【課題】被検物の表面形状の影響を受けることがないように投影パターンを生成して正確な三次元形状測定を行うことができるような測定装置を提供することを目的とする。
【解決手段】被検物に所定の投影パターンを投影するパターン投影部と、前記投影パターンが投影された前記被検物を撮像する撮像部と、前記撮像部により得られた撮像画像から前記投影パターンに対応する前記被検物の複数の部分の光軸方向の位置を演算する形状演算部と、前記パターン投影部により投影された前記投影パターンと前記撮像部により得られた撮像画像との位置の対応づけを行うとともに、前記撮像画像の画像面上の点の輝度を演算する輝度演算部と、前記輝度演算部により得られた前記撮像画像の画像面上の点の輝度により、前記投影パターン上の点に対して輝度の補正を行うパターン補正部とを備える形状測定装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】計測時間を大幅に短縮し、検査のスループット性を向上させることが可能な膜評価装置を提供することを目的とする。
【解決手段】被検査物（ウエハ１０）の表面に形成された膜（薄膜）へ平行な光束を照射する照明光学系（２０）と、前記光束の照射によって前記膜の表面及び裏面で反射する反射光束を受光する反射光学系（３０）と、前記反射光学系で受光した前記反射光束の強度分布情報を取得するデータ処理部（４０）と、前記膜の厚さ変動に対して前記反射光束の反射率変化が大きい前記照明光束の波長を選択する波長選択部（波長選択ユニット２２）とを具備する。 （もっと読む）

【課題】ウエハ等の被検査試料の製造装置や検査装置において、被検査試料に形成された各種パターンの位置合わせを短時間で容易にできるようにする。
【解決手段】板状に形成された被検査試料Ｔの外周縁Ｔ１，Ｔ３の形状と、該被検査試料Ｔと同様の外周縁形状を有する板状の基準試料Ｒの外周縁Ｒ１，Ｒ３の形状とが相互に略一致する位置に前記被検査試料Ｔを配置する試料位置決め手段と、これら被検査試料Ｔ及び基準試料Ｒの外周縁Ｒ１，Ｒ３，Ｔ１，Ｔ３の形状を相互に一致させた状態で、前記被検査試料Ｔに形成された被検査パターンＴ５の位置と、前記基準試料Ｒに形成された基準パターンＲ５の位置とのずれ量を算出するずれ量計測手段とを備えるパターン検査装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】計測が正しく行なわれないというトラブルが生じた場合に、そのトラブルの原因を迅速に究明できるようにする。
【解決手段】計測が行われると、計測結果および干渉波形のファイルを作成するとともに、その計測に用いた各種のパラメータのファイルのパラメータ内容をコピーしたコピーファイルを作成し、計測日付および計測単位毎の追い番を含むファイル名を付与するとともに、計測結果および干渉波形のファイルには、作成した日時をタイムスタンプとして付与する一方、コピーファイルには、元のパラメータのファイルの作成または更新に日時をタイムスタンプとして付与して保存するようにしている。 （もっと読む）

【課題】２次元状に受光素子が配置された光学式変位計において、ワークに応じて安定した受光量を得ることを可能とする。
【解決手段】測定対象物からの帯光の反射光を受光して、第１の方向の各位置における受光信号として出力するための２次元受光素子と、増幅器で得られた増幅信号の、第１方向における各ピークの分布が所定の範囲内となるように、投光部３の発光量及び増幅器の増幅率を含む操作量の少なくともいずれかのパラメータを制御するための受光レベル制御手段６１と、測定対象物の変位を測定する測定モードと、受光レベル制御手段６１の操作量を設定する設定モードとを切り替えるためのモード切替手段５３とを備え、設定モードにおいて、予め測定対象物に対して投光部３で帯光を照射し、第１の方向の各位置における増幅信号のピークの分布状態を測定し、受光レベル制御手段６１が、第１の方向における分布状態に応じて操作量を調整することができる。 （もっと読む）

【課題】光量調節を容易に行うことができ、スペースの制約を受けない干渉光学系、計測装置、露光装置及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】第２偏光板４２に入射する出力光Ｌが第１偏光板４１によって所定方向に偏光された状態になっているので、当該所定方向に対して第２偏光板４２の偏光方向を調整することにより、出力光Ｌの光量を調整することができる。これにより、出力光Ｌの光量の調整を容易に行うことができる。また、第１偏光板４１と第２偏光板４２と集光部４３とが一体的に構成されているので、これらの部材をコンパクトに配置することができる。 （もっと読む）

