ホログラム転写箔
【課題】
別途保護層を設けなくても、ホログラム層のみでも充分な耐擦傷性などの高耐久性を有し、カードなどの媒体へ転写する際の箔キレなどの転写性よく転写することができるホログラム転写箔を提供する。
【解決手段】
基材１１、離型層１３、ホログラム層１５、反射層１７及び接着層１９を設けてなるホログラム転写箔１０において、前記離型層１３がメラミン系樹脂であり、前記ホログラム層１５が電離放射線硬化性樹脂及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含み、ハードコート機能を兼ねていることを特徴とし、また、電離放射線硬化性樹脂が特定のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有し、また、ホログラム層１５が電離放射線硬化樹脂：ポリエチレンワックス＝１００：０．０１〜１０であることも特徴とする。
別途保護層を設けなくても、ホログラム層のみでも充分な耐擦傷性などの高耐久性を有し、カードなどの媒体へ転写する際の箔キレなどの転写性よく転写することができるホログラム転写箔を提供する。
【解決手段】
基材１１、離型層１３、ホログラム層１５、反射層１７及び接着層１９を設けてなるホログラム転写箔１０において、前記離型層１３がメラミン系樹脂であり、前記ホログラム層１５が電離放射線硬化性樹脂及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含み、ハードコート機能を兼ねていることを特徴とし、また、電離放射線硬化性樹脂が特定のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有し、また、ホログラム層１５が電離放射線硬化樹脂：ポリエチレンワックス＝１００：０．０１〜１０であることも特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホログラム転写箔に関し、さらに詳しくは、耐擦傷性などの高耐久性や、意匠性及び／又はセキュリティ性に優れるホログラムを転写性よく転写することができるホログラム転写箔に関するものである。
【０００２】
本明細書において、配合を示す「比」、「部」、「％」などは特に断わらない限り質量基準であり、「／」印は一体的に積層されていることを示す。
また、「ＰＥＴ」は「ポリエチレンテレフタレート」の略語、同意語、機能的表現、通称、又は業界用語である。
【背景技術】
【０００３】
（主なる用途）本発明のホログラム転写箔を用いて転写した製品の主なる用途としては、社員証、会員証、学生証などのＩＤカード、ギフト券、入場証、通行証、サービスポイントなどの、一定の金額を払い込んだ（プリペイドという）権利や資格などを証明する媒体が適用できる。しかしながら、意匠性及びセキュリティ性に優れ、かつ、耐擦擦性などの耐久性が要求される用途であれば、特に限定されるものではない。
【０００４】
（背景技術）従来、金券類、カード類、及び各種証明書類などのは、資格証明や一定の経済的価値や効果を持つため、不正に偽造、変造、不正使用することが絶えない。特に、カラーコピー機の精度向上が著しく、各種の媒体類の偽造を容易にしている。
これを防止するため各種の偽造防止手段が施されている。光輝性、特にホログラム、回折格子などのレリーフ形状を有する転写箔は、特異な装飾像や立体像を表現できる意匠性と、これらホログラムや回折格子は高度な製造技術を要し、容易に製造できないことから、偽造防止としてセキュリティー性の向上に利用されている。
上記の如きカ−ド類などは意匠性、セキュリティ性に優れているが、繰り返し使用することにより、外力などで摩擦されて、傷が付いたり、剥れたりすることが多く、その結果、カ−ド全体としての意匠性やセキュリティ性が損われるという問題が生じる。該問題は、保護層（ハ−ドコ−ト層、ＯＰ層ともいう）を厚くしたり、硬化樹脂とすることによって解決されるが、転写時の箔キレが悪く、転写性が著しく低下するという問題点もある。
従って、ホログラム転写箔は、別途保護層を設けなくても、意匠性及び／又はセキュリティ性に優れるホログラム層のみでも充分な耐擦傷性などの高耐久性を有し、カードなどの媒体へ転写する際の箔キレなどの転写性よく転写することができることが求められている。また、耐擦傷性などの高耐久性のあるホログラム層とすることも考えられるが、賦型性が著しく悪くなるので、このような高耐久性（ハードコート機能）のホログラム層でもホログラム機能を発現する微細な凹凸を賦型し易いこともも求められている。
【０００５】
（先行技術）従来、ホログラム転写箔のホログラム層の表面側に保護層を設け、ベースフィルムとホログラム形成層との間に剥離性を与え、しかも転写後の表面のホログラム形成層の保護等を与えるための役割を果たし、その材質としてはアクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、オレフィン系樹脂、アミド系樹脂、エボキン系樹脂等が知られている（例えば、特許文献１〜２参照。）。
しかしながら、これらの保護層は、ホログラム層とは別個にもう１層を設けるために、生産性が悪く、高コストとなるという欠点がある。
【０００６】
【特許文献１】特開昭６１−１６０４８１号公報
【特許文献２】特開２００４−１８８７９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで、本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。その目的は、別途保護層を設けなくても、意匠性及び／又はセキュリティ性に優れるホログラム層のみでも充分な耐擦傷性などの高耐久性を有し、カードなどの媒体へ転写する際の箔キレなどの転写性よく転写することができ、かつ、耐擦傷性などの高耐久性のホログラム層は賦型性が悪いが、このような高耐久性のホログラム層でもホログラム機能の微細な凹凸を賦型し易いホログラム転写箔を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、
