【課題】硬化物が可とう性を備え、基板に積層した場合に反りの発生を極力抑制することができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、（Ａ）シロキサン含有ポリアミド酸樹脂、（Ｂ）二官能の（メタ）アクリレート及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する。（Ａ）成分は、芳香族テトラカルボン酸無水物を含む酸無水物成分と、シロキサンジアミンを含むジアミン成分とを反応させて得られるシロキサン変性率が８５〜１００％の範囲内のシロキサン含有ポリアミド酸樹脂であり、（Ａ）成分１００重量部に対し、（Ｂ）成分を５〜６０重量部、（Ｃ）成分を０．５〜２０重量部含有する。さらに、（Ｄ）有機ホスフィン酸の金属塩を２０〜４０重量部含有することにより、難燃性を持たせることができる。 （もっと読む）

【課題】 得られる硬化物に十分なメルト性を得られながら十分な耐熱性が得られる感放射線性組成物、これを用いて形成されるマイクロレンズおよびその形成方法の提供。
【解決手段】 感放射線性組成物は、（Ａ）成分：不飽和二重結合基を有するポリシロキサンと、（Ｂ）成分：上記（Ａ）成分以外のポリシロキサンと、（Ｃ）成分：少なくとも２つ以上のメルカプト基を有する有機化合物と、（Ｄ）成分：感放射線剤と、（Ｅ）成分：溶剤とを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】写真製版技術やレーザー彫刻技術において製造される印刷版において、機械的強度を十分に確保でき、レーザー彫刻時に多量に発生する液状彫刻カスを除去でき、且つ、微細なパターン寸法にも対応できる硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】印刷原版又は印刷版製造用の硬化性樹脂組成物であって、
数平均分子量１０００以上３０万以下の樹脂（ａ）１００質量部に対し、数平均分子量が１０００未満で重合性不飽和基を有する有機化合物（ｂ）１０〜５００質量部、数平均分子量が１０００以上１万以下の重合性不飽和基を有する籠状シルセスキオキサン化合物（ｃ）０．５〜１００質量部を含有する、硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】露光及び現像により感光性組成物の硬化物からなるパターン膜を形成する際の現像性に優れており、さらにパターン膜上に金属配線が形成されている場合、金属の腐食を抑制できる感光性組成物、並びに該感光性組成物を用いたパターン膜の製造方法を提供する。
【解決手段】ＳｉＯＨ基及びオレフィン二重結合を有するシロキサンポリマーと、光ラジカル発生剤とを含む感光性組成物、並びに該感光性組成物を基板２上に塗工し、基板２上に感光性組成物層１を形成した後、感光性組成物層１を部分的に露光することにより、露光部１ａの感光性組成物層１を硬化させて、現像液に不溶にし、次に感光性組成物層１を現像液で現像することにより、未露光部１ｂの感光性組成物層１を除去し、感光性組成物の硬化物からなるパターン膜１Ａを形成するパターン膜１Ａの製造方法。 （もっと読む）

【課題】露光及び現像により感光性組成物の硬化物からなるパターン膜を基板上に形成する際の現像性に優れており、さらに形成されたパターン膜の電気絶縁性を高めることができる感光性組成物、並びに該感光性組成物を用いたパターン膜の製造方法を提供する。
【解決手段】カルボキシル基を有するシロキサンポリマーと、環状エーテル基を有するシロキサンポリマーとを含むシロキサンポリマー（Ａ）と、光酸発生剤、光ラジカル発生剤及びキノンジアジド化合物の内の少なくとも１種の物質（Ｂ）とを含む感光性組成物、並びに該感光性組成物からなる感光性組成物層１を基板２上に形成した後、露光することにより、露光部１ａの感光性組成物層１を硬化させて現像液に不溶にし、次に現像することにより、感光性組成物の硬化物からなるパターン膜１Ａを形成するパターン膜１Ａの製造方法。 （もっと読む）

【課題】露光及び現像により感光性組成物の硬化物からなるパターン膜を基板上に形成した場合に、得られたパターン膜の柔軟性を高めることができ、従ってパターン膜の耐久性を高めることができる感光性組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される少なくとも１種のシラン化合物を重合させることにより得られたシロキサンポリマーと、光重合開始剤とを含有し、上記式（１）で表される少なくとも１種のシラン化合物に、下記式（１）で表され、かつ下記式（１）中のｐが２であるシラン化合物が含まれており、上記シロキサンポリマーの重量平均分子量が５００〜６００００の範囲内にあり、上記シロキサンポリマーの固形分酸価が５〜８００ＫＯＨｍｇ／ｇの範囲内にある感光性組成物。
Ｓｉ（Ｘ）_ｐ（Ｒ）_４−ｐ ・・・式（１）
上記式（１）中、Ｘは加水分解性基を表し、Ｒは炭素数１〜３０の非加水分解性の有機基を表し、ｐは１〜４の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】露光及び現像により感光性組成物の硬化物からなるパターン膜を形成する際に、露光後にベイク工程を行う必要がなく、さらにパターン膜に金属が接触されている場合、金属のマイグレーションを抑制できる感光性組成物、並びに該感光性組成物を用いたパターン膜の製造方法を提供する。
【解決手段】カルボキシル基を有するシロキサンポリマーと、オレフィン二重結合を有する化合物と、光ラジカル発生剤とを含む感光性組成物、並びに該感光性組成物を基板２上に塗工し、基板２上に感光性組成物層１を形成した後、感光性組成物層１を部分的に露光することにより、露光部１ａの感光性組成物層１を硬化させて、現像液に不溶にし、次に感光性組成物層１を現像液で現像することにより、未露光部１ｂの感光性組成物層１を除去するパターン膜１Ａの製造方法。 （もっと読む）

