【課題】２媒質法や２波長による屈折率分布測定において、媒質や波長ごとに照明光学系の瞳の大きさが異なっていても高精度な屈折率分布の測定を可能とする。
【解決手段】屈折率分布測定方法は、第１および第２の媒質中にそれぞれ配置された被検光学素子を透過した光の波面の計測値である第１および第２の波面計測値を取得し、第１および第２の媒質中に配置された被検光学素子における光の透過領域に対応する照明光学系における光の透過領域である第１および第２の光線透過領域を計算し、第１および第２の光線透過領域に対応する照明光学系の波面収差の計算値である第１および第２の波面収差を計算し、第１および第２の波面計測値を第１および第２の波面収差を用いて補正し、これら補正波面を用いて被検光学素子の屈折率分布を計算する。 （もっと読む）

【課題】物体或は、スクリーンや、カメラなどの評価装置をデフォーカスさせて
光学系の結像性能のデフォーカス特性を評価する場合、デフォーカス量が瞳距離に対して大きい場合は、光学系の真のデフォーカス特性とは異なった特性が得られる。
【解決手段】デフォーカスによる射出瞳距離変化に応じて測定値を補正し、被検光学系がアナモフィックな特性を有している場合は、互いに異なる直交方向で測定値を補正する。 （もっと読む）

【課題】レンズを通して見える像のゆれを評価しやすい評価方法を提供する。
【解決手段】矩形模様５０であって、その幾何学的中心５５を通る中心の垂直格子線５１および左右の垂直格子線５２と、中心の水平格子線５３および上下の水平格子線５４とを備えた矩形模様５０を、眼鏡用レンズ１０を通して、幾何学的中心５５が注視点に一致するように設ける。視線が幾何学的中心５５から動かない範囲で頭部とともに眼鏡用レンズ１０を第１の水平角度だけ左右に動かしたときに見える矩形模様５０の画像を幾何学的中心５５が一致するように重ね合わせた際の幾何学的なずれをゆれ指標ＩＤｄおよびＩＤｓとして求める。 （もっと読む）

【課題】測光装置において、被検面上で集光される照明光束の集光位置が被検面の面頂位置になるように被検体の位置を容易に調整して精度よく測光を行うことができるようにする。
【解決手段】光源１と、コリメータレンズ３と、照明光路に対して進退可能に保持され、進出時に、照明光束Ｌ_１を被検面６ａに集光しその反射光を測定光束Ｌ_３として集光する対物レンズ５と、測定光束Ｌ_３を測定光束Ｌ_４Ａとして集光する集光光学系８と、分光器９と、第２ビームスプリッタ７と、対物レンズ５の進出時には被検面６ａの像を結像し、退避時には被検面６ａに照射された平行な照明光束Ｌ_１の反射光による像を結像する観察光学系Ｏｂ_１と、結像された光像を撮像するカメラ１２と、この光像の位置を表示する位置表示部１３と、被検体６を測定基準軸Ｐ_０に沿う方向およびそれに直交する方向に移動可能に保持する移動ステージ１４と、を備える測光装置５０を用いる。 （もっと読む）

【課題】被検物の屈折率分布を高精度に計測する。
【解決手段】屈折率分布計測方法は、媒質Ｍ中における被検物１４０の配置が互いに異なる複数の配置について、第１の波長による被検物の第１の透過波面の計測結果と基準被検物が該媒質中にて被検物の配置と同じ配置とされているときの第１の波長による透過波面との差分である第１の波面収差を複数の配置について算出し、第２の波長による被検物の第２の透過波面の計測結果と基準被検物が該媒質中において被検物の配置と同じ配置とされているときの第２の波長による透過波面との差分である第２の波面収差を複数の配置について算出する。第１及び第２の波面収差に基づいて、被検物の形状成分を除去しつつ、複数の配置のそれぞれにおける被検物の屈折率分布投影値を取得し、複数の配置に対応する複数の屈折率分布投影値に基づいて被検物の３次元屈折率分布を算出する。 （もっと読む）

【課題】密着複層型回折光学素子について、素子全体の複屈折特性を的確に把握可能な手法を提供する。
【解決手段】レリーフパターン５１ｐ，５２ｐの雌雄関係が被検体の密着複層型回折光学素子５０と反転し、光学材料の屈折率が被検体５０と共通の計測補助体６０を計測用レーザ光Ｌmの光軸上に被検体５０とともに直列に配設し、被検体５０及び計測補助体６０を透過させた計測用レーザ光を受光素子３７で受光する。 （もっと読む）

【課題】波長変換素子を構成する非線形光学結晶の屈折率分散特性を与える評価パラメータをセルマイヤーの分散公式に頼ることなく決定する。
【解決手段】SHGスペクトルに基づいて非線形光学結晶のQPM波長(λ_Q)に対する屈折率(n_Q)とSHG波長に対する屈折率(N_Q)との差として与えられる評価パラメータαを決定するステップと、SHGスペクトルに基づいて非線形光学結晶のSHG波長帯域の屈折率の線形分散値(∂N_Q/∂λ)の1/2の値とQPM波長帯域の屈折率の線形分散値(∂n_Q/∂λ)との差として与えられる評価パラメータβを決定するステップと、DFGスペクトルに基づいて非線形光学結晶の位相整合条件を満足する波長帯域の屈折率の2次分散値(∂²n_Q/∂λ²)の1/2の値として与えられる評価パラメータγを決定するステップとを含む屈折率分散の評価方法。 （もっと読む）

