【課題】緑色レーザのみならず青色レーザを用いたホログラフィックメモリ記録においても、高い屈折率変化、柔軟性、高感度、低散乱、耐環境性すなわち保存安定性、耐久性、低寸法変化（低収縮性）、及び高多重度が達成されるホログラム記録材料を提供する。
【解決手段】 有機基含有金属化合物と光重合性化合物とを含むホログラム記録材料であって、前記有機基含有金属化合物は、酸素原子と、金属としてＳｉ及びＳｉ以外の他の金属とを含み、金属−酸素−金属結合を有しており、前記金属−酸素−金属結合を形成していない酸素原子の少なくとも一部は、（メタ）アクリル酸によりキャッピングされているホログラム記録材料。前記ホログラム記録材料からなるホログラム記録層を有するホログラム記録媒体。 （もっと読む）

【課題】新規なネガレジスト材料を提供する。
【解決手段】式（I）で示される重合体。


式（Ｉ）中、Ｒは、Ｃ１〜４０のアルキル基、（置換）アリール基、又は（置換）アリールアルキル基であり、Ｒ^２は単結合、Ｃ１〜４０のアルキレン基、又は（置換）アリーレン基であり、Ｒ^３はＣ１〜８のアルキル基、又は少なくとも一つの水素が−ＯＲ^４もしくは水酸基で置換されたフェニル基であり、ｎは２以上の整数である。 （もっと読む）

【課題】優れた耐湿性を発揮し、同時に高いキュアクラック性と酸素透過性の高い型、例えばＰＤＭＳでできた型を用いても、型と感光性樹脂組成物との界面に未硬化の感光性樹脂組成物が残らないという高いＵＶ硬化性を有する感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】特定の（ｉ）感光性シロキサン樹脂；１００質量部、
（ｉｉ）光重合開始剤；（ｉ）感光性シロキサン樹脂と（ｉｉｉ）光重合性モノマーの総量に対して０．１〜３質量％、（ｉｉｉ）下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含む光重合性モノマー；３００〜１７００質量部、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 ＣＨ_２＝ＣＲ−ＣＯ−Ｏ−（Ｃ_６Ｈ_１０）−Ｚ （Ｉ）（Ｒは水素原子又はメチル基、Ｚは水素原子又は炭素数１〜６の直鎖若しくは分鎖のアルキル基を示す。） （もっと読む）

【課題】高感度で、低露光量の場合や顔料を高濃度で含む場合でも、パターン形状、残膜率等に優れ、しかも基板との密着性にも優れた着色層を形成できる着色層形成用感放射線性組成物、該組成物の構成成分等として有用な不飽和基含有アルカリ可溶性重合体等を提供する。
【解決手段】不飽和基含有アルカリ可溶性重合体は、重合体主鎖が重合性不飽和カルボン酸および／または重合性不飽和カルボン酸無水物を必須成分とする単量体から構成され、重合体側鎖に（メタ）アクリロイルオキシアルキルシリル基および／またはビニルシリル基を有することを特徴とする。着色層形成用感放射線性組成物は、該不飽和基含有アルカリ可溶性重合体、着色剤、多官能性単量体および光ラジカル発生剤を含有する。 （もっと読む）

【課題】電子部品の絶縁材料や半導体装置における表面保護膜、層間絶縁膜、平坦化膜などの形成する際に、硬化膜の低温硬化性、デガス性、体積収縮率を良好に保ちつつ、下地基板に対する現像によるリソグラフィー特性及び加熱硬化後の接着性に優れた感光性ポリオルガノシロキサン組成物を提供すること。
【解決手段】
下記（ａ）〜（ｃ）成分を含むポリオルガノシロキサン組成物。
（ａ）特定のシラノール化合物、特定のアルコキシシラン化合物を混合し、触媒の存在下、積極的に水を添加することなく重合させる方法で得られる、ポリオルガノシロキサン１００質量部
（ｂ）光重合開始剤０．２〜２０質量部
（ｃ）特定の有機ケイ素化合物を０．０５〜２０質量部 （もっと読む）

