【課題】透明性基板上に形成された不透明なデバイスパターンを観察像において明確に識別することができる観察方法、および観察装置を提供する。
【解決手段】デバイスパターン３が形成されている側に粘着シート４を貼り付けたうえで透明なステージ７に固定し、ステージ７の上方から同軸透過照明光Ｌ１と斜光透過照明光Ｌ２とを重畳的に照射するとともに、ステージ７の下方側からステージ７を介して裏面観察手段６で観察することで、観察像においては、デバイスパターン３に対応して、暗い（黒色の）デバイスパターン像が観察され、デバイスパターン像ＩＰ１以外の部分は明るく観察される。また、気泡５に対応する部分ＩＢ１についても十分に明るく観察される。これにより、観察像においてデバイスパターン３の形状を明確に特定することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ワークピース内の接合領域を監視する光学測定装置を提供する。
【解決手段】光学測定装置１００は、接合対象であるワークピース１６の方向に光扇２２を投射して、前記接合対象であるワークピースの接合領域１０内に、その接合領域内の接合継ぎ目１４と交差する三角測量光ライン２４を生成するのに適した第１光源２０を備える少なくとも一つの光切断装置１８と、前記接合対象であるワークピースの接合領域を均一に照光する第２光源２８を備える照光装置２６と、接合継ぎ目上に投影された三角測量光ラインの空間分解画像を生成する、第１測定ビーム経路３２を有する第１光センサ３０と、接合継ぎ目の空間分解画像を生成する、第２測定ビーム経路３６を有する第２光センサ３４とを含み、第２測定ビーム経路は、第１測定ビーム経路内に同軸結合され、第１光センサの読み取り速度は１ｋＨzを上回り、第２光センサの読み取り速度は５００Ｈｚ未満である。 （もっと読む）

【課題】内視鏡装置を用いて三次元形状の計測を短時間で行う計測方法を提供すること。
【解決手段】被検物の三次元形状を内視鏡装置を用いて計測する計測方法であって、所定の縞パターンを内視鏡装置の１箇所から被検物に投影し、被検物において縞パターンが投影された部分を撮像して１枚のパターン投影画像を取得し、空間的位相シフト法またはフーリエ変換法を用いて縞パターンが投影された部分の三次元形状を１枚のパターン投影画像から計測することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マシンビジョンシステムにおける潜在的な干渉要素の検査を提供する。
【解決手段】マシンビジョン検査システムにおいて使用するためのロバストなビデオツールが提供される。ロバストなビデオツールには、関心領域と、ユーザインターフェースと、エッジ検出動作と、関心領域において検出されたエッジ点を含むと同時に除外領域におけるエッジ点を除外する現在の要素のエッジ点セットを決定する除外領域動作と、が含まれる。除外領域は、少なくとも１つの予め特徴付けられた要素、すなわち、予め特徴付けられた要素のエッジ点を検出し、かつ予め特徴付けられた要素の寸法パラメータを特徴付けるビデオツールを用いることによって特徴付けられる要素である少なくとも１つの予め要素付けられた要素に基づいて、除外領域ジェネレータによって決定される。 （もっと読む）

【課題】ウェーハの表面に生じうる特定欠陥をより確実に検出することが可能な検出方法、検出システムおよび検出プログラムを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の特定欠陥の検出方法は、ウェーハの表面に光を照射して該ウェーハの表面上の欠陥の位置に対応して検出される輝点の面内位置情報である輝点マップを取得する工程（Ｓ１０１）と、前記輝点マップにおいて、特定欠陥の発生が予想される領域である判定対象領域と、該判定対象領域以外の所定領域である参照領域とを特定し、前記判定対象領域における輝点密度の、前記参照領域における輝点密度に対する比を算出する工程（Ｓ１０２）と、算出された前記比の値に基づいて、前記特定欠陥の発生の有無を判定する工程（Ｓ１０３）と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
本発明は集積回路、磁気ヘッド、磁気ディスク、太陽電池、光モジュール、発光ダイオード、液晶表示パネルなど基板上に発生した欠陥や異物の画像を撮像し、欠陥や異物を種類ごとに分類する欠陥分類装置において、撮像した画像に写っている欠陥の重要度を定量的に計算し、重要度の高い欠陥が写っている画像だけをデータベースに保存することで、ネットワーク負荷やデータベース負荷を低減する。
【解決手段】
本発明は、欠陥座標データを入力し、画像撮像プログラム５０１にて画像を撮像し、特徴量抽出プログラム５０２にて撮像した画像から欠陥の特徴量を抽出し、欠陥分類プログラム５０３にて欠陥を種類別に分類し、重要度予測プログラム５０４にて欠陥毎に重要度を計算し、画像選別プログラム５０６にて重要度に基づいて画像をデータベースに伝送するか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】 低倍率視野内のワークを高倍率視野内へ自動搬送してワークの寸法を高い精度で測定することができる寸法測定装置を提供する。
【解決手段】 ＸＹ方向に移動可能な可動ステージ１２と、特徴量情報及び測定箇所情報を保持する測定設定データ記憶手段と、ワークＷを低倍率で撮影し、低倍率画像を生成する低倍率撮像手段と、特徴量情報に基づいて、低倍率画像におけるワークＷの位置及び姿勢を特定するワーク検出手段と、特定された位置及び姿勢に基づいて、ワークＷの測定対象箇所が高倍率視野内に収まるように、可動ステージ１２を制御するステージ制御手段と、高倍率視野内に移動した測定対象箇所を高倍率で撮影し、高倍率画像を生成する高倍率撮像手段と、測定箇所情報に基づいて、高倍率画像から測定対象箇所のエッジを抽出するエッジ抽出手段と、抽出されたエッジに基づいて、測定対象箇所の寸法値を求める寸法値算出手段により構成される。 （もっと読む）