【課題】多数の歪み量を、ファイバ歪計を用いて簡単に測定する。
【解決手段】入射光に対する反射光の波長の反射中心波長からのずれ量が測定対象から印加された歪み量に応じて変化するＦＢＧを用いたファイバ歪計１３と、各ファイバ歪計がそれぞれ光カプラ１４を介して接続された光ファイバ１２と、光ファイバの一端から反射中心波長に対して微少波長ずれた測定波長のパルス波形を有した測定光ｃを印加する狭帯域光源１１と、光ファイ及びファイバ歪計の測定光に対する反射光特性ｆを測定する特性測定部２４と、反射光特性における各ファイバ歪計の反射光レベルの該当ファイバ歪計に歪みを印加していない状態における基準の反射光レベルからの変化量から、各ファイバ歪計に印加された歪み量を算出する歪み量算出手段３２と、算出された各歪み量を出力する歪み量出力手段３４とを備えている。 （もっと読む）

【課題】クリームはんだの組成にかかわらず、クリームはんだの状態を検出することができる検査装置および検査方法を提供する。
【解決手段】照明設定部９５ｂは、クリームはんだの組成に応じて照明装置５により照射する赤外光の強度を設定する。撮像装置６は、照明装置５により設定された光強度の赤外光をクリームはんだが塗布された基板に照射する。撮像装置６は、照明装置５により赤外光が照射された基板を撮像する。これにより、基板表面からの反射光の像を含む画像を取得することができる。 （もっと読む）

【課題】経時変化にかかわらず、クリームはんだの状態を検出することができる検査装置および検査方法を提供する。
【解決手段】設定部９５ｂは、はんだ相関データ９６ｄおよびＬＥＤ相関データ９６ｅに基づいて、照明装置５から照射される赤外光の強度を設定する。これにより、撮像装置６は、クリームはんだの所定の厚さに対応する画素が所定の光強度を有する基板表面からの反射光を検出することができる。この撮像装置６による画像に基づいて、クリームはんだの断面を検出することができる。したがって、クリームはんだや赤外線ＬＥＤ５ａの経時変化にかかわらずクリームはんだの状態を検出することができる。 （もっと読む）

【課題】用紙走行を行うセンサが異物などの外乱を受けて出力が変動してしまわないようにセンサ出力を調整することで、高信頼性の印刷装置を提供する。
【解決手段】スキューセンサに付着した汚れなどの影響でセンサ特性が変化しないよう一定の条件でスキューセンサの読み値が一定になるようにセンサの出力を調整する。また、スキューセンサに付着した汚れなどの影響でセンサ特性が変化した場合、一定の条件でスキューセンサの読み値が初期値から変化した割合を検出してセンサの変化した割合で制御目標値を補正する。 （もっと読む）

【課題】加工用レーザ光の焦点と加工対象物との位置合せを高精度で行うことが可能なレーザ加工装置を提供すること。
【解決手段】レーザ加工装置１は、ワーク２の加工を行うための加工用レーザ光とワーク２へ照射されるとともに加工用レーザ光よりも出力の小さな計測用レーザ光とを出射するレーザ光源３と、レーザ光源３から出射された計測用レーザ光の特性を測定するための第１受光素子４と、ワーク２で反射された計測用レーザ光の特性を測定するための第２受光素子５および遮蔽部材６とを備えている。 （もっと読む）

【課題】
照射レーザ光のみをガルバノミラーによって走査し反射光をそのまま受光器で受光する装置の場合でも、レーザ光の強度制御において制御に遅れが発生せず、又は外乱光の影響を受けにくく、測定精度の高いレーザ光照射測定装置を提供することにある。
【解決手段】
受光器の受光面から反射する受光面反射光を集光する集光レンズと、集光レンズにより集光された受光面反射光の受光量を検出するフォトセンサと、フォトセンサによって検出された受光量に応じてレーザ光照射器から対象物に照射されるレーザ光の光量を補正するレーザ光量補正手段とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被写体やレンズの倍率に依存せず、ノイズの影響が小さい最適な調光を実現する。
【解決手段】顕微鏡４１と、光源の光量を調整する調光器４４と、アンプゲインとシャッタスピードにより調光制御可能な撮像装置４０とを有し、調光器による輝度調整とカメラによる輝度調整とを、映像の輝度値により制御可能で、被写体やレンズ倍率に依存しない調光を行う。 （もっと読む）