【課題】有機薄膜上での塗布時の濡れ性、ＵＶ−ｉ線での感光特性及び有機薄膜に対する接着性に優れ、低温硬化が可能である感光性ポリオルガノシロキサン組成物、これを用いたポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターン及びその形成方法、並びに半導体装置及びその製造方法の提供。
【解決手段】（ａ）特定構造のシラノール化合物と特定構造のアルコキシシラン化合物とを、触媒の存在下で水添加を行うことなく重合させて得られるポリシロキサン１００質量部、（ｂ）光重合開始剤０．２〜２０質量部、（ｃ）非イオン性界面活性剤０．０１〜１０質量部、並びに（ｄ）アルコール性水酸基を有する化合物及びケトン化合物から選択される少なくとも１種の有機溶媒１０〜１５０質量部、を含む感光性ポリオルガノシロキサン組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有し、レジスト材料の染み込み量が少ないレジスト下層膜を形成することができ、且つ保存安定性に優れるレジスト下層膜用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜用組成物は、側鎖にメタクリレート基を有する構成単位、及び側鎖にフェニル基を有する構成単位を含有するポリシロキサンと、溶剤と、を含む。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有し、レジスト材料の染み込み量が少ないレジスト下層膜を形成することができ、且つ保存安定性に優れるレジスト下層膜用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜用組成物は、下記一般式（１）で表される構成単位を含有するポリシロキサンと、溶剤と、を含む。


（Ｘは、置換されていてもよいメチレン基、又は置換されていてもよい炭素数２〜５の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を表す。） （もっと読む）

【課題】感光特性に優れ、２５０℃以下での低温硬化が可能であり、硬化後の伸度が高く、１８０℃キュア時での体積収縮及び、１５０℃での均熱重量減少率が小さく、ソフトベーク後のコーティング膜をタックフリーとすることができ、ワニスの粘度変化率が少ない新規な感光性ポリオルガノシロキサン組成物を実現すること。
【解決手段】下記（ａ）〜（ｅ）成分を含む感光性ポリオルガノシロキサン組成物。
（ａ）特定のポリオルガノシロキサン
（ｂ）光重合開始剤
（ｃ）光重合性の不飽和結合基を２つ以上有する、（ａ）成分以外の化合物
（ｄ）シリコーンレジン
（ｅ）５〜６員の窒素原子含有複素環基（芳香族性を持たないものも含む。）から選択される少なくとも１つの基を有する化合物 （もっと読む）

【課題】高耐熱性、高透明性の特性を有し、低濃度の現像液を用いても感度良好であり、かつ硬化膜において優れたアルカリ耐性を有するポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）ポリシロキサン、（ｂ）（メタ）アクリルポリマー、（ｃ）一般式（１）で表されるキノンジアジド化合物および（ｄ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
【化１】


（式中、Ｒ１は水素、または炭素数１〜８から選ばれるアルキル基を示す。Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４は水素原子、炭素数１〜８から選ばれるアルキル基、アルコキシル基、カルボキシル基、エステル基のいずれかを示す。各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４は同じであっても異なっていても良い。Ｑは５―ナフトキノンジアジドスルホニル基、水素原子のいずれかを表し、Ｑの全てが水素原子になることはない。ａ、ｂ、ｃ、α、βは０〜４の整数を表す。ただし、α＋β≧３である。） （もっと読む）

【課題】シリコウエハーまたは有機薄膜上での塗布時の濡れ性、ＵＶ−ｉ線での感光特性に優れるポリオルガノシロキサン組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターン、及び半導体装置の提供。
【解決手段】 下記（ａ）〜（ｃ）の各成分を含むポリオルガノシロキサン組成物。
（ａ）少なくとも１種の特定のシラノール化合物、及び少なくとも１種の特定のアルコキシシラン化合物を混合し、触媒の存在下、積極的に水を添加することなく重合させる方法で得られる、ポリオルガノシロキサン１００質量部。
（ｂ）光重合開始剤０．２〜２０質量部。
（ｃ）非イオン性界面活性剤０．０１〜１０質量部。 （もっと読む）

