【課題】半導体ウエハ上に形成されたエピタキシャル層の層厚測定用試料を簡便に製造できる層厚測定用試料製造装置を提供する。
【解決手段】エピタキシャル層３が形成されたウエハ片１を、そのエピタキシャル層３の一部を残してエピタキシャル層３をエッチングして層厚測定用試料を製造し、エッチング後のウエハ片１上に段差として残ったエピタキシャル層３の層厚を測定するための層厚測定用試料製造装置１０において、ウエハ片１を挟み込む開閉自在の２枚の樹脂板１１，１２と、これら２枚の樹脂板１１，１２の一方に設けられ、ウエハ片１上に形成されたエピタキシャル層３の一部をエッチングから保護すべくエピタキシャル層３の一部と密着するエッチング防止ゴム１３とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】マイクロレンズアレイを用いた技術を適用したうえで、解像力を向上させることができ、且つ解像力を任意に変更させることができる顕微鏡装置を提供する。
【解決手段】標本Ｓからの観察光を集光する観察光学系ＯＳ２と、観察光をそれぞれ受ける位置に配列された複数のマイクロレンズＭＬを有するマイクロレンズアレイ２６と、それぞれのマイクロレンズＭＬに対して複数の画素が割り当てられ、各マイクロレンズＭＬを介して複数の画素で受光した観察光に基づき撮像データを取得する撮像素子３０と、マイクロレンズアレイ２６に入射する前の観察光を受ける位置に配置され、観察光を偏向させて観察光が各マイクロレンズＭＬを介して撮像素子３０に受光される位置を相対的に移動させる像シフト装置４０と、撮像素子３０で取得された撮像データに対して所定の処理を施す画像処理部３１とを備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】 ワークの寸法を高い精度で測定することができるとともに、被写界深度を越える段差を有するワークであっても、測定対象とする箇所を容易に設定することができる寸法測定装置を提供する。
【解決手段】 可動ステージ１２上のワークＷを撮影する撮像手段と、可動ステージ１２のＺ方向の位置が異なる複数のワーク画像を深度合成し、深度合成画像を生成する深度合成手段と、マスターピースを撮影して得られる深度合成画像をマスター画像Ｍ１として画面表示するマスター画像表示手段と、マスター画像Ｍ１に対し測定対象箇所及び測定方法を指定し、測定箇所情報を生成する測定箇所情報生成手段と、測定箇所情報に基づいて、ワークＷを撮影して得られた深度合成画像から測定対象箇所のエッジを抽出するエッジ抽出手段と、抽出されたエッジに基づいて、測定対象箇所の寸法値を求める寸法値算出手段により構成される。 （もっと読む）

【課題】 低倍率視野内のワークを高倍率視野内へ自動搬送してワークの寸法を高い精度で測定することができる寸法測定装置を提供する。
【解決手段】 ＸＹ方向に移動可能な可動ステージ１２と、特徴量情報及び測定箇所情報を保持する測定設定データ記憶手段と、ワークＷを低倍率で撮影し、低倍率画像を生成する低倍率撮像手段と、特徴量情報に基づいて、低倍率画像におけるワークＷの位置及び姿勢を特定するワーク検出手段と、特定された位置及び姿勢に基づいて、ワークＷの測定対象箇所が高倍率視野内に収まるように、可動ステージ１２を制御するステージ制御手段と、高倍率視野内に移動した測定対象箇所を高倍率で撮影し、高倍率画像を生成する高倍率撮像手段と、測定箇所情報に基づいて、高倍率画像から測定対象箇所のエッジを抽出するエッジ抽出手段と、抽出されたエッジに基づいて、測定対象箇所の寸法値を求める寸法値算出手段により構成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、比較的安価で狭視野なテレセントリックレンズなどの光学系レンズを使用して高精度、かつ全体を見渡した測定を行うことが可能となる測定顕微鏡に関するものである。
【解決手段】本発明は、ステージ１上に載置された被検物Ｂを撮影するために光学系レンズ５を装着した被検物撮影カメラ２と、前記被検物Ｂ周辺を含んで撮影する周辺撮影カメラ４とを設置し、前記周辺撮影カメラ４で撮影した映像内に前記被検物撮影カメラ２で撮影した映像を出力した測定顕微鏡Ａである。 （もっと読む）