請求項１の発明に係わるホログラム転写箔は、基材と、該基材の一方の面へ少なくとも離型層、ホログラム層、反射層及び接着層を設けてなるホログラム転写箔において、前記離型層がメラミン系樹脂であり、前記ホログラム層が電離放射線硬化性樹脂及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含み、ハードコート機能を兼ねているように、したものである。
請求項２の発明に係わるホログラム転写箔は、上記電離放射線硬化性樹脂が（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有するように、したものである。
請求項３の発明に係わるホログラム転写箔は、上記ホログラム層のポリエチレンワックスの含有が質量基準で、電離放射線硬化樹脂：ポリエチレンワックス＝１００：０．０１〜１０であるように、したものである。
【発明の効果】
【０００９】
請求項１の本発明によれば、別途保護層を設けなくても、意匠性及び／又はセキュリティ性に優れるホログラム層のみでも充分な耐擦傷性などの高耐久性を有し、カードなどの媒体へ転写する際の箔キレなどの転写性よく転写することができるホログラム転写箔が提供される。
請求項２の本発明によれば、請求項１の効果に加えて、ホログラム層へホログラム機能の微細な凹凸を賦型し易いホログラム転写箔が提供される。
請求項３の本発明によれば、請求項１〜２の効果に加えて、カードなどの媒体へ転写する際の箔キレなどの転写性よく転写することができるホログラム転写箔が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。
図１は、本発明の１実施例を示すホログラム転写箔の断面図である。
図２は、本発明のホログラム転写箔を用いて転写した被転写物である。
【００１１】
（転写箔）本発明のホログラム転写箔は、図１に示すように、基材１１と、該基材１１の一方の面へ少なくとも離型層１３、ホログラム層１５、反射層１７及び接着層１９を設ける。さらに、必要に応じて他の層を設けてもよい。例えば、基材１１／離型層１３／ホログラム層１５／反射層１７／他の機能層（必要に応じて）／接着層１９の層構成としてもよい。なお、他の機能層の構成位置は、基材１１／離型層１２／剥離層１３の層間以外であれば任意でよい。他の機能層としては、特に限定されないが、例えば、剥離層、印刷絵柄層、紫外線吸収層などが例示できる。
【００１２】
離型層１３はメラミン系樹脂であり、ホログラム層１５が電離放射線硬化性樹脂及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含み、ハードコート機能を兼ねさせる。該ホログラム層１５は、耐擦傷性（耐スクラッチ性ともいう）や耐摩耗性などの高耐久性（即ち、ハードコート層を兼ねる）のホログラム層１５であるが、ホログラム機能を発現する微細な凹凸を容易に賦型できるので、別途、耐久性の保護層を設けなくても、意匠性及び／又はセキュリティ性に優れるホログラム転写箔とすることができる。
表面に保護層を有しないホログラム層１５のみを転写しても、充分な耐擦傷性、耐摩耗性、耐スクラッチ性などの高耐久性を有し、しかも、カードなどの媒体へ転写する際には、箔キレがよいので転写性よく転写することができる。
【００１３】
（基材）基材１１としては、耐熱性、機械的強度、製造に耐える機械的強度、耐溶剤性などがあれば、用途に応じて種々の材料が適用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート・ポリブチレンテレフタレート・ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、アクリル系樹脂、イミド系樹脂、ポリアリレートなどのエンジニアリング樹脂、ポリカーボネート、セロファンなどのセルロース系フィルムなどがある。該基材は、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、または、混合体（アロイでを含む）、若しくは複数層からなる積層体であっても良い。通常は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系のフィルムが、耐熱性、機械的強度がよいため好適に使用され、ポリエチレンテレフタレートが最適である。
【００１４】
また、該基材１１は、延伸フィルムでも、未延伸フィルムでも良いが、強度を向上させる目的で、一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。該基材の厚さは、通常、２．５〜５０μｍ程度が適用できるが、２．５〜１２μｍが好適で、４〜６μｍが最適である。該基材１１は、塗布に先立って塗布面へ、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー（アンカーコート、接着促進剤、易接着剤とも呼ばれる）塗布処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの易接着処理を行ってもよい。また、必要に応じて、充填剤、可塑剤、着色剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。
【００１５】