【課題】 ワークの寸法を高い精度で測定することができるとともに、被写界深度を越える段差を有するワークであっても、測定対象とする箇所を容易に設定することができる寸法測定装置を提供する。
【解決手段】 可動ステージ１２上のワークＷを撮影する撮像手段と、可動ステージ１２のＺ方向の位置が異なる複数のワーク画像を深度合成し、深度合成画像を生成する深度合成手段と、マスターピースを撮影して得られる深度合成画像をマスター画像Ｍ１として画面表示するマスター画像表示手段と、マスター画像Ｍ１に対し測定対象箇所及び測定方法を指定し、測定箇所情報を生成する測定箇所情報生成手段と、測定箇所情報に基づいて、ワークＷを撮影して得られた深度合成画像から測定対象箇所のエッジを抽出するエッジ抽出手段と、抽出されたエッジに基づいて、測定対象箇所の寸法値を求める寸法値算出手段により構成される。 （もっと読む）

【課題】同一パターンとなるように形成された２つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置において、膜厚の違いなどから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して、高感度なパターン検査を実現する。また、多種多様な欠陥を顕在化でき，広範囲な工程への適用が可能なパターン検査装置を実現する。
【解決手段】同一パターンとなるように形成された２つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置を、複数の検出系とそれに対応する複数の画像比較処理方式を備えて構成し、又、異なる複数の処理単位で比較画像間の画像信号の階調を変換する手段を備えて構成し、画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている場合であっても、正しく欠陥を検出できるようにした。 （もっと読む）

【課題】 複数のワークについて、輪郭の不一致度合いを容易に識別することができる画像測定装置を提供する。
【解決手段】 ワーク画像Ａ２からエッジを抽出するエッジ抽出手段と、ワーク画像Ａ２及び予め保持されたマスター画像Ａ１を比較する画像比較手段と、比較結果に基づいて、ワーク画像Ａ２のエッジ位置とこのエッジ位置に対応するマスター画像Ａ１上の位置との変位量を示す誤差を算出する誤差算出手段と、複数のワーク画像Ａ２について算出された誤差の統計情報をエッジ位置ごとに算出する統計情報算出手段と、統計情報を、その値に応じた表示態様でワーク画像Ａ２又はマスター画像Ａ１から抽出されたエッジ位置に沿って表示する統計情報表示手段により構成される。 （もっと読む）

【課題】試料の三次元位置と該試料の蛍光スペクトルとの計測を行うための顕微鏡システムの提供。
【解決手段】光学顕微鏡を用いて、試料の三次元位置と該試料の蛍光スペクトルとの計測を行うための顕微鏡システムであって、試料の明視野像を得るための光源と、試料の蛍光像を得るための光源と、結像側の光路を明視野像の光路と蛍光像の光路とに分けるためのダイクロイックミラーと、明視野像及び蛍光像を取得する画像取得部と、磁場を発生させることにより試料に張力を与える磁場発生部と、画像取得部にて得られた明視野像から試料の三次元位置を算出する解析部とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、サンプルの厚み情報を短時間で精度よく取得する。
【解決手段】本発明は、取得した位相差像の基準像に対する相関状態を算出し、該相関状態に応じて組織切片ＴＳの厚み情報を取得するようにしたことにより、１つの位相差像から組織切片ＴＳの厚み情報が取得でき、またサンプルの厚み方向の分布を反映した厚み情報を取得することができ、かくして厚み情報を短時間で精度よく取得することができる。 （もっと読む）

