【課題】フォトデバイスにパルス光を照射して検査する際に、パルス光の光強度を適切に設定する技術を提供する。
【解決手段】フォトデバイスを検査する検査方法である。この検査方法は、(a) フェムト秒レーザーから出射されるパルス光の光強度を変更しつつ、フォトデバイスの受光面に前記パルス光を照射することによって、前記フォトデバイスから発生する電磁波の電界強度を検出器にて検出する工程と、(b) 前記(a)工程において検出された電磁波の電界強度が最大となるときの前記パルス光の最大時光強度を取得する工程と、(c) 前記(b)工程において取得された前記最大時光強度に基づいて定められる光強度のパルス光を前記フォトデバイスに照射することによって、前記フォトデバイスにて発生する前記電磁波パルスの電界強度を前記検出器にて検出する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】空間光を簡易な構成で効率的に光ファイバに入力可能な空間光測定用光ファイバ変換器を提供する。
【解決手段】本発明の空間光測定用光ファイバ変換器は、集光鏡と、集光鏡の焦点にその先端が配置され集光鏡で反射された光が入射される光ファイバプローブと、を備える。集光鏡は、例えば放物面鏡や楕円面鏡である。楕円面鏡の場合、光ファイバプローブは、楕円面鏡の一方の焦点にその先端が配置され、楕円面鏡の他方の焦点に配置された点光源からの光が、楕円面鏡で反射されて前記光ファイバプローブに入射される。 （もっと読む）

【課題】ポリゴンミラーなどの静止物体の校正に使用されるエンコーダに有用な技術を提供する。
【解決手段】光源と、マークが一定のピッチで配列され相対移動するスケールと、スケールのピッチによって決定される周期の整数分の一の大きさの周期で偏光方向が回転する直線偏光を生成する光学系と、生成された直線偏光を第１直線偏光と第２直線偏光とに分割する分割部と、固定配置された第１偏光板を含み、スケールが相対移動する間における、第１偏光板を通過した第１直線偏光の偏光方向の回転の数を得る第１ユニットと、直線偏光の偏光方向に対して回転する第２偏光板を含み、スケールが静止したときにおける第２直線偏光の偏光方向を検出することによってスケールが静止したときにおける直線偏光の１回転内の位相を得る第２ユニットと、第１ユニットおよび第２ユニットにより得られた結果を統合してスケールの移動量を出力する出力部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】画像処理装置および干渉計測定システムにおいて、干渉計の画像表示のための装置構成を簡素化し、干渉縞計測の作業性を向上することができることができるようにする。
【解決手段】画像処理装置１は、アライメント用画像を撮影するアライメントカメラ６と、干渉縞画像を撮影する干渉縞カメラ７とを接続し、これらから送信される画像データを伝送する接続端子部４と、伝送された画像データのうち、アライメント用画像および干渉縞画像のいずれかを選択するカメラ切替スイッチ３Ｂと、選択された画像データによる画像を表示する表示部２と、干渉縞画像の画像データを解析する画像処理部と、カメラ切替スイッチ３Ｂによって干渉縞画像の画像データが選択されたときに、画像処理部によって解析された解析結果を干渉縞画像とともに表示部２に表示する装置制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】２つのミラーの間の直交度を迅速かつ高い精度で計測する。
【解決手段】第１ミラー５４１および第２ミラー５４０を有する物品における前記第１ミラー５４１の反射面と前記第２ミラー５４０の反射面との直交度を計測する計測方法に係り、前記計測方法は、前記第２ミラー５４０の反射面に対して直角にレーザ光ＬＢ１が入射するように前記レーザ光ＬＢ１の光軸を調整する調整ステップと、前記第１ミラー５４１の反射面に平行な方向に前記物品を既知の距離だけ移動させたときの、前記レーザ光ＬＢ１が入射するように前記第２ミラー５４０の反射面に配置されたコーナーキューブＣＣ１によって反射された前記レーザ光ＬＢ１の光軸の変位量を検出する検出ステップと、前記距離と前記変位量とに基づいて前記第１ミラー５４１の反射面と前記第２ミラー５４０の反射面との間の角度が直角からずれている量を計算する計算ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】高反射率の高品質ミラーを高精度で測定する方法を提供する。
【解決手段】ミラーの裏面の構造による光反射の影響を含めた光反射率の測定ができるようにするため、向かい合う２枚のミラーの透過光ではなく、直接ミラー表面に入射したレーザ光の散乱光を利用して無限回光多重反射の現象を起こした。そして無限回光多重反射の利得を求めるために、ミラーの透過光ではなく、２枚のミラーの無限回光多重反射の発生の前と後の光量を散乱光により測定し、利得を算定する。また、高い光反射特性の高品質ミラーの反射率を測定するため、有限回の光多重反射の利用ではなく、無限回の光多重反射を利用することで高い光反射率を高精度で測定できる。開発過程の高い光反射率の高品質ミラーの反射特性の評価に利用できるのは勿論、実用的構造でのミラーの反射特性の評価が可能である。 （もっと読む）

本発明は、異なる屈折率の少なくとも２つの層の積層体で形成された光学部品の波面を、この光学部品の面に位置する点の反射または透過の測定から測定するための方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、基板（２）の透明な、または鏡のような表面を分析するための分析装置（１）に関し、前記装置は、測定されるべき基板表面に対向して位置決めされるラスタ（１０）と、測定される基板によって変形されるラスタの少なくとも１つの画像を取得するためのビデオカメラ（３）と、ラスタの照明システム（４）と、ビデオカメラ（３）へ接続される画像処理およびデジタル分析手段（５）とを備える。本発明によれば、ビデオカメラ（３）はマトリクスアレイカメラであり、ラスタ（１０）は、矩形形状を有しかつ基板の第１の方向に沿って、かつ基板の最小の広がりに沿って延びる第１のパターン（１０ａ）を有することにおいて二方向性である基板（１１）上に設けられ、第１のパターンは最小の広がりに対して横断方向に周期的であり、かつ第２のパターン（１０ｂ）は第１のパターンに垂直な第２の方向に、かつ基板の最大の広がりに沿って延びる。
（もっと読む）