【課題】本発明は、ハンダリフロー工程を必要とする固体撮像素子や電子部品一体型製品の製造用として有用な２６０℃リフロー耐熱性を有し、またそれ以外の密着性、伸度、耐温度衝撃性にも、優れた特性を有する感光性透明樹脂を用いたマイクロプラスチックレンズ又は液晶偏光板用光学素子を提供する。
【解決手段】特定の組合せの３元素からなる有機シランを含む化合物を、触媒存在下で４０℃〜１５０℃以下の温度で０．１〜１０時間重縮合して得られる樹脂を含有する感光性樹脂組成物、及びこれを用いたマイクロプラスチックレンズ又は液晶偏光板用光学素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
別途保護層を設けなくても、ホログラム層のみでも充分な耐擦傷性などの高耐久性を有し、カードなどの媒体へ転写する際の箔キレなどの転写性よく転写することができるホログラム転写箔を提供する。
【解決手段】
基材１１、離型層１３、ホログラム層１５、反射層１７及び接着層１９を設けてなるホログラム転写箔１０において、前記離型層１３がメラミン系樹脂であり、前記ホログラム層１５が電離放射線硬化性樹脂及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含み、ハードコート機能を兼ねていることを特徴とし、また、電離放射線硬化性樹脂が特定のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有し、また、ホログラム層１５が電離放射線硬化樹脂：ポリエチレンワックス＝１００：０．０１〜１０であることも特徴とする。 （もっと読む）

【課題】熱処理中の収縮を最小限に抑え、さらに高い安定性を有した感光性のある耐熱性高分子材料を提供すること。
【解決手段】（ａ）一般式（１）で表される構造単位を主成分とするポリマー１００重量部と、（ｂ）光重合開始剤および／または増感剤０．１から１００重量部を含有することを特徴とする感光性耐熱性重合体組成物。
【化１】


（Ｒ^０、Ｒ^２は少なくとも１個の不飽和結合とアルコキシ基を有するシリコン原子含有基、Ｒ^１は少なくとも６個以上の炭素原子を有する芳香族を有する基、ｎは１０から１０００００である。） （もっと読む）

【課題】反りが抑制されると共に、半導体回路や電子回路等の基板に用いる際に要求される耐湿信頼性や半田耐熱性を備えた積層体を提供する。
【解決手段】金属箔と、重量平均分子量1000〜30000のアルカリ可溶性のエポキシアクリレート重合体樹脂が樹脂成分の主成分として含まれる感光性樹脂組成物から形成された絶縁層とが積層したことを特徴とする積層体である。 （もっと読む）

【課題】 酸素ガスに対するエッチング耐性に優れるとともに、転写パターンの剥離を防止し、基板上における保持時間についての問題を解消し、転写性にも優れるナノインプリント用の膜形成組成物及び感光性レジスト、ナノ構造体、これらを用いたパターン形成方法、並びにこのパターン形成方法を実現するためのプログラムを提供する。
【解決手段】光硬化反応を生じる機能を有する高分子ケイ素化合物を含むナノインプリント用の膜形成組成物。高分子ケイ素化合物は、電磁波に感応して開裂する官能基を有し、電磁波照射によって硬化反応を生じるものであることが好ましく、シロキサン系高分子化合物、シリコンカーバイド系高分子化合物、ポリシラン系高分子化合物、およびシラザン系高分子化合物またはこれらの任意の混合物であることがさらに好ましい。 （もっと読む）

【課題】イメージ・プロジェクション・システムに有用な放射線硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも一種類のウレタンポリ（メタ）アクリレート化合物を１０〜３０質量％、少なくとも一種類のジアクリレートモノマーを２０〜４０質量％、少なくとも一種類のアミン修飾ポリエステルポリアクリレート化合物を１５〜２０質量％、少なくとも一種類のポリエステルポリアクリレート化合物を１５〜３０質量％、少なくとも一種類のシリコーンポリアクリレート化合物を０．１〜３質量％、少なくとも一種類の可視光範囲のフリーラジカル重合開始剤を０．５〜７質量％及び少なくとも一種類の紫外光範囲のフリーラジカル重合開始剤を０．５〜７質量％を含む樹脂組成物。質量％の全ては組成物の総質量に基づく。 （もっと読む）