【課題】非球面形状を有する被検面を高精度に計測するのに有利な非球面形状計測装置を提供する。
【解決手段】光源１から射出された光を非球面形状を有する被検面１４に照射する照明光学系７と、前記被検面に照射する光の一部を遮光する遮光板６と、前記照明光学系及び前記遮光板を介して光が照射された前記被検面の一部の領域から反射される光束を計測するセンサ１０を有する撮像系と、前記センサにより計測されたデータから前記被検面の形状を算出する算出手段と、を有し、前記遮光板は、光軸に対し前記被検面の一部の領域の反対側が遮光されるように構成され、前記被検面の一部の領域から反射される光束と光軸との交点を複数の計測光交点とした場合、前記複数の計測光交点のうち前記被検面に最も近い計測光交点１６と前記被検面との間に配置される。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置における改良型測定システムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持する支持体と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、測定システムであって、測定放射ビームを提供する測定放射システムと、リフレクタ間で測定ビームの一部分を反射する少なくとも２つのリフレクタと、リフレクタの１つを通して伝送される測定ビームの少なくとも一部分の波長を検出するディテクタとを備える測定システムと、を含む。 （もっと読む）

【課題】表面形状の計測処理を効率的に行い、撮像装置のスループットを向上させる技術を提供する。
【解決手段】撮像装置が、被写体を保持する保持手段と、前記被写体の表面形状を計測する表面形状計測手段と、前記表面形状計測手段により計測された表面形状に合わせて撮像面を調整して、前記被写体の撮像を行う撮像手段と、前記被写体の全体領域のなかから撮像すべき対象物が存在する存在領域を特定する特定手段とを備える。前記表面形状計測手段は、前記特定手段により特定された存在領域の表面形状のみを計測する。 （もっと読む）

【課題】測定対象の幅方向に対して広範囲で欠陥を検出する。
【解決手段】第１のミラー群１２に入射されたレーザ光の波面は、分割されて反射され、光学フィルム１０の幅方向に配列された状態で光学フィルム１０に照射される。光学フィルム１０に照射されたそれぞれのレーザ光の波面は、光学フィルム１０を介して第２のミラー群１３で反射され、光学フィルム１０を介して、第１のミラー群１２に対して入射される。第１のミラー群１２に入射されたレーザ光は、再び１つの波面が揃い、ウェッジプレート４に入射される。そして、ウェッジプレート４の第１の面Ｓ１で反射されるとともに、第２の面Ｓ２で反射されることにより２つの波面に分割される。２つの波面が干渉することにより、撮像部７において干渉縞が撮像され、撮像された干渉縞の画像データに対して、解析部８による解析が行われる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ露光装置中でパターン付き放射ビームを測定する、より正確なセンサを提供する。
【解決手段】リソグラフィ露光装置中でパターン付き放射ビームを測定するセンサは、パターン付き放射ビームを受け取る受容部分と、受容部分を介してパターン付き放射ビームの少なくとも一部分を受け取るように配置された処理部分とを含む。センサの受容部分は、基板を保持するための基板テーブル中に一体化されている。 （もっと読む）

【課題】簡単な処理で非球面形状が測定可能な干渉測定方法を提供する。
【解決手段】参照面からの参照光と被検物からの光との干渉縞を用いて被検物の形状を測定する測定方法であって、第１番目の干渉縞を被検物の第１番目の形状に変換するステップＳ１０３〜Ｓ１０５と、被検物を参照面の光軸方向に移動した位置で第２番目の干渉縞を取得するステップＳ１０７，Ｓ１０８と、第１番目と第２番目の干渉縞の基準点における位相を揃え、第２番目の干渉縞をアンラップするステップＳ１０９と、アンラップした第２番目の干渉縞を被検物の第２番目の形状に変換するステップＳ１１０と、被検物の第１番目と第２番目の形状が一致するか否かを判定する判定ステップＳ１１１と、一致しないと判定した場合、アンラップした第２番目の干渉縞に光源の波長の整数倍を加えて、被検物の形状を算出するステップＳ１１２とを有する。 （もっと読む）

【課題】予めパターンが形成された基板の全面に塗布された塗布膜の膜厚を十分な精度で測定できる膜厚測定方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス基板等からなる基板１上にブラックマトリクス２とカラーフィルタ（３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ）パターンとからなるパターン４と非パターン領域に膜厚測定用パターン５を形成し、処理基板１０を作製する。さらに、スリットコート方式等により処理基板１０上に塗布膜６を形成し膜厚測定用基板１０ａを作製し、分光干渉法で膜厚測定用パターン５上の塗布膜６の膜厚測定を行う。 （もっと読む）

【課題】 精密かつ迅速にコリメーションを行うことを可能にするコリメーション検査装置を提供する。
【解決手段】 シェアプレートによって、被検査ビーム光の波面を、光路差を有する二つの波面に分割するとともに、その２つの波面を重ね合わせて投射することにより、干渉パターン観察部において両波面の干渉パターン像を映出させるコリメーション検査装置であって、シェアプレートへのビーム入射角度を検出するためのビーム入射角度検出部が、上記コリメーション検査装置と一体に設けられる。 （もっと読む）