（離型層、剥離層）転写時の剥離性を向上させるために、離型層１３を設け、必要に応じて、剥離層１４も設けてもよく、離型層１３及び剥離層１４の両方を設けるとより転写性をより向上できる。
【００１６】
（離型層）離型層１３としては、通常、離型性樹脂、離型剤を含んだ樹脂、電離放射線で架橋する硬化性樹脂などがあるが、本発明ではメラミン系樹脂を用い、後述するハードコート層１５と組合わせることで、離型層１３とハードコート層１５と間の剥離が安定し、転写時の箔切れ性を著しく向上させることができる。
【００１７】
離型層１３の形成は、該樹脂を溶媒へ分散又は溶解して、ロールコート、グラビアコートなどの公知のコーティング方法で、塗布し乾燥して、温度１５０℃〜２００℃程度で焼き付ける。離型層１３の厚さとしては、通常は０．０１μｍ〜５．０μｍ程度、好ましくは０．５μｍ〜３．０μｍ程度である。
【００１８】
（剥離層）剥離層１４としては、弗素系樹脂、シリコーン、各種のワックスなどの離型剤を添加または共重合させたアクリル系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル樹脂、繊維素系樹脂、ワックス、メラミン系樹脂等が例示でき、離型層１３及び剥離層１４の両方を設ける場合には、適宜組み合わせて用いればよく、この場合には、剥離層１４は転写後に保護層としての機能を合わせ持つ。
【００１９】
（ホログラム層）ホログラム層１５としては、少なくとも電離放射線硬化性樹脂及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含ませる。
また、好ましくは、ホログラム層１５の材料としては、（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂（本明細書では「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」と呼称する）と及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含むようにする。さらに好ましくは、（メタ）アクリレートオリゴマーも含ませて硬化させる。該組成物を塗布し乾燥して、ホログラム機能を発現する微細な凹凸レリーフを賦型した後に、電離放射線で硬化させればよい。
【００２０】
（電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ）「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」としては、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂の硬化物、具体的には、特開２００１−３２９０３１号公報で開示されている光硬化性樹脂などが例示でき、実施例でも述べる。
即ち、「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物である。
【００２１】
（（メタ）アクリレートオリゴマー）（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、耐熱性のあるオリゴマーであればよく、例えば、日本合成化学社の商品名；紫光６６３０Ｂ、７５１０Ｂ、７６３０Ｂなどが例示できる。
【００２２】
（ポリエチレンワックス）ポリエチレンワックスとしては、ポリエチレン系樹脂の粒子やビーズが挙げられるが、好ましくは球状ビーズである。但し、ポリエチレンワックスを添加すると、箔切れ性は低下するので、その添加量は、電離放射線硬化樹脂１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部程度、好ましくは０．１〜５質量部とする。
【００２３】
（反応性シリコーン）反応性シリコーンとしては、電離放射線で硬化時に樹脂と反応し結合して一体化するもので、アクリル変性、メタクリル変性、又はエポキシ変性などで変性した反応性シリコーンで、該反応性シリコーンを含有させる質量基準での割合としては「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」１００に対して、０．１〜１０部程度、好ましくは０．３〜５部である。この範囲未満ではレリーフの賦型時にプレススタンパとの剥離が不十分であり、プレススタンパの汚染を防止することが困難で賦型性が悪い。また、この範囲を超えてはホログラム層面への反射層の密着性が低く、ホログラム層と反射層との間で剥離し商品価値を失ってしまう。従来のシリコーンオイルの添加では、反射層との密着性が悪い。
【００２４】
このように、ホログラム層１５には、「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」、必要に応じて（メタ）アクリレートオリゴマー、及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含ませることで、レリーフの賦型性がよく光回折効果が高く、かつ、ハードコート機能を兼ねさせることができる。
【００２５】
（１）電離放射線硬化前の塗布状態のホログラム層１５の塗膜は指乾状態でべとつかず、ブロッキングせずに巻き取ることができるので、ロールツーロール加工ができる。
（２）ホログラム層１５へは反応性シリコーンを含ませることで、賦型性がよいので、レリーフ構造を容易に賦型でき、賦型後に電離放射線で硬化できる。
（３）ポリエチレンワックスを含ませることで、転写後にはホログラム層１５が最表面層となるが、極めて過酷な環境での使用、長期間にわたる使用、及び／又は多数回の繰り返し使用などでも、溶剤、機械的な摩擦、及び摩耗から支持体に設けられた画像を保護し、傷付きにくく耐久性に優れる。
