【課題】製造されたデバイスの内部構造をテストするために薄いサンプルを準備して像形成する方法を提供する。
【解決手段】物体のサンプルを形成し、物体からサンプルを抽出し、真空チャンバーにおいて表面分析及び電子透過度分析を含むマイクロ分析をこのサンプルに受けさせるための方法及び装置が開示される。ある実施形態では、抽出されたサンプルの物体断面表面を像形成するための方法が提供される。任意であるが、サンプルは、真空チャンバー内で繰り返し薄くされて像形成される。ある実施形態では、サンプルは、任意のアパーチャーを含むサンプル支持体に位置される。任意であるが、サンプルは、物体断面表面がサンプル支持体の表面に実質的に平行となるようにサンプル支持体の表面に位置される。サンプル支持体に装着されると、サンプルは、真空チャンバー内でマイクロ分析を受けるか、又はロードステーションにロードされる。 （もっと読む）

【課題】タングステンを減速材として用いた場合と同等又はそれ以上のビーム強度を有し、かつエネルギー分布の幅が狭い低速陽電子ビームを発生することができるタングステンに替わる減速材を用いた陽電子ビーム装置を提供する。
【解決手段】結晶化されたニッケルメッシュを減速材２として用いる。ニッケルメッシュは、直径１μｍ以上１００μｍニッケル単線からなることが好ましく、ニッケル単線は、酸溶液によるエッチングで線径を細くしたものであることが更に好ましい。 （もっと読む）

【課題】 高額・大型の設備が必要なく、小型、低コストの設備で軽元素を含む絶縁体材料の分析・評価を高感度・高精度に行うことができる新規な絶縁体中の軽元素分析・評価装置を提供する。
【解決手段】 この出願の発明による絶縁体試料中の軽元素分析・評価装置は、２から１００ｋｅＶの低エネルギーを有する正イオン２を、軽元素を含む絶縁体試料３に照射するイオン発生源１と、正イオンの照射により絶縁体試料３中に含まれる軽元素から発生する特性Ｘ線を検出するＸ線検出器５と、絶縁体試料３を配置するチャンバー４を備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 例えば、バイオアッセイに用いるプローブ分子の固定化に利用される微細な粒子状の基体等、微小な物体に対しても、必要に応じて多数種の標識を付す際に有効な物体の標識方法の提供。
【解決手段】 微小な物体に対しても、それを構成する材料の一部として、予め選択される複数種の原子の種類数（ｎ）と、前記選択された原子個々の含有量の有無、あるいは、含有量の水準とを利用して、少なくとも二進法ｎ桁の数値情報に相当する、含有原子の組成条件に従って調製される標識用材料を用いることで、必要に応じて多数種の標識を付すが可能となる。 （もっと読む）

本発明は、ＳＩＭＳまたは電子分光法の如き分析目的で表面の電子的特性を変化させる方法において、視準された調整可能なストリームの形で使用可能な純粋な中性セシウム（Ｃｓ^０）を超高真空下でインサイチュ堆積することに存することを特徴とする方法に関する。本発明はまた、前記方法を実施するために設計された特別なカラムおよび対応するエネルギおよび／または質量分析装置に関する。
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【課題】 従来の方法においては、分析点に金属箔を被覆するので、被覆した金属箔が試料の分析点に接触し、分析点の表面を汚したり、傷めたりする問題点があった。
【解決手段】 本願発明は、上記従来の欠点を解消するため、開口のある導電膜を、該開口の部分が分析点に当るように試料に被せ、電子ビームは、該開口を通して試料に照射し、オージェ電子も該開口から取り出して、分析する構造としたものである。これにより、分析点の汚染を回避できるとともに、試料表面におけるチャージアップも避けることができる。 （もっと読む）

【課題】 薄膜の表面状態および表面と平行な面内における状態の解析に適した試料を、容易に作製することの可能な方法を提供する。
【解決手段】 積層膜１０Ｚに対してＦＩＢ１５Ａ，１５Ｂを照射することにより、可溶膜１２に達するエッチング溝１６を、解析対象領域１０Ｒを取り囲むように形成したのち、ウェハ１１、可溶膜１２および中間膜１３Ｚのうち、可溶膜１２のみを溶解可能な酸性溶液を用いて中間膜パターン１３と接する部分である底部１２Ｂを溶解除去することにより、解析用試料１０を形成する。得られた解析用試料１０を、その側面１０Ｗを把持することにより取り出す。これにより解析対象膜パターン１４の表面を汚すことなく、ＳＥＭやＴＥＭなどを用いた表面状態および表面と平行な面内における状態の解析に好適な解析用試料１０を、高精度かつ容易に形成することができる。 （もっと読む）