【課題】導電性ポリマー層形成後に導電性ポリマー層の膜厚不良を効率よく検査できるようにした有機ＥＬパネル基板の導電性ポリマー層の膜厚不良検査装置及びそれを用いた膜厚不良検査方法を提供することを目的とする。
【解決手段】有機ＥＬパネル基板の導電性ポリマー層の膜厚不良検査装置１００は、想定される導電性ポリマー層の膜厚範囲から最低３水準の膜厚での分光反射率を予め測定する分光反射率測定手段１０と、該分光反射率測定定手段１０により得られた結果から最も反射率に差が生じる波長を透過するバンドパスフィルタ２２を備えた撮像手段２０と、撮像したアナログデータ画像をデジタルデータ画像に変換するＡ／Ｄ変換手段３０と、デジタルデータ画像を処理する画像処理手段４０と、膜厚の正常、不良を判断処理する膜厚不良判断処理手段５０と、各手段の制御を司る制御手段６０と、から構成されている。 （もっと読む）

【課題】微細な試料の表面各部の高さ情報から当該表面の画像を得るための新たな手法を提供する。
【解決手段】三次元形状測定器により取得された試料の表面各部の高さを示す高さ情報が高さ画像記憶部２０１で記憶される。画像−擬似輝度画像変換部２０７は、まず、当該試料の表面各部の高さ情報に基づいて当該表面各部の傾きを示す傾き情報を算出する。そして、この表面各部の傾きを当該試料表面の画像における当該表面各部の輝度に対応付けて当該画像における輝度情報を生成し、この輝度情報を用いて当該試料表面の輝度画像を構築する。 （もっと読む）

【課題】干渉縞に高周波成分が重畳されてしまう光学素子についてツェルニケ展開を行ったときにも、得られる多項式の直交性を保つことのできる収差測定方法を提供する
【解決手段】被検光学素子の波面収差の空間分布を、所定項数よりも少ない項数でツェルニケ展開して、低次の波面収差を得る低次波面収差算出工程と、低次波面収差算出工程において近似できなかった残差成分を、被検光学素子の波面収差の空間分布として算出する残差成分空間分布算出工程と、残差成分空間分布算出工程において算出された波面収差の空間分布を、所定項数でツェルニケ展開して、波面収差を得る高次波面収差算出工程と、高次波面収差算出工程において得られた波面収差のうち、所定項数よりも少ない項数について、低次波面収差算出工程において得られた波面収差を適用して、被検光学素子の波面収差を得る低次波面収差適用工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】製造された非球面レンズに生じている面ずれを、面倒れとは分離して高精度に測定することが可能な非球面レンズの面ずれ測定方法および装置を得る。
【解決手段】被検レンズ１の面倒れと面倒れ分コマ収差との関係、および被検レンズ１の面ずれと面ずれ分コマ収差との関係を、コンピュータシミュレーションにより求める。また、張出部３の透過波面測定により被検レンズ１の面倒れを求め、レンズ部２の透過波面測定により被検レンズ１のコマ収差を求める。このコマ収差から、面倒れ分コマ収差を差し引くことにより、面ずれに起因する面ずれ分コマ収差を算定し、この面ずれ分コマ収差に基づき、被検レンズ１の面ずれを算定する。 （もっと読む）

【課題】高精度な波面収差測定を行うこと
【解決手段】波面収差測定機は、２次元的に配列された複数の第１ピンホールを有し光源からの放射光に基づいて第１の理想的球面波を発生させる第１のピンホール部材と；被検光学系による複数の第１ピンホールの複数の結像位置のそれぞれに対応した位置に配列された複数の第２ピンホールを有する第２のピンホール部材と；前記第１及び第２のピンホール部材の間の光路中に配置されて０次回折光を第２のピンホール部材へ到達させるように配置された回折格子と；回折格子による回折光のうち所定次数の回折光を選択的に通過させる回折光選択手段と；０次回折光が第２のピンホール部材を経由した際に発生する第２の理想的球面波と、回折光選択手段を通過した所定次数の回折光との干渉により得られた干渉縞から被検光学系の波面収差を算出する手段と；を有する。 （もっと読む）

【課題】微小球面の形状計測を行なう場合は、光軸調整が容易で、高精度な測定が出来、誤差の少ない測定手法を提供すると共に、平面形状計測では、位相シフトを行なうための機械的な移動機構を不要とし、低コストで位相シフトを用いた微細形状の形状計測を実現可能とする。
【解決手段】拡大光学系１０、１２の一部を透過し、測定対象面９を照射する可干渉性光源２０と、該光源２０と測定対象面９の間の拡大光学系内に基準面３０を有し、この基準面３０で反射した参照光と、基準面３０を透過し測定対象面９で反射される被検光とを干渉させることにより、測定対象面９の形状を計測するように構成された干渉計とを備えた干渉型表面形状測定装置であって、撮像素子上に干渉縞画像を生成する干渉計部７２の結像光学系が、拡大光学系とは独立した焦点調節機構を有し、前記拡大光学系を通して無限遠方までの任意位置の画像を前記の撮像素子４０上に結像可能とする。 （もっと読む）