（４）ホログラム層１５はメラミン系樹脂を用いた離型層１３と界面を接しているので、ホログラム層１５と離型層１３との間で剥離し、安定した剥離性を有するので、転写時には箔切れがよく、バリなどの発生も極めて少なくすることができる。
【００２６】
（ホログラム層の形成）ホログラム層１５は、上記の電離放射線硬化性樹脂、必要に応じて（メタ）アクリレートオリゴマー、反応性シリコーン、及びポリエチレンワックスを含ませ、さらに必要に応じて光重合開始剤、可塑剤、安定剤、界面活性剤等を加え、溶媒へ分散または溶解して、ロールコート、グラビアコート、コンマコート、ダイコートなどの公知のコーティング方法で塗布し乾燥して塗膜を形成したりすれば良い。ホログラム層１５の厚さとしては、通常は０．５μｍ〜２０μｍ程度、好ましくは１μｍ〜１０ｍ程度であり、複数回の塗布でもよい。
【００２７】
（ホログラム）次に、ホログラム層１５の表面には、ホログラムなどの光回折効果の発現する所定のレリーフ構造を賦型し、硬化させる。ホログラムは物体光と参照光との光の干渉による干渉縞を凹凸のレリーフ形状で記録されたもので、例えば、フレネルホログラム等のレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラム（ＣＧＨ）、ホログラフィック回折格子などがある。レリーフ形状は凹凸形状であり、特に限定されるものではなく、微細な凹凸形状を有する光拡散、光散乱、光反射、光回折などの機能を発現するものでもよく、例えば、フーリエ変換やレンチキュラーレンズ、光回折パターン、モスアイ、が形成されたものである。また、光回折機能はないが、特異な光輝性を発現するヘアライン柄、マット柄、万線柄、干渉パターンなどでもよい。
【００２８】
これらのレリーフ形状の作製方法としてはホログラム撮影記録手段を利用して作製されたホログラムや回折格子の他に、干渉や回折という光学計算に基づいて電子線描画装置等を用いて作製されたホログラムや回折格子をあげることもできる。また、ヘアライン柄や万線柄のような比較的大きなパターンなどは機械切削法でもよい。これらのホログラム及び／又は回折格子の単一若しくは多重に記録しても、組み合わせて記録しても良い。これらの原版は公知の材料、方法で作成することができ、通常、感光性材料を塗布したガラス板を用いたレーザ光干渉法、電子線レジスト材料を塗布したガラス板に電子線描画装置を用いてパターン作製する電子線描画法をなどが適用できる。
【００２９】
（レリーフの賦型）ホログラム層１５面へ、上記のレリーフ形状を賦形（複製ともいう）する。ホログラムの賦型は、公知の方法によって形成でき、例えば、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレリーフとして記録する場合には、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版をプレス型（スタンパという）として用い、上記樹脂層上に前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製することができる。
【００３０】
（レリーフの硬化）ホログラム層１５は、スタンパでエンボス中、又はエンボス後に、電離放射線を照射して、電離放射線硬化性樹脂を硬化させる。上記の電離放射線硬化性樹脂は、レリーフを形成後に、電離放射線を照射して硬化（反応）させると電離放射線硬化樹脂（ホログラム層１５）となる。電離放射線としては、電磁波が有する量子エネルギーで区分する場合もあるが、本明細書では、すべての紫外線（ＵＶ‐Ａ、ＵＶ‐Ｂ、ＵＶ‐Ｃ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線を包含するものと定義する。従って、電離放射線としては、紫外線（ＵＶ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、または電子線などが適用できるが、紫外線（ＵＶ）が好適である。電離放射線で硬化する電離放射線硬化性樹脂は、紫外線硬化の場合は光重合開始剤、及び／又は光重合促進剤を添加し、エネルギーの高い電子線硬化の場合は添加しないで良く、また、適正な触媒が存在すれば、熱エネルギーでも硬化できる。
【００３１】
（レリーフの絵柄）ホログラム層１５の絵柄は、特に限定されないが、擬似連続絵柄とすることが好ましい。擬似連続絵柄はプレス型（スタンパという）を作成する際に、小さなレリーフ版の複数を、精度よく突合せてつなぎ目を目立たなくしたり、つなぎ目を樹脂で埋めたりすればよい。このように、擬似連続絵柄とすることで、できるだけ大きな面積、又は好ましくは全面とすることもできる。
【００３２】
（反射層）反射層１７は、所定のレリーフ構造を設けたホログラム層１５面のレリーフ面へ、反射層１７へ設けることにより、レリーフの反射及び／又は回折効果を高めるので、ホログラム層１５の反射率のより高れば、特に限定されなず、例えば金属薄膜が適用できる。該反射層１７としては、通常、金属層や透明層が適用できるが、ＩＤカードなどのように、支持体１０１に画像１０５を有する場合には、画像１０５を観察できる透明層が好ましい。支持体１０１に画像１０５を有しない場合や、支持体１０１の１部分へ転写する場合には、不透明な金属層でもよい。
【００３３】