本発明は、オブジェクトの断面高低値の測定を複数の画像特徴を組合わせることによって高精度化するための高速モアレ干渉（ＦＭＩ）方法及びシステムを提供する。本発明の１つの大きな態様は、単一画像Ｉ_a(x,y)の代わりに、２又は数個の画像Ｉ_a^´(x,y),Ｉ_a^″(x,y),…を生じさせるために、２又は数個の画像が異なる条件の下で捕捉されることである。これは、異なる格子投影“ｂ”,“ｃ”,“ｄ”で得られる画像のために反復される。これらの画像は、組合された画像又はマージ結合されたフェーズ値を提供するために組み合わされ、オブジェクトの断面高低値を定義するために使用される。
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【課題】被検物体の反射光の光量を撮像素子の検出範囲内に調整することのできる表面検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】光源からの光を色分解光学系で複数の色光に色分解し、複数の色光の光路にそれぞれ配置された調光手段で光強度を調整する。調光手段で調光された複数の色光は色合成光学系で色合成された後、被検物に照明される。被検物で反射された光の一部は、反射光検出器で複数の色光毎に光強度が検出され、残りの反射光は、撮像部で被検物の反射像が撮像される。反射光検出器で検出された複数の色光の各色光の強度が、所定の値になるように調光手段は制御部によって制御される。 （もっと読む）

本発明は、真空チャンバ内の積層プロセスを光学的にモニタリングするための測定装置に関する。ここで光源は真空チャンバ内に、基板保持部と、基板保持部の下方に配置されたブラインドとの間に配置されており、受光ユニットは真空チャンバ外に光源のビーム路内に配置されている。基板保持部は少なくとも１つの基板を収容するように設計されており、真空チャンバ内で、積層源上で運動可能であり、有利には軸を中心に回転する。ここで１つまたは複数の基板は、光源と受光ユニットとの間で透過度測定のためにビーム路と交差し、ブラインドは積層源上の測定領域を暗くする。
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【課題】 位置誤差の発生が防止出来る平面モータを実現する。
【解決手段】 複数のスライダーとプラテンに設けられた半導体レーザー光源で干渉計を構成し前記スライダーの位置を検出する平面モータにおいて、
複数のスライダーの位置検出の干渉計に使用される一つの半導体レーザー光源を具備したことを特徴とする平面モータである。 （もっと読む）

【課題】 試料を照射する装置を提供する。
【解決手段】 本装置は、入射レーザビームを試料に向けて出力するレーザと、複数の回折パターン部分を有する第１回折要素とを含む。第１回折要素は、その回折パターン部分のそれぞれが入射ビームパス内で選択的に配置されえるよう移動可能であり、第１回折要素の回折パターン部分は、入射ビームが異なる空間照明プロファイルを入射ビームの瞳平面において有するように設計され、一方で入射ビームのコヒーレンスによって生じる効果を減らす。この装置は、入射ビームの照射平面において光を空間的に分散させるよう構成される照明プロファイル要素と、入射ビームを試料に向けて導く複数の照明光学要素とをさらに備える。 （もっと読む）

【課題】 従来の厚みセンサにおいては、基台上に置いた試料上にボールなどを乗り上げさせ、そのボールの持ち上がった寸法を測定して厚みとするものであり、軟質部材ではボールの乗り上げにより試料が変形し、正確な厚みの測定は不可能であった。
【解決手段】 本発明により、厚みセンサ１はシート状部材７の厚み面の所定に範囲に所定の角度として赤外光を含む光線を照射する投光部２と、前記投光部からの光の前記厚み面からの反射光の光量を測定する受光部３と、前記受光部による測定器に基づき前記シート状部材７の厚みを測定する測定部４とから成ることを特徴とする厚みセンサとすることで、被測定物に応力を与えることなく測定可能として正確な寸法の測定を可能とし課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 従来よりも高速に、被対象物の変位を正確に測定することができるレーザ干渉変位測定方法およびレーザ干渉変位測定装置を提供する。
【解決手段】 正弦波状に変調した注入電流i（t）をレーザ光源10に入力する。レーザ光源10からの光は、被対象物Ｏの表面とファイバ32の出射端面に各々反射して干渉し、この干渉光がフォトダイオード41によって電気的な干渉信号S（t）に変換される。レーザ光源10に入力する注入電流i（t）は、急激な立上がりや立下りのない正弦波状の変化を繰り返すため、干渉信号S（t）を正しくサンプリング取得できる。そのため、当該サンプリング取得した複数の干渉信号S（t）の演算処理によって、被対象物Ｏの変位を正しく測定できる。 （もっと読む）