【課題】例えば１０ｎｍ以下の微小なスペーシングを測定することが可能なスペーシング計測装置及び計測方法を提供する。
【解決手段】被計測物Ｔの表面に透明体４を対向させ、透明体４を介して光を被計測物Ｔに出射し、被計測物Ｔの表面と透明体４との対向部に生じる干渉光の強度に基づいて被計測物Ｔと透明体４との間のスペーシングを算出するスペーシング計測装置であって、光を出射する光源１と、出射した光の強度を所定の周波数の変調波で変調させる変調手段２と、干渉光の光強度を電気信号に変換するセンシング手段７と、電気信号を、前記変調波を参照波として同期検波する同期検波手段８とを備えている。 （もっと読む）

本発明は、特に干渉測定法を用いてタイヤ（6、9）をチェックする装置に関する。その装置は少なくとも１つの第１測定プローブ（2）と第２測定プローブ（3）とを備え、それらを用いてタイヤ（6、9）を走査することによって測定結果を与えることができる。その装置は更に位置決め手段（4、5、7、8）を備え、それらを用いて第１測定プローブ（2）と第２測定プローブ（3）とをタイヤ（6、9）の外側の待機場所とタイヤ（6、9）の内側の観察場所との間で移動させることができる。本発明によれば、位置決め手段（4、5、7、8）を利用することで第１測定プローブ（2）と第２測定プローブ（3）とを独立に待機場所又は観察場所に配置できるので、それらを用いて、リムの直径（d₆、d₉）が比較的小さいタイヤ（6、9）をチェックすることができる。 （もっと読む）

特に干渉測定法を用いてタイヤ（10）を調べる装置は走査ヘッド（20）を備え、測定結果（70、71、72）を得る目的でタイヤ（10）の走査に用いる。その装置はまた、位置決め手段（30）を備え、走査ヘッド（20）を観察場所に配置できる。その他に、その装置は制御／表示手段（40）を備え、位置決め手段を制御させ、測定結果（70、71、72）を表示させることができる。走査ヘッド（20）の制御を簡単にし、測定結果（70、71、72）の解析を信頼できるものにするために、制御／表示手段（40）は、タイヤ（10）に対する走査ヘッド（20）の観察場所又は観察方向を表示する表示領域（44、45、62）を少なくとも１つ含む。 （もっと読む）

中心点（M）、軸方向（z）での幅（B₁、B₂）、及び軸方向（z）と直交するタイヤ面（RME、RME₁、RME₂、MBE）での直径（D₁、D₂）を持つタイヤ（10）を試験する装置はタイヤ（10）の走査に利用可能な走査ヘッド（20）を含む。その装置は、走査ヘッド（20）を観察場所に配置して観察方向に向けるのに利用可能な位置決め手段（30）も含む。位置決め手段（30）は制御／表示手段（40）で制御可能である。制御／表示手段（40）は、走査ヘッド（20）の位置の座標を入力するのに利用可能なユーザ領域（44、45、45、47）を少なくとも１つ含む。それとは別に、又はそれに加えて、制御／表示手段（40）は、走査ヘッド（20）の位置の座標の表示に利用可能な表示領域（44、45、45、47）を少なくとも１つ含む。その座標は、タイヤ（10）の中心点（M）を通って軸方向（z）に延びる回転軸（R）とタイヤ面（RME、RME₁、RME₂、MBE）との交点に原点（0）を置く座標系で定義される。 （もっと読む）

【課題】支持基板上に設けられた光透過性の膜の膜厚を精度よく測定することが可能な膜厚測定方法などを提供する。
【解決手段】支持基板上に設けられた光透過性を有する膜の膜厚を測定する膜厚測定方法は、膜に光を入射させ、膜の表面で反射された光と、支持基板の表面で反射された光との干渉により得られる反射光を分光して、分光された反射光の光量を検出し、光量から反射率を演算する際に、反射率を任意の大きさに拡大することにより反射率が極小及び極大となる波長を求め、反射率が極小及び極大となる波長並びに膜の屈折率を用いて膜の膜厚を測定する。 （もっと読む）

【課題】光ファイバリング干渉型センサにおいて、光ファイバが破断されてしまった場合においても、光ファイバの破断位置の特定が行えるようにする。
【解決手段】光ファイバリング干渉型センサを構成する光ファイバリングＬａ，Ｌｂに併設した光ファイバ１１と、この光ファイバ１１の一端に光を入射し，その端面に戻る光の強度の時間変化を測定するＯＴＤＲ測定手段１２とを備えている。光ファイバリングＬａ，Ｌｂと光ファイバ１１とは、同一の被覆内に収容されて一体的に構成されていることが好ましい。 （もっと読む）