該反射層１７に用いる金属としては、金属光沢を有し光を反射する金属元素の薄膜で、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ等の金属、及びその酸化物、硫化物、窒化物等の薄膜を単独又は複数を組み合わせてもよい。上記の光反射性の金属薄膜の形成は、いずれも１０〜２０００ｎｍ程度、好ましくは２０〜１０００ｎｍの厚さになるよう、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの真空薄膜法で得られるが、その他、メッキなどによっても形成できる。反射層１７の厚さがこの範囲未満では、光がある程度透過して効果が減じ、また、それ以上では、反射効果は変わらないので、コスト的に無駄である。
【００３４】
また、反射層１７として、ほぼ無色透明な色相で、その光学的な屈折率がホログラム層のそれとは異なることにより、金属光沢が無いにもかかわらず、ホログラムなどの光輝性を視認できるから、透明なホログラムを作製することができる。例えば、ホログラム層１５よりも光屈折率の高い薄膜、および光屈折率の低い薄膜とがあり、前者の例としては、ＺｎＳ、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｓ3、ＳｉＯ、ＳｎＯ2、ＩＴＯ等があり、後者の例としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ2、ＡｌＦ3がある。好ましくは、金属酸化物又は窒化物であり、具体的には、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｇａ、Ｒｂ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ａｕ等の酸化物又は窒化物他はそれらを２種以上を混合したもの等が挙げられる。またアルミニウム等の一般的な光反射性の金属薄膜も、厚みが２００Å以下になると、透明性が出て使用できる。
【００３５】
透明金属化合物の形成は、金属の薄膜と同様、ホログラム層１５のレリーフ面に、１０〜２０００ｎｍ程度、好ましくは２０〜１０００ｎｍの厚さになるよう、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、ＣＶＤなどの真空薄膜法などにより設ければよい。さらには、ホログラム層１５と光の屈折率の異なる透明な合成樹脂を使用してもよく、接着層１９材料とホログラム層１５材料の屈折率が十分に異なる場合には、接着層１９が反射層１９を兼ねることもできる。
【００３６】
（接着層）接着層１９としては、公知の加熱されると溶融または軟化して接着効果を発揮する感熱接着剤が適用でき、具体的には、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂などが挙げられる。該接着層１９には、マイクロシリカなどのフィラーを含むことが、箔切れ性の点で好ましい。また、接着層１９の樹脂としては、９５℃程度の低温で溶融接着し、６０℃程度になると固化して接着する融点が６０〜９５℃ものが好ましい。融点が上記範囲未満であると、支持体との接着性が不十分であり、形成された画像を使用する温度が制限される。また、融点が上記範囲を越えるとサーマルヘッドによる加熱では転写性が不十分となり、又、ハードコート層の箔切れ性が低下し、解像性の良い転写が困難となる。
該材料樹脂を溶剤に溶解または分散させて、適宜顔料などの添加剤を添加して、公知のロールコーティング、グラビアコーティング、コンマコーティングなどの方法で塗布し乾燥させて、厚さ１〜３０μｍの層を得る。
【００３７】
（転写）このようにして得られた本発明のホログラム転写箔１０を用いて、図２のように、ホログラム層１５、及び接着層１９を、支持体１０１に形成された画像１０５の表面へ転写する。なお、転写時には離型層１３とホログラム層１５との間で剥離するが、若干離型層１３の１部がホログラム層１５へ移行する場合もあるが、本発明の範囲内である。
【００３８】
（転写法）支持体１０１への形成方法としては、公知の転写法でよく、例えば、熱刻印によるホットスタンプ（箔押）、熱ロールによる全面又はストライプ転写、サーマルヘッド（感熱印画ヘッド）によるサーマルプリンタ（熱転写プリンタともいう）などの公知の方法が適用できる。スポット状、文字、数字、イラストなどの任意の形状を転写してもよい。異なる任意の形状である顔写真などの可変情報を連続操作できたり、オンデマンドで印画できるサーマルプリンタが好ましい。
【００３９】
また、背景技術で説明したように、極めて過酷な環境での使用、長期にわたる使用期限、及び／又は多数回の繰り返し使用などでは、未だ充分な耐久性が得られていなかったので、保護層（ハードコート層、本発明のホログラム層が兼ねている）を厚くすればよいが、厚くすると箔切れが著しく悪くなるので、別途、保護層を重ねて２回転写していた。本発明のホログラム転写箔１０によれば、画像の保護性が高く、セキュリティー性もあるホログラム層１５を、剥離性及び箔切れ性がよく、１回のみでで転写することができる。
該ホログラム層１５が最表面に位置するようになり、溶剤、機械的な摩擦、及び摩耗から支持体に設けられた画像を保護し、傷付きにくく耐久性が高まる。
このように、機械的化学的な損傷から長期間にわたって保護できるので、極めて過酷な環境で使用されるガソリンスタンドカードや工事現場カード、及び、使用期限がなかったり、長期にわたる入退室カードやポイントカード、金融機関などの多数のセキュリティ管理された部屋への入退室を繰り返す入退室カードなどにも好適に使用することができる。
【００４０】
（支持体）支持体１０１としては、特に限定されず、例えば天燃繊維紙、コート紙、トレーシングペーパー、転写時の熱で変形しないプラスチックフイルム、ガラス、金属、セラミックス、木材、布あるいは染料受容性のある媒体等いずれのものでもよく、用途によって、適宜選択すればよい。また、支持体１０１の媒体はその少なくとも１部が、画像、着色、印刷、その他の加飾が施されていてもよい。なお、図２では昇華転写タイプの熱転写方法による画像で、受像層１０３へ形成した画像を例示しているが、受像層１０３の有無には限定されない。