【課題】電気・電子材料、例えば、半導体デバイス、多層配線基板の製造用として有用なポリオルガノシロキサン及びそれを用いた感光性樹脂組成物で、優れたキュア残膜率を有し、アルカリ現像可能な樹脂膜を形成することが可能なポリオルガノシロキサン及び感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】特定シラノール化合物（ａ）、特定アルコキシシラン（ｂ）、及び特定酸無水物構造を含むアルコキシシラン（ｃ）を触媒の存在下、積極的に水を添加することなく縮合させる方法で得られるポリオルガノシロキサン、及びこれを含有する感光性樹脂組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】ＬＳＩチップのバッファコート材料や再配線層として好適な、キュア前後での膜減りが少なく、２．７以下という低誘電率で、製膜に適した粘度で、通常の光重合開始剤を用いても空気中で硬化可能な感光性シリコーン化合物を含む樹脂組成物、並びにそれを用いた樹脂絶縁膜を提供すること。
【解決手段】特定の構造を有する感光性シリコーン化合物１００質量部、及び光重合開始剤０．１〜２０質量部を含有する感光性樹脂組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】固体撮像素子や電子部品一体型製品の製造用として有用な、硬化時の収縮率が小さく、硬化後のパターンが密着性、耐熱性（２６０℃リフロー耐性）に優れ、黄変がなく、耐湿性を有し、高温でもクラックや剥がれが生じないという耐温度衝撃性に優れる、感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（I）特定の感光性樹脂；１００質量部、（II）光重合開始剤；該（I）感光性樹脂と下記（III）架橋性モノマーとの合計１００質量部に対して０．１〜５質量部、（III）CH_２＝CR−Ｏ−（PO）_ｎ−CR＝CH_２（Rは水素原子又はメチル基、POはプロピレンオキサイド基を示す。ｎは３〜１０の整数である。）で表される化合物を含有する架橋性モノマー；５〜１２００質量部を含有する感光性樹脂組成物、及びこれを用いたマイクロプラスチックレンズ又は液晶偏光板用光学素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】固体撮像素子や電子部品一体型製品の製造用として有用な、硬化時の収縮率が小さく、硬化後のパターンの密着性、耐熱性（２６０℃リフロー耐性）、耐湿性、高温でもクラックや剥がれが生じないという耐温度衝撃性に優れ、硬化後のパターンの屈折率が１．４７〜１．５３まで設計することができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（I）特定の感光性樹脂；１００質量部、（II）光重合開始剤；該（I）感光性樹脂と下記（III）架橋性モノマーとの合計１００質量部に対して０．１質量部以上５質量部以下、及び（III）架橋性モノマー；１００質量部超過１２００質量部以下を含有する感光性樹脂組成物、及びこれを用いたマイクロプラスチックレンズ又は液晶偏光板用光学素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＵＶ−ｉ線での感光特性及び有機薄膜に対する接着性に優れ、２５０℃以下での低温硬化が可能であり、この加熱硬化の過程での体積収縮が極めて小さく、更に加熱硬化後の樹脂構造体および樹脂膜において、低デガス性に優れる新規なポリオルガノシロキサン組成物の提供。
【解決手段】下記（ａ）〜（ｃ）の各成分を含むポリオルガノシロキサン組成物。
（ａ）特定のシラノール化合物及び特定のアルコキシシラン化合物を混合し、触媒の存在下、積極的に水を添加することなく重合させる方法で得られる、ポリオルガノシロキサン１００質量部
（ｂ）光重合開始剤０．２〜２０質量部
（ｃ）スルファニル基を少なくとも２つ以上含む多価チオール化合物１〜５０質量部 （もっと読む）

【課題】硬化レリーフパターンが永久材料として具備すべき実用レベルの力学物性を有し、現像後の硬化レリーフパターン底部に残滓や剥離などのダメージの無いレリーフパターンであるポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターン付き基材の製造方法の提供。
【解決手段】
金属配線を含む基材上又は金属配線を含まない基材上に、特定の感光性ポリオルガノシロキサン組成物を塗布してポリオルガノシロキサン膜を形成する工程、該ポリオルガノシロキサン膜を露光する露光工程、現像する工程、得られたポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターンをアルコール系化合物によって洗浄する工程、基材ごと加熱する工程、からなるポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターン付き基材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ現像性が良好であり、かつ、その硬化物が優れた液晶配向性と電圧保持特性を有する液晶表示素子用の突起形成に使用される感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 （メタ）アクリロイル基及びカルボキシル基を含有する親水性樹脂（Ａ）、ポリシロキサン（Ｂ）、および光ラジカル重合開始剤（Ｃ）を含有するアルカリ現像可能な液晶表示素子用の突起形成に用いられる感光性樹脂組成物（Ｑ）であり、ポリシロキサン（Ｂ）が２個以上の加水分解性アルコキシ基を有することが好ましい。 （もっと読む）