【課題】試料表面を正確に検出することができるレーザ共焦点顕微鏡及び表面検出方法を提供する。
【解決手段】照明光を射出するレーザ光源２と、試料１１に照明光を照射する対物レンズ１０と、対物レンズ１０の焦点位置と試料１１の間の距離を変化させるステージ１７と、レーザ光源２と対物レンズ１０の間に配置され光を偏光特性で分離する偏光ビームスプリッタ３と、偏光ビームスプリッタ３と対物レンズ１０の間に固定されたλ／４板７と、偏光ビームスプリッタ３と対物レンズ１０の間で挿脱可能なλ／４板８と、焦点位置と光学的に共役な位置に配置された共焦点絞り１３と、共焦点絞り１３を通過した試料１１からの検出光の強度に応じた信号を出力する光検出器１４と、を含んでレーザ共焦点顕微鏡を構成する。多重反射試料を観察する場合にλ／４板８を偏光ビームスプリッタ３と対物レンズ１０の間に挿入して観察する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、高温加熱中の対象物を微細に計測するため、熱源との距離が近い光学計測器を熱気から保護し、安定した計測を可能とする計測器の実現を目的とする。
【解決手段】 対象物と光学計測器との間に平行平面な透明体を配置し、光学計測器と透明体の間に強制対流を発生させる空冷または液体冷却と、前記透明体を支持し、液体を使った冷却が可能な熱交換器により、光学計測器への熱気を遮断する光学計測器用断熱装置を構成するようにした。 （もっと読む）

【課題】プロファイルラインの指定と関心領域の指定との相互間の位置関係を容易に把握できるようにする。
【解決手段】画像表示領域１０８での試料の平面画像の表示に対してなされる、試料のプロファイルを表すプロファイル画像における当該プロファイルの表示範囲の指定を、演算部１０３が取得する。プロファイル描画部１０５は、当該表示範囲のプロファイル画像をプロファイル表示領域１０９に表示させる。演算部１０３は、画像表示領域１０８での平面画像の表示に対してなされる関心領域の指定を取得し、プロファイル描画部１０５でのプロファイル画像での表示において、当該関心領域に対応する範囲を判別する。プロファイル描画部１０５は、プロファイル表示領域１０９でのプロファイル画像における、当該関心領域の範囲内の画像と当該範囲外の画像とを、異なる態様にして表示させる。 （もっと読む）

【課題】経済的負担を伴うことなく、倍率切替時に生じる光軸のずれによる影響を極力低減し、高精度な測定を実現できる光学ユニットおよび測定装置を提供する。
【解決手段】対物レンズ１と、この対物レンズ１の光軸上に配置され対物レンズ１から出射された光束を結像する結像レンズ２と、対物レンズ１と結像レンズ２との間に配置されアフォーカル倍率α１，α２が異なる複数のアフォーカル光学系１１，１２と、この複数のアフォーカル光学系１１，１２のいずれかを対物レンズ１の光軸上に切替える切替手段２１とを備える。 （もっと読む）

【課題】安価で高精度且つ高速に高さ情報を測定可能な走査型レーザ顕微鏡を提供することを課題とする。
【解決手段】光偏向器９により被検物３上をライン状に走査して得られる１ライン分の高さプロファイルを、その走査方向に所定量だけずらしながら複数取得する。演算処理部１９は、取得した複数の高さプロファイルを繋ぎ合わせて１つのプロファイルを求める。 （もっと読む）

【課題】観察面の高さ（光軸方向位置）によらず高効率かつ略均一な照明領域を得ることができる照明光学装置を提供する。
【解決手段】照明光学装置１０は、光源１１と、正の屈折力を有する光学系１２と、屈折力を有しないアフォーカル光学系１３とを有している。光学系１２とアフォーカル光学系１３とは、合わさってコンデンサレンズ(１２,１３)として機能する。光源１１からの光束は、コンデンサレンズ(１２,１３)を介して、光照射面１０Ａに導かれる。コンデンサレンズ(１２,１３)は、光源１１と光照射面１０Ａとの間に配置され、かつ、光照射面１０Ａをテレセントリック照明するように配置されている。つまり、コンデンサレンズ(１２,１３)の前側焦点面に光源１１を配置し、後側焦点面を光照射面１０Ａとしている。アフォーカル光学系１３は、照明領域（光照射面１０Ａ）を光軸方向に調整する際の可動部（調整群）である。 （もっと読む）