【課題】使用時の投影光学系の光学特性を計測することができる計測用光学部材、マスク、露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】計測用光学部材２３は、計測用パターン４６が形成されるパターン形成領域４４及び該パターン形成領域４４とは異なる位置に配置される非パターン形成領域４５ａ，４５ｂ，４５ｃを有する複数の計測用パターンユニット４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃを備えている。非パターン形成領域４５ａ，４５ｂ，４５ｃは、計測用パターンユニット４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃ毎に互いに異なる形成条件で形成されている。 （もっと読む）

【課題】被検物の屈折率分布を高精度に計測する。
【解決手段】被検物１４０の屈折率とは異なる屈折率をそれぞれ有する媒質１、２中に被検物を配置した状態で参照光を被検物に入射させ、各媒質と、媒質中の被検物の異なる複数の配置ごとに被検物の透過波面を計測し（Ｓ２０４）、各透過波面と基準透過波面との差分に相当する波面収差を求め（Ｓ２０５）、同じ位置に配置されている被検物の２つの波面収差を使用して被検物の形状誤差の影響を除去することによって被検物の屈折率分布投影値を取得し（Ｓ５０）、複数の配置に対応する複数の屈折率分布投影値から被検物の３次元の屈折率分布の情報を取得する（Ｓ７０）。 （もっと読む）

【課題】折り返し平面鏡の変形によって生じる被検光学系の透過波面を繋ぎ合わせるときの誤差を低減させた光学装置を提供する。
【解決手段】被検光学系Ｔ₁の被測定領域よりも小口径の折り返し平面鏡Ｆ₁を挟んで、被検光学系Ｔ₁の透過波面を測定する第１の干渉計Ｉ₁と対向するように第２の干渉計Ｉ₂を設ける。そして、第２の干渉計Ｉ₂は、測定光を照射し、折り返し平面鏡Ｆ₁の表面に形成された鏡面Ｓ₁で反射され、再び第２の干渉計Ｉ₂に戻ってきた戻り光を基に、第２の干渉縞画像を取得する。解析装置１１は、第２の干渉計Ｉ₂により取得された第２の干渉縞画像を解析して、折り返し平面鏡Ｆ₁の鏡面Ｓ₁の変形量を測定し、折り返し平面鏡Ｆ₁の変形によって生じた誤差を打ち消すように透過波面の補正を行う。 （もっと読む）

【課題】計測装置のうち光学系の像面側に配置する部分の構成を簡素化して、光学系の光学特性を計測する。
【解決手段】特性計測装置２０において、投影光学系ＰＬの物体面及び像面側に配置されるＬ＆Ｓパターン２１Ａ及びＬ＆Ｓパターン２３Ａと、Ｌ＆Ｓパターン２１Ａ及び投影光学系ＰＬを介してＬ＆Ｓパターン２３Ａを照明する照明光学系ＩＬＳと、Ｌ＆Ｓパターン２３Ａからの反射光を投影光学系ＰＬ及びＬ＆Ｓパターン２１Ａを介して受光する受光系３０と、を備え、Ｌ＆Ｓパターン２１Ａの像とＬ＆Ｓパターン２３Ａとを相対移動したときに受光系３０から得られる検出信号に基づいて投影光学系ＰＬの結像特性を求める。 （もっと読む）

【課題】
立体ディスプレイの視域、解像度、歪み、色ムラや輝度ムラを効率良く評価する。
【解決手段】
計測装置が立体映像を観察可能な範囲である視域を計測する第１のステップと、計測装置が立体映像の解像度を計測する第２のステップと、計測装置が立体映像の歪みを計測する第３のステップと、計測装置が立体映像の色ムラまたは輝度を計測する第４のステップと、を備える。第１のステップ、第２のステップ、第３のステップ、第４のステップの順序、または、第１のステップ、第２のステップ、第４のステップ、第３のステップの順序で立体映像を計測する。 （もっと読む）