【００４１】
（画像）特に好ましい画像１０５としては、耐久性に劣る画像で、例えば、イエロー、マゼンダ及びシアン（更に必要に応じてブラック）の着色熱転写層を面順次に繰返し多数設けた長尺熱転写フイルムを用いる、溶融転写タイプ、昇華転写タイプの熱転写方法による画像である。該画像は、身分証明書等のＩＤカードを作成する場合、溶融転写タイプの場合は、文字や数字等の如き画像の形成は容易であるが、これらの画像は耐久性、特に耐摩擦性が劣るという欠点がある。一方、昇華転写タイプの場合には、顔写真等の階調性画像を形成することが出来るが、形成された画像は通常の印刷インキとは異なり、ビヒクルが無い為、耐光性、耐候性、耐摩擦性等の耐久性に劣るという問題がある。
該画像は、本発明のホログラム転写箔１０を用いて表面へ転写することで、ハードコート層を兼ねるホログラム層１５が最表面に位置し、画像を保護し、耐久性を高め、かつ、ホログラムの持つ高意匠性とセキュリティ性をも兼ねることとなる。
【００４２】
（耐久性）ホログラム層１５の鉛筆硬度試験は、ＪＩＳ−Ｋ５４００に準拠して測定し、Ｈ以上の硬度を有していた。
また、ホログラム層１５のスクラッチ強度は、表面の充分な耐摩擦性の点から、サファイア１５０ｇ以上、好ましくは２００ｇ以上である。
なお、スクラッチ強度の測定方法は、２３℃、５５％ＲＨの条件下で２４時間調湿した試料に対して、耐摩耗性試験機（ＨＥＩＤＯＮ−１８）を用い、０．８ｍｍφサファイア針を直角にあてがい、サファイア針に掛かる荷重を０ｇから２００ｇまで徐々に増加させ、６０ｃｍ／ｍｉｎで試料表面を摺動して移動させながら、表面に傷が付き始める時の荷重の測定を行った。荷重が大きいほど良好であることを表す。
【実施例】
【００４３】
以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。
【００４４】
（実施例１）基材１１として厚さ２５μｍのＰＥＴフィルムを用い、該基材１１の一方の面へ、グラビアコート法で、ＴＣＭ０１メジューム（大日本インキ社製、メラミン樹脂商品名）塗工液を乾燥後２μｍになるように塗布し乾燥して、０８０℃２０秒間焼き付けて、離型層１３を形成した。
該離型層１３面へ、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物をグラビアリバースコーターで乾燥後の厚さが２μｍになるように、塗工し１００℃で乾燥させた。
・＜電離放射線硬化性樹脂組成物の作製手順＞
まず、「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」は以下の手順で、生成した。撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を取り付けた反応器に、酢酸エチル２０６．１ｇ及びイソホロンジイソシアネートの三量体（ＨＵＬＳ社製品、ＶＥＳＴＡＮＡＴ Ｔ１８９０、融点１１０℃）１３３．５ｇを仕込み、８０℃に昇温して溶解させた。溶液中に空気を吹き込んだのち、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．３８ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業社製品、ビスコート３００）２４９．３ｇ及びジブチル錫ジラウレート０．３８ｇを仕込んだ。８０℃で５時間反応させたのち酢酸エチル６８８．９ｇを添加して冷却した。
該「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」と、造膜性樹脂（アクリル系オリゴマー）、反応性シリコーン、ポリエチレンワックス、光重合開始剤、及び溶媒を下記の組成で配合して電離放射線硬化性樹脂組成物を調製した。
・＜ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物＞
「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」 ２５質量部
メタアクリレートオリゴマー（日本合成化学社製、商品名紫光６６３０Ｂ）５質量部
反応性シリコーン（信越化学社製、商品名Ｘ−２２−２４４５） ０．２質量部
ポリエチレンワックス（平均粒径２．０μｍ） ０．３質量部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア９０７） ０．９質量部
酢酸エチル ７０質量部
次に、該層面へ、２光束干渉法による回折格子から２Ｐ法で複製した擬似連続絵柄としたスタンパを複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス（エンボス）して、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させた。
該ホログラム層１５のレリーフ面へ真空蒸着法で厚さが５０ｎｍの酸化チタン薄膜を形成して反射層１７を形成した。
該反射層１７面へ、下記の接着層組成物をグラビアコーターで乾燥後の塗布量が１μｍになるように、塗工し１００℃で乾燥させて、接着層１９を形成して、実施例１のホログラム転写箔１０を得た。
・＜接着層組成物＞
ポリエステル樹脂Ｐ−１７０（日本合成化学社製、商品名） ２０質量部
マイクロシリカ（平均粒子径０．５μ） １０質量部
溶媒（ＭＥＫ：トルエン＝１：１） ７０質量部
【００４５】