【課題】 輝線スペクトルを有するような波長依存性の高い光源を用いた場合であっても、試料（ミラー等の光学素子）の分光光学特性を高精度に計測することができる方法及びそのシステムを提供すること。
【解決手段】 この分光光学特性計測方法は、分光器によって波長分解された計測光を試料に照射し、試料を経由した計測光の強度を検出して試料の分光光学特性を計測する方法において、試料の分光光学特性計測時の波長分解能において計測光の波長ごとの光強度を予め計測するステップと、光強度が極大又は極小となる設定波長を選定するステップと、選定された設定波長の計測光で試料を経由した計測光の強度を検出するステップを有する。 （もっと読む）

【課題】光源から出射された照明光の拡散光を低減することで、欠陥部分の発見がし易い照明光を出射することができる照明装置を提供する。
【解決手段】検査対象物に対し検査用の照明光を照射する照明装置１において、光源から出射された照明光の拡散を低減する拡散低減手段を備えることとする。拡散低減手段としては、遮光部材および集光レンズを使用することができる、また、遮光部材としては、筒体３、遮光板を使用することができる。 （もっと読む）

【課題】ヘリオスタット３に取付けられる反射鏡（ファセット３１）を擬似的に回転円錐曲線面に合わせる作業を、効率的且つ簡易な取付調整を行うようにする。
【解決手段】太陽光集光用のヘリオスタット３を構成している反射鏡（ファセット３１）の取付姿勢測定装置であって、前記ファセット３１が形成する擬似的な球面５１の中心に設けた画像取得装置１２と、該画像取得装置１２近傍に設置されたターゲット１１と、画像表示装置１３とを具備した。 （もっと読む）

【課題】ミラーの光反射率及び光散乱の光強度分布を高精度で測定する。
【解決手段】２枚のミラーを鏡面同士が対向するように平行に配置し、一方のミラーの鏡面に所定角度で斜め方向からレーザ光を入射してミラー間で光多重反射させた後、入射光の光強度分布の最大値（Ｉｉ）または積分値（Ｉｉｔ）と、出射光の光強度分布の最大値（Ｉｏ）または積分値（Ｉｏｔ）とを測定して下記（１）または（２）式からミラーの光反射率（ρｓ）を算出し、入射光の光強度分布（Ｆｏ）と出射光の光強度分布（Ｆｉ）とを測定して下記（３）式からミラーの光散乱強度分布（Δｇ）を算出する。
（１）：Ｉｏ／Ｉｉ＝ρｓ^ｍ
（２）：Ｉｍｏｔ／Ｉｏｉｔ＝ρｓ^ｍ
（３）：Ｆｏ／Ｆｉ＝Δｇ^ｍ （もっと読む）

【課題】振動ミラーの動作時における例えばミラー面の波状のうねり変形による影響を、動作時の走査された光ビームのビームプロファイルを検出面で計測することによって高精度に把握できるビームプロファイル計測装置を提供する。
【解決手段】ビームプロファイル計測装置１は、振動ミラー４６０により走査される光ビームのビームプロファイルを検出する検出面としてのＣＣＤカメラ２のＣＣＤと、前記検出面を光ビームが通過する任意のタイミングで、光源手段１０７、１０８をパルス状に点灯させる光源駆動手段３とを備え、前記光ビームの前記検出面上を通過するタイミングに合わせて、前記検出面でビームプロファイル検出を行う検出面制御手段としてのＣＣＤカメラ制御ボックス４を有する。 （もっと読む）

【課題】ミラー面の傾きが変更可能に構成されたミラーシステムの偏向特性を短時間かつ高精度に測定することを目的とする。
【解決手段】ミラー面１１に測定光２８を照射する測定用光源１４と、測定用光源１４から照射された測定光２８がミラー面１１で反射することにより形成された反射光１３が投射される投射部１７と、反射光１３が投射された投射部１７を撮像する撮像部１８とをそなえたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ミラー面の傾きが変更可能に構成されたミラーシステムの偏向特性を短時間かつ高精度に測定することを目的とする。
【解決手段】ミラー面１１に測定光２８を照射する測定用光源１４と、測定用光源１４から照射された測定光２８がミラー面１１で反射することにより形成された反射光１３が投射光点として投射される投射部１７と、反射光１３が投射光点として投射された投射部１７を撮像する撮像部１８と、ミラー面１１の傾きを制御する制御部３１と、撮像部１８によって撮像された投射部１７の画像に基づいて、制御部３１によって制御されたミラー面１１の傾きの変更に伴って移動する投射光点の移動量を測定する測定部３３とをそなえたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 基板の欠陥を、簡便かつ高い精度で検知する。
【解決手段】 基板１の表面を検査する表面検査装置１００であって、暗部と明部とを交互に平行に配列させたストライプパターンを、被検査面１ａに照射するパターン照射部３と、検知しようとする欠陥の高さと比べて浅い被写体深度で、ストライプパターンが形成された被検査面１ａの画像を撮像する撮像部４と、撮像部４により撮像された画像における暗部の像の消失を検知することにより、被検査面上の欠陥を検知する欠陥検知部６とを備える。 （もっと読む）