【課題】従来に比べて高い精度にて像面測定が可能な像面測定方法及び装置を提供する。
【解決手段】画像センサ１１１のセンサ面１１１ａに対して光源１２１から光を照射し、上記センサ面で反射した反射光を、上記光学ユニット外に配置した測定用撮像ユニット１３０にてデフォーカス動作を行い撮像する。上記測定用撮像ユニットで撮像された画像の合焦状態を画像演算処理部１４０にて評価することにより、上記光学ユニットの光学系１１２の像面を測定する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、射出瞳位置が有限な光学系の透過波面を高精度で測定する測定装置を提供する。
【解決手段】 射出瞳位置が有限な光学系の透過波面を測定する測定装置（１００）は、被検光学系に向けられた被検光を被検光学系（４０）を介して検出する波面センサ（１０）で被検光学系の特性を測定する測定装置であって、被検光を被検光学系像点に集光させる集光光学系（３０）と、集光光学系の光軸と交差する方向に集光光学系に対して波面センサ（１０）を移動させるＸＹ軸移動装置（１６Ａ）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】被検光学系の透過波面を、高精度に繋ぎ合わせることが可能な光学装置を提供する。
【解決手段】被検光学系Ｔ₁の被測定領域よりも小口径の折り返し平面ミラーＦ₁を挟んで、被検光学系の透過波面を測定する第１の干渉計Ｉ₁と対向するように配置された第２の干渉計Ｉ₂を備え、折り返し平面ミラーＦ₁の裏面（第２の干渉計Ｉ₂側）にアライメント用の反射部材を形成する。第２の干渉計Ｉ₂は、測定光を照射し、折り返し平面ミラーＦ₁の裏面に形成された球面ミラーの一部で反射され、再び第２の干渉計に戻ってきた戻り光を基に、第２の干渉縞画像を取得する。解析装置１１は、第２の干渉計Ｉ₂により取得された第２の干渉縞画像を解析し、予め設定された所定の測定位置に対する折り返し平面ミラーＦ₁の位置ずれを検出する。駆動機構１３は、解析装置１１による検出結果に基づいて、折り返し平面ミラーＦ₁の位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】被検物の屈折率分布を高精度に測定可能な屈折率分布測定システム及び屈折率分布測定方法を提供する。
【解決手段】２光束干渉計と、干渉計が取得した干渉縞像から被検物の屈折率分布を取得する信号処理装置９０と、を有する屈折率分布測定システムを提供する。干渉計は、波長の異なる２種類の波長の可干渉光を生成する光源ユニット１０と、各波長について前記干渉縞を観測するために前記２種類の波長の一つを選択するＣＰＵ１とを有する。信号処理装置９０は、被検物Ｏの屈折率分布を取得するのに一方の波長を使用し、被検物Ｏの輪郭を検出するのに他方の波長を使用する。 （もっと読む）

【課題】集光点の座標と個々のレンズレットとの対応付け処理を高速かつ容易に行うことができると共に、低コスト化を図ることのできる波面センサを得る。
【解決手段】座標軸配列生成手段１０２は、集光点の二次元座標をソートして座標値配列を生成する。差分値演算手段１０３は、座標値配列について連続する二要素の差を演算し、配列数検出手段１０４は、しきい値を超える要素の総数を演算する。対応付け手段１０５は、二次元座標群と配列数検出手段１０４で検出された配列数に基づいて、二次元座標群と個々のレンズレット５との対応関係を決定する。 （もっと読む）

【課題】計測対象の光学系に関して計測される光強度分布の輪郭が円形でない場合にもその光学系の光学特性を正確に計測する。
【解決手段】投影光学系の開口数を計測する方法において、投影光学系の瞳面と共役な計測領域３４で光強度分布を計測し、その計測された光強度分布の仮の中心ＰＣの回りに、所定角度ｄθ毎に、その光強度分布を複数の領域Ａｉ内の光強度分布に分割し、複数の領域Ａｉ内の光強度分布のそれぞれの半径方向の差分から輪郭を求め、求められた複数の輪郭に基づいてその開口数を求める。 （もっと読む）

【課題】 安価で簡易な構成で赤外線レンズの近赤外線領域における結像性能を可視化することにより、赤外線レンズの広範囲な赤外領域における光学系の結像性能を客観的に評価可能な評価装置及び方法を提供する。
【解決手段】 評価装置は光源４と、赤外線光学系評価用の標準パターンが形成されたテストパターン５と、光源光が照射された前記テストパターンのパターン像を結像する赤外線レンズ１０と、結像されたパターン像を検知する画像センサ６とを有する。結像されたパターン像と標準パターンとを比較して赤外線レンズを評価する。パターン像はモニタ７のディスプレイ上に表示される。遠赤外線領域の画像評価は近赤外線領域の画像評価から予測する。評価装置がレンズを支持固定する鏡筒内への反射・散乱光の影響を観察評価する場合、鏡筒内に入射される視野外からの反射・散乱光を可視化された近赤外線領域の画像から得る。 （もっと読む）

【課題】被検物の透過波面をフォーカス成分をも含めて高精度に計測可能な透過波面測定方法を提供する。
【解決手段】
透過波面測定方法は、測定対象物に光源から光を照射し、前記測定対象物を透過しさらに前記測定対象物の後方に配置された回折格子を透過した干渉光を、前記回折格子の後方に所定の距離を空けて配置された受光部で受光することにより前記干渉光の強度分布を測定する工程と、前記干渉光の強度分布をフーリエ変換することにより周波数分布を算出する工程と、前記周波数分布における１次周波数スペクトルに基づいて前記測定対象物の透過波面を求める工程とを有し、前記透過波面を求める工程は、前記回折格子の格子周波数を基準にして前記１次周波数スペクトルを逆フーリエ変換することにより前記干渉光の複素振幅を算出する工程と、前記干渉光の複素振幅に基づいて前記測定対象物の透過波面を求める工程とを有する。 （もっと読む）