（実施例２）ホログラム層１５の電離放射線硬化性樹脂組成物として、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物を用いる以外は、実施例１と同様にして、実施例２のホログラム転写箔１０を得た。
・＜ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物＞
「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」 ２５質量部
メタアクリレートオリゴマー（日本合成化学社製、商品名紫光７５１０Ｂ）５質量部
反応性シリコーン（信越化学社製、商品名Ｘ−２２−１６０２） ０．２質量部
ポリエチレンワックス（平均粒径２．０μｍ） ２質量部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア９０７） ０．９質量部
酢酸エチル ７０質量部
【００４６】
（比較例１）ホログラム層１５の電離放射線硬化性樹脂組成物として、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物を用いる以外は、実施例１と同様にして、比較例１のホログラム転写箔を得た。
・＜ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物＞
「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」 ２５質量部
メタアクリレートオリゴマー（日本合成化学社製、商品名紫光６６３０Ｂ）５質量部
反応性シリコーン（信越化学社製、商品名Ｘ−２２−２４４５） ０．２質量部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア９０７） ０．９質量部
酢酸エチル ７０質量部
【００４７】
（比較例２）ホログラム層１５の電離放射線硬化性樹脂組成物として、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物を用いる以外は、実施例１と同様にして、比較例２のホログラム転写箔を得た。
・＜ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物＞
「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」 ２５質量部
メタアクリレートオリゴマー（日本合成化学社製、商品名紫光６６３０Ｂ）５質量部
反応性シリコーン（信越化学社製、商品名Ｘ−２２−２４４５） ０．２質量部
ポリエチレンワックス（平均粒径２．０μｍ） ５質量部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア９０７） ０．９質量部
酢酸エチル ７０質量部
【００４８】
（評価）評価は支持体への転写試験で行った。転写試験は、支持体１０１としてポリ塩化ビニール製のクレジットカード仕様のカードを用い、該支持体１０１の表面へ、ＦＡＲＧＯ製のカード用プリンタＨＤＰ８２０で、カラー昇華性インクリボンを用いて顔写真を印画した後に、同じくＦＡＲＧＯ製のカード用プリンタＨＤＰ８２０で、実施例及び比較例のハードコート層転写箔１０の接着層１９面を重ねて熱転写し、カードへの転写状況を観察した。
【００４９】
（評価結果）実施例１〜３では、転写時の剥離性もよく、箔切れ性もよく、正常に転写できた。しかしながら、比較例１では剥離性が悪く剥離しにくく、転写時にバリが発生して正常に転写できなかった。比較例２ではホログラムの賦型性が悪く、光回折効果が得られなかった。なお、実施例１〜３及び比較例１のホログラム層に賦型された回折格子模様は充分な光回折効果が発現されており、意匠性とセキュリティ性に優れていた。
また、実施例１〜３の第１ハードコート層１５面の鉛筆硬度試験を、ＪＩＳ−Ｋ−５４００に準拠して測定したところ、２Ｈ以上の硬度を有し、さらに、実施例１〜３の第１ハードコート層１５面のスクラッチ強度はサファイア２００ｇ以上であり、充分な耐久性を有していた。しかしながら、比較例１ではスクラッチ強度が悪く、充分な耐久性を有していなかった。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明の１実施例を示すホログラム転写箔の断面図である。
【図２】本発明のホログラム転写箔を用いて転写した被転写物である。
【符号の説明】
【００５１】
１０：ハードコート層転写箔
１１：基材
１３：離型層
１５：ホログラム層
１７：反射層
１９：接着層
２１：紫外線吸収層
１００：媒体
１０１：支持体
１０３：受像層
１０５：画像
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホログラム転写箔に関し、さらに詳しくは、耐擦傷性などの高耐久性や、意匠性及び／又はセキュリティ性に優れるホログラムを転写性よく転写することができるホログラム転写箔に関するものである。
【０００２】
本明細書において、配合を示す「比」、「部」、「％」などは特に断わらない限り質量基準であり、「／」印は一体的に積層されていることを示す。
また、「ＰＥＴ」は「ポリエチレンテレフタレート」の略語、同意語、機能的表現、通称、又は業界用語である。
【背景技術】
【０００３】
（主なる用途）本発明のホログラム転写箔を用いて転写した製品の主なる用途としては、社員証、会員証、学生証などのＩＤカード、ギフト券、入場証、通行証、サービスポイントなどの、一定の金額を払い込んだ（プリペイドという）権利や資格などを証明する媒体が適用できる。しかしながら、意匠性及びセキュリティ性に優れ、かつ、耐擦擦性などの耐久性が要求される用途であれば、特に限定されるものではない。