【目的】
道路橋や線路橋等の橋梁強度の調査費用が膨大になり、さらに橋梁の強度（寿命）を正確に予測できないという問題を解決することを目的としている。
【構成】
道路橋の部材などの変異量を監視記録する目的で制御回路にて発光時間を制御した先鋭な光ビームを照射する送光装置を被監視物に固着し、その光ビームを安定した場所に固定した受光装置にて受光し、上記の受光装置に上記の光ビームを受光する受光素子の列を設けて、光ビームが照射した受光素子の信号出力を増幅した電流によって表面が変色する記録体に記録針を通して供給し、被監視物の変位量を監視、記録することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】導体パターンの良否を精度よく検査することのできる検査装置および配線回路基板の検査方法を提供する。
【解決手段】回路付サスペンション基板の金属支持層２１および導体パターンに入射する入射光７を発光する発光部２と、入射光７が金属支持層２１および導体パターンにおいて反射された反射光１１を受光する受光部４とを備え、発光部２および受光部４は、入射光軸１３と反射光軸１４とが一致するように配置され、発光部２は、入射光軸１３と同一直線上にある直線光８と、回路付サスペンション基板に向かうに従って集光され、入射光軸１３に対して傾斜する傾斜光９とを含む入射光７を発光する。 （もっと読む）

【課題】光沢のあり照明光を正反射する被撮像面の正常状態維持領域と加工又は劣化等により非正常状態になった領域を区別することを、手間をかけないで安定的に、所定の精度で、短時間に、低いコストで、且つ自動的に得る方法を提供する。
【解決手段】
カメラの光軸が被撮像面に垂直な方向に対して所定の角度の傾斜を持つようにカメラを配置し、且つカメラの所定の画素範囲に対応する被撮像面上の範囲（撮像範囲）からカメラのレンズの有効径内に入る反射光の内、撮像範囲で正反射された照明光が正反射前に通過するべきトンネル空間（入射光トンネル空間）が照明装置の発光面を貫通するように照明装置を配置し、光沢があり照明光を正反射する被撮像面を撮像する。 （もっと読む）

【課題】
磁気ディスクの両面を同時に検査することを可能にして、検査のスループットを向上させる。
【解決手段】
磁気ディスクの表面の傷や欠陥を光学的に検出する表面側欠陥検出手段と、磁気ディスクの裏面の傷や欠陥を光学的に検出する裏面側欠陥検出手段とを備えた磁気ディスクの両面欠陥検査装置において、裏面側欠陥検出手段に光路切替え部を設けて、レーザ光源から発射されたレーザを反射してレーザの光路を磁気ディスクの裏面の方向に切替えるとともにフレネルレンズで集光された散乱光を反射して集光された散乱光の光路を第１の光電変換器の方向に切替えるようにして、磁気ディスクの裏面側の狭い空間でも光学的に欠陥を検出することを可能にした。 （もっと読む）

【課題】トナーパタンの位置およびトナー濃度の少なくとも一方を検出する反射型光学センサを実現する。
【解決手段】半導体発光素子ＥｉとフォトダイオードＤｉを、半導体発光素子の発光軸とフォトダイオードの受光軸とが平行となるようにし、発光軸および受光軸が間隔：Ｌとなるように相互に近接して配置一体化した一体型発光受光素子と、半導体発光素子から担持媒体２０４０表面に照射される光束に、収束作用を及ぼす照明用集光レンズＬＥｉとを有し、照明用集光レンズは光軸を発光軸と平行にしてフォトダイオード側へシフトし、半導体発光素子から発光軸上に放射される光線が、照明用集光レンズにより屈折されて、発光軸に直交する担持媒体表面に入射角：Θをもって斜め入射し、担持媒体表面により正反射されてフォトダイオードの受光部の中心部に入射するように半導体発光素子とフォトダイオードと照明用集光レンズとの位置関係が調整され、間隔：Ｌが１ｍｍ程度より小さく、入射角：Θが１０度より小さくなるように設定されている反射型光学センサ。 （もっと読む）

【課題】マクロ検査ツールの適用性を広げ、高スループットで半導体ウェハからより詳細な検査情報を得る。
【解決手段】ウェハ検査方法は、ウェハ上に繰り返し配列されている個々の微細構造を解像するには不十分な結像解像度でウェハの全表面を結像させるステップを含む。本発明によれば、微細構造のフィーチャの特性は、微細構造を結像において直接解像することができないとしても、被選択検出信号群からの１若しくは複数の値の計算によって決定される。このようにして、記録される画像にマスク（１０９）が施され、画像の非マスク部分（１１１）は平均化によってさらに処理される。非マスク部分（１１１）は、ウェハのメモリ部分を含むように選択される。フィーチャ特性は、線幅、側壁の角度、微小寸法（ＣＤ）などを含むことができる。互いに異なる照明波長または偏光状態で撮影した複数の画像を組み合わせることもできる。 （もっと読む）