校正過程での２つの校正サンプルの使用を含む、反射率計校正技術が提供される。更に、該技術は、該校正サンプルの少なくとも１つ以上の現実及び仮定の特性の間の変動の存在下でも校正を見込んでいる。加えて、該技術は、該校正サンプルの少なくとも１つの現実の特性を決めるために、該第１及び第２校正サンプルからの測定値の比を利用する。該比は該第１及び第２校正サンプルから反射される輝度の比であってもよい。該サンプルは望まれる波長で相対的に異なる反射特性を示してもよい。この様な技術では、各サンプルの反射率データは次いでもう１つから相対的に分離して考慮され、該校正サンプルの１つ以上の現実の特性が計算される。該決定された現実の特性は次いで該反射率計の校正を助けるため利用されてもよい。
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【課題】小規模且つ安価な装置で高精細なスペクトラム情報を取得可能にする。
【解決手段】光子検知用のセルを複数個含むフォトセンサアレイ４２を集積回路内に設け、複数個の経路部分を含む走査経路（ｙ方向）をその上に設定する。アレイ４２による光子検知可能波長域即ちサブレンジはｙ方向位置Ｙ１，Ｙｎ，ＹＮ毎に異なり、各ｙ方向位置に存するセル群即ちサブレンジセル群は代表波長λ１，λｎ，λＮのサブレンジ内の光子を検知できる。走査器によりアレイ４２に対して信号光２０を相対走査運動（ｙ方向）させ信号光２０によって走査経路沿いにアレイ４２の表面を横断走査させると、各ｙ方向位置に位置するサブレンジセル群により対応するサブレンジ内の光子が検知される。信号光２０のｘ方向位置毎の成分即ち場所Ｌ１，Ｌｍ，ＬＭ毎に検知結果を組み合わせ、スペクトラム情報を取得する。 （もっと読む）

【課題】 広帯域偏光解析器／偏光計システム及びミュラー行列の偏光測定の方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、多色光ビーム（１２）を発する照明光源（５）と、固定された直線偏光板（１３）と回転ホルダ（１４）上に装着された実質的に色収差を補正した位相差板（２１）とを含む偏光状態発生器（ＰＳＧ）（６）と、サンプルホルダ（３）と、固定された直線偏光板（２０）と回転ホルダ（１９）上に装着された実質的に色収差を補正した位相差板（２２）とを含む偏光状態解析器（ＰＳＡ）（１０）と、ＰＳＡ（１０）を透過した光ビームの各波長での強度を測定する１次検出システム（１１）と、ビームをＰＳＧ（６）内及びＰＳＡ（１０）内に視準し、かつサンプル表面（８）及び検出器（１１）内にビームの集束させる光学器械とを含む、サンプル（８）を解析するための広帯域偏光解析器／偏光計システムに関する。本発明によれば、ＰＳＡ（１０）内の直線偏光板（２０）及び実質的に色収差を補正した位相差板（２２）は、ＰＳＧ（６）の直線偏光板（１３）及び実質的に色収差を補正した位相差板（２１）と同一であるが、逆順に装着されており、回転ホルダ（１４、１９）は、ステッパモードで作動して位相差板（２１、２２）に対して１組の４つの選択された方位角度を可能にし、この４つの選択された方位角度は、ＰＳＧ（６）及びＰＳＡ（１０）とそれぞれ関連する変調行列及び解析行列の条件数を０．２よりも大きく維持するように最適化されている。 （もっと読む）

本発明は干渉情報を試料の化学的および／または物理学的特性に相関する別のストラテジーを提供する。このストラテジーは、干渉分光学に基づく技術水準を超える実質的な技術的および商業的利点を提供する方法およびシステムで実行することができる。方法は、ａ．試料の少なくとも一部分から放出された、それに伝達されたかまたはそれを通過して伝達された、またはそれと相互作用した電磁シグナルの変調に対応するインターフェログラムおよび／または少なくとも１のインターフェログラム要素を得、ｂ．ｉ．少なくとも１の関数を用いて該インターフェログラムおよび／またはインターフェログラム要素のインターフェログラムおよび／またはセグメントの少なくとも１の変換、ｉｉ．所望により、インターフェログラムおよび／またはインターフェログラム要素のもう１のセグメントについてｉ）を繰り返すことを行い、ここに、ｉ）を一度だけ行う場合は、変換はフーリエ変換を含まず、ｃ．該少なくとも１のスコアを少なくとも１の化学的または物理的特性に相関する工程を含む。
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【課題】
従来の、測定者に依存した感覚的な窒素パージ完了の判定基準を客観化し、測定の信頼性を改善する。また窒素パージ完了の判定を無人化・自動化することにより省力化する。
【解決手段】
ＣＶ演算器２１に窒素パージ開始指示を与え、窒素パージを開始する。窒素パージ開始時点を起点として増幅器７Ｎからの信号をＣＶ演算器２１に入力し、あらかじめ定めた期間内の信号のＣＶ値を検定する。ＣＶ演算器２１はＣＶ値があらかじめ定めた閾値以下になるまで、検定の起点を進めて検定を繰り返す。ＣＶ値が閾値以下になった時にＣＶ演算器２１から増幅器７Ｎに本測定開始信号Ｒを出力し、また表示器２２に窒素パージ完了のメッセージを表示する。本測定開始信号Ｒによって増幅器７Ｎから本測定出力ＵＮが出力され、本測定が開始される。 （もっと読む）

