本発明の実施形態は、多孔質シリコン上でイオン化脱離を実施するための基板、このようなイオン化脱離を実施するための方法およびこれらの基板の製造方法を対象とする。シリコン上でイオン化脱離を実施するための基板を対象とする一実施形態は、式（Ｉ）；または式（ＩＩ）の式を有する表面を有する基板を含む。上の式で、ＸはＨもしくはＹであり、Ｘの少なくとも２５モルパーセントはＹであり、Ｙは、ヒドロキシルまたは−Ｏ−Ｒ_１またはＯ−ＳｉＲ_１，Ｒ_２，Ｒ_３であり、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、Ｃ_１からＣ_２５の線状、環状または分岐状のアルキル、アリールまたはアルコキシ基、ヒドロキシル基またはシロキサン基からなる群から選択され、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３の基は、置換されていないか、または１つまたはそれ以上の基（例えば、ハロゲン、シアノ、アミノ、ジオール、ニトロ、エーテル、カルボニル、エポキシド、スルホニル、陽イオン交換体、陰イオン交換体、カルバメート、アミド、尿素、ペプチド、タンパク質、炭水化物、および核酸官能基）で置換されている。

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少なくとも２つの異なる変数の関数として複数の成分を含む試料の成分を分離する能力を有する分離システム（１０、５０、６０）内の少なくとも１つの試料から得られたデータを分析する方法であって、２つの変数の関数として表される、少なくとも１つの試料を表すデータをそのシステムから得ること、連続するレベルを有するデータ・スタック（７０、７４、７８、８２、８４）を形成することであって、各レベルが、少なくとも１つの試料を表す連続データを含むこと、データ・スタック内のすべてのデータのコンパイルを表すデータ配列（Ｒ）を形成すること、および、データ配列を一連の行列に分離することを含む方法。この方法に従って動作する化学分析システム、およびシステムにこの方法を実行させるコンピュータ可読プログラム・コードを有する媒体。 （もっと読む）