過させるように，生成された所定位相の干渉光のみを透過させる透過制限装置６を制御する。 （もっと読む）