【課題】 干渉光学系以外の光学系における観察光学系によって、干渉光学系と干渉光学系以外の光学系におけるサンプルの高さ情報の取得範囲を設定でき、サンプルの３次元形状画像を短時間に容易に取得することができる３次元形状観察装置を提供する。
【解決手段】 フィルタ切換機構１９は、バンドパスフィルタ２１を光軸上に配置し、第１の撮像素子１６は、可視光による光学顕微鏡観察像を撮像し、制御本体部５１は、光学顕微鏡観察画像を用いてサンプル１７の観察位置の調整と、フォーカス位置の調整と、干渉光学系と光学顕微鏡光学系の両方の高さ情報の取得範囲（取得範囲Ｄ１，Ｄ２）を設定する。 （もっと読む）

【課題】 共焦点レーザ走査型顕微鏡における全焦点画像と顕微干渉計測法における高さ画像を効率よく取得することで、試料の３次元形状画像を短時間に取得することができる３次元形状観察装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、試料１７を載置するステージ２００と、試料１７の上方に配置される干渉対物レンズ３００と、共焦点レーザ走査型顕微鏡における光学系４００ａと、顕微干渉計測法における光学系４００ｂと、ステージ２００と、干渉対物レンズ３００を搭載する顕微鏡本体４００と、試料１７の３次元形状を観察する際に画像処理や顕微鏡本体４００を制御する制御部５００と、を有し、例えば干渉対物レンズ３００を連続して光軸に沿って移動させ、相対距離を連続的に変え、レーザ用受光素子１１と撮像素子１６から出力される出力信号を最適なタイミングで取得する。 （もっと読む）

【課題】調整要素が少なく調整機構を簡素かつローコスト化でき、操作が容易で、調整に伴う光学像の位置変動がない光学検査装置を実現する。
【解決手段】対物レンズ側から、対物レンズ、ビームスプリッター、結像レンズを位置づけ、ビームスプリッターに入射する光で物体を照明し、その反射光の光束の一部を、開口を有する遮光板を光軸と交差させて遮って、回折を生じさせることで、結像面に結像した物体の不均一部分の光学像の明るさの変化を強調する。このとき遮光板をビームスプリッターと対物レンズとの間、又は対物レンズを構成する複数のレンズの何れかのレンズの間で対物レンズ側光軸と交差させると、結像面に結像した物体の不均一部分の光学像の明るさの変化を最も強調することができる。また外光を用いるときには、ビームスプリッターを有しない構成とすることができる。 （もっと読む）

【課題】異方性導電膜を用いて透明基板に実装した電子部品の実装状態の自動的な良否の判定を、確実に行う。
【解決手段】電子部品の実装状態検査方法において、異方性導電膜を介して電子部品が実透明電極に実装された場合に、透明基板に設けられている電極に形成された凸状部を強調する微分フィルタ処理を施す工程（Ｓ４）と、微分フィルタ処理により強調された凸状部と予め用意してある圧痕モデルとをパターンマッチングし、マッチング率が設定値以上である凸状部を圧痕候補として抽出する工程（Ｓ５）と、圧痕候補として抽出された凸状部の濃淡値の差が設定値以上である場合に凸状部を圧痕であると判定する工程（Ｓ６、Ｓ７）と、圧痕であると判定された個数をカウントする工程（Ｓ９）と、圧痕としてカウントされた数が設定値以上であるか否かにより透明基板への電子部品の実装状態の良否を判定する工程（Ｓ１１、Ｓ１２）とを備える。 （もっと読む）