【課題】 光学部品の自重や固定による応力による影響を計測時に受けずに、光学部品内部の残留応力による複屈折のみを評価するホルダーおよび該ホルダーを有する装置を提供すること。
【解決手段】 光走査型の計測機において、光学部品を全面で保持し、光束が透過する箇所のみを開口部とし、光束が走査されるのと同期して開口部が移動することを特徴とする構成とした。 （もっと読む）

【課題】 水溶液の酸濃度の新規の測定方法及び装置を提供する。
【解決手段】 過酢酸を含む水溶液の光学的濃度測定のため、既知濃度の過酢酸を含む複数成分の水溶液のサンプルをセルに導入し、セル中のサンプルに対して１９０ｎｍ以下の波長を含む紫外域における異なる波長の光を透過させ、透過光の強度値を測定する。この測定を複数のサンプルについて繰返す。そして、複数のサンプルの強度値から吸光度を演算し、過酢酸を含む複数成分の濃度と吸光度の間の検量線式を求める。次に、測定対象の過酢酸を含む水溶液をセルに導入し、セル中の水溶液に対して異なる波長の光を透過させ、透過光の強度値を測定する。そして、強度値から吸光度を演算し、吸光度と検量線式を用いて、水溶液中の過酢酸を含む複数成分の濃度を決定する。 （もっと読む）

【課題】 被検体の屈折率分布（ホモジニティー）、特に、ホモジニティーの高次成分を高精度に測定することができる測定方法及び装置を提供する。
【解決手段】 参照プレートからの反射光と被検体及び／又は反射プレートからの反射光とを干渉させ、前記被検体の屈折率分布を測定する測定方法であって、前記参照プレートと前記反射プレートとの間に前記被検体を配置した場合における前記被検体及び／又は反射プレート上の光の位置と前記参照プレートと前記反射プレートとの間に前記被検体を配置しない場合における前記被検体及び／又は反射プレート上の光の位置とが同一位置となるように、前記被検体及び／又は反射プレートの位置を調整するステップを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 紫外または真空紫外光の照射による光学材料の透過率変化が高精度に測定できる透過率測定方法および透過率測定装置を提供する。
【解決手段】 紫外または真空紫外光源からの出射光を被測定光学材料に所定時間照射し、次に、出射光の光軸上の、光源から見て被測定光学材料の前と後に、可動ミラーを挿入することで、出射光の被測定光学材料への照射を遮断すると同時に、出射光と実質的に同一波長の測定光を測定光光源から出射し、測定光を被測定光学材料に透過させた後、測定光の強度を測定する測定光検出器に入射させることで、被測定光学材料の透過率を測定する構成とする。 （もっと読む）

試験体の測定または分析のための各種のシステムが、与えられている。一つのシステムは、第１の光学サブシステム（これは、パージされた環境中に配設されている）を含んでいる。パージされた環境は、差動パージングサブシステムによって、与えられてよい。第１の光学サブシステムは、真空紫外光を用いて測定を行なう。このシステムは、第２の光学サブシステム（これは、パージされていない環境中に配設されている）も含んでいる。第２の光学サブシステムは、非真空紫外光を用いて測定を行なう。別のシステムは、真空紫外光を用いて試験体の測定を行なうよう構成された二つまたはそれ以上の光学サブシステムを含んでいる。システムは、二つまたはそれ以上の光学サブシステムの周りにパージされた環境を維持するよう構成されたパージングサブシステムも含んでいる。パージングサブシステムは、また、両方の光学サブシステム内に、同じレベルでパージングを維持するよう構成されている。いくつかのシステムは、真空紫外波長での測定に先立って、試験体の一部から汚染物質を除去するよう構成された清浄化サブシステムも含んでいる。
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本発明は、半導体ウェハ（１００）上に堆積または形成された膜（１０４）の光学特性を測定するためのシステム（２０１）および方法を提供する。膜の試験領域（２０６）内にあって、互いに重なり合わない複数の位置（２１６）において、上記膜の化学線照射量よりも低い放射線照射量で光学特性を測定する。この結果、上記測定によって上記膜内に化学変化が引き起こされることはない。従来技術による方法に対して上記測定を較正して、その結果を調整係数または較正係数によって調節してもよい。
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