【課題】試料の測定対象面に段差が存在する場合、反射率の異なる部位が存在する場合、または透過面が存在する場合においても、これらの影響を受けずに測定を行うことができる共焦点走査型光学顕微鏡システムを提供する。
【解決手段】共焦点走査型光学顕微鏡システムは、試料の測定対象範囲となる領域を複数に分割した領域である分割領域と、該分割領域に対応して設定される該分割領域についての光軸方向に関する観察範囲である分割領域観察範囲と、を設定し、相対位置変位手段によりその各分割領域観察範囲を試料を変位させて、該分割領域観察範囲内で取得された２次元画像の各画素データから代表となる画素データである代表画素データを取得し、その代表画素データに基づいて、観察画像を構築することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】測定点のアライメント作業を容易に行える安価な測定顕微鏡装置を提供する。
【解決手段】測定顕微鏡装置は、被検体２１を水平移動させるＸＹステージ２２と、被検体２１を観察する観察光学系１０と、観察光学系１０の対物レンズ１１を上下移動させるＺステージ１５と、対物レンズ１１を介して被検体２１に測定光を照射して合焦を検出する焦点検出系３０と、焦点検出系３０と対物レンズ１１を光学的に結合するハーフミラー１７と、焦点検出系３０による検出結果に基づいてＺステージ１５を制御する信号処理部４１と、Ｚステージ１５による対物レンズ１１の移動量を測定する測定部４２とを有している。さらに測定顕微鏡装置は、焦点検出系３０とハーフミラー１７の間の光路上に配置された２つのウェッジプリズム５１ａと５１ｂと、ウェッジプリズム５１ａと５１ｂをそれぞれ回転可能に保持している回転機構５２ａと５２ｂとを有している。 （もっと読む）

【課題】方向性を有する欠陥であっても、欠陥の方向性に依存することなく欠陥像を撮像できる微分干渉顕微鏡を提供する。
【解決手段】本発明による微分干渉顕微鏡は、試料の微分干渉像を撮像装置(11)により撮像し、その映像信号を画像処理装置に出力する。画像処理装置において、第１のシャーリング方向の第１の微分干渉像と第１のシャーリング方向と直交する第２のシャーリング方向の第２の微分干渉像とを画像合成する。画像合成に際し、第１の微分干渉像と第２の微分干渉像とを２乗和処理して画像合成を行う。２乗和処理により、画像の輝度情報の符号が反転するので、欠陥のエッジの周囲にそって明のリング状の画像部分が形成され、方向性の無い欠陥像が撮像される。 （もっと読む）

【課題】 光軸方向に垂直な面内のみならず光軸方向にも略均一な照明領域を得る。
【解決手段】 光源１１側から照明領域１６に向かって順に、複数のレンズエレメント３Ｂからなるフライアイインテグレータ１３とコンデンサレンズ１５とを配置する。コンデンサレンズの射出端面５Ａから照明領域までの最小の距離Ｌ₀、該照明領域の光軸方向のストロークＳ、射出端面５Ａからフライアイインテグレータの入射端面３Ａに共役な面１７までの距離Ｌは、「Ｌ₀≦Ｌ≦Ｌ₀＋Ｓ」を満足する。距離Ｌ₀、ストロークＳ、距離Ｌ、照明光の開口数ＮＡ_C、照野φ₁、フライアイインテグレータの射出端面３Ｃに内接する円の直径φ₂から成る関数により、レンズエレメントの口径比Ｆ_#は、「Ｌ≧Ｌ₀＋Ｓ／２のとき」と「Ｌ＜Ｌ₀＋Ｓ／２のとき」にわけた各々の条件式を満足する。 （もっと読む）

【課題】
空気揺らぎや機械振動といった外乱の影響を受けることなく、サブナノメートルオーダ以下の精度で計測対象物の変位量や移動量を安定に計測可能な変位計測方法及びその装置並びにプローブ顕微鏡等を提供することにある。
【解決手段】
パルス光を２つに分離し、一方は計測対象物で反射させた後、１パルス周期に相当する遅延光路に入射させ、他方は同じ光路を逆向きに遅延光路を経由して１パルス周期遅れて計測対象物に到達させ、反射させる。計測対象物の移動に伴って生じた光位相変化を、両パルス光を干渉させることにより求める。 （もっと読む）