【０００４】
（背景技術）従来、金券類、カード類、及び各種証明書類などのは、資格証明や一定の経済的価値や効果を持つため、不正に偽造、変造、不正使用することが絶えない。特に、カラーコピー機の精度向上が著しく、各種の媒体類の偽造を容易にしている。
これを防止するため各種の偽造防止手段が施されている。光輝性、特にホログラム、回折格子などのレリーフ形状を有する転写箔は、特異な装飾像や立体像を表現できる意匠性と、これらホログラムや回折格子は高度な製造技術を要し、容易に製造できないことから、偽造防止としてセキュリティー性の向上に利用されている。
上記の如きカ−ド類などは意匠性、セキュリティ性に優れているが、繰り返し使用することにより、外力などで摩擦されて、傷が付いたり、剥れたりすることが多く、その結果、カ−ド全体としての意匠性やセキュリティ性が損われるという問題が生じる。該問題は、保護層（ハ−ドコ−ト層、ＯＰ層ともいう）を厚くしたり、硬化樹脂とすることによって解決されるが、転写時の箔キレが悪く、転写性が著しく低下するという問題点もある。
従って、ホログラム転写箔は、別途保護層を設けなくても、意匠性及び／又はセキュリティ性に優れるホログラム層のみでも充分な耐擦傷性などの高耐久性を有し、カードなどの媒体へ転写する際の箔キレなどの転写性よく転写することができることが求められている。また、耐擦傷性などの高耐久性のあるホログラム層とすることも考えられるが、賦型性が著しく悪くなるので、このような高耐久性（ハードコート機能）のホログラム層でもホログラム機能を発現する微細な凹凸を賦型し易いこともも求められている。
【０００５】
（先行技術）従来、ホログラム転写箔のホログラム層の表面側に保護層を設け、ベースフィルムとホログラム形成層との間に剥離性を与え、しかも転写後の表面のホログラム形成層の保護等を与えるための役割を果たし、その材質としてはアクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、オレフィン系樹脂、アミド系樹脂、エボキン系樹脂等が知られている（例えば、特許文献１〜２参照。）。
しかしながら、これらの保護層は、ホログラム層とは別個にもう１層を設けるために、生産性が悪く、高コストとなるという欠点がある。
【０００６】
【特許文献１】特開昭６１−１６０４８１号公報
【特許文献２】特開２００４−１８８７９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで、本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。その目的は、別途保護層を設けなくても、意匠性及び／又はセキュリティ性に優れるホログラム層のみでも充分な耐擦傷性などの高耐久性を有し、カードなどの媒体へ転写する際の箔キレなどの転写性よく転写することができ、かつ、耐擦傷性などの高耐久性のホログラム層は賦型性が悪いが、このような高耐久性のホログラム層でもホログラム機能の微細な凹凸を賦型し易いホログラム転写箔を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、
請求項１の発明に係わるホログラム転写箔は、基材と、該基材の一方の面へ少なくとも離型層、ホログラム層、反射層及び接着層を設けてなるホログラム転写箔において、前記離型層がメラミン系樹脂であり、前記ホログラム層が電離放射線硬化性樹脂及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含み、ハードコート機能を兼ねているように、したものである。
請求項２の発明に係わるホログラム転写箔は、上記電離放射線硬化性樹脂が（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有するように、したものである。
請求項３の発明に係わるホログラム転写箔は、上記ホログラム層のポリエチレンワックスの含有が質量基準で、電離放射線硬化樹脂：ポリエチレンワックス＝１００：０．０１〜１０であるように、したものである。
【発明の効果】
【０００９】
請求項１の本発明によれば、別途保護層を設けなくても、意匠性及び／又はセキュリティ性に優れるホログラム層のみでも充分な耐擦傷性などの高耐久性を有し、カードなどの媒体へ転写する際の箔キレなどの転写性よく転写することができるホログラム転写箔が提供される。
請求項２の本発明によれば、請求項１の効果に加えて、ホログラム層へホログラム機能の微細な凹凸を賦型し易いホログラム転写箔が提供される。
請求項３の本発明によれば、請求項１〜２の効果に加えて、カードなどの媒体へ転写する際の箔キレなどの転写性よく転写することができるホログラム転写箔が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。
図１は、本発明の１実施例を示すホログラム転写箔の断面図である。
図２は、本発明のホログラム転写箔を用いて転写した被転写物である。
【００１１】
（転写箔）本発明のホログラム転写箔は、図１に示すように、基材１１と、該基材１１の一方の面へ少なくとも離型層１３、ホログラム層１５、反射層１７及び接着層１９を設ける。さらに、必要に応じて他の層を設けてもよい。例えば、基材１１／離型層１３／ホログラム層１５／反射層１７／他の機能層（必要に応じて）／接着層１９の層構成としてもよい。なお、他の機能層の構成位置は、基材１１／離型層１２／剥離層１３の層間以外であれば任意でよい。他の機能層としては、特に限定されないが、例えば、剥離層、印刷絵柄層、紫外線吸収層などが例示できる。
【００１２】
離型層１３はメラミン系樹脂であり、ホログラム層１５が電離放射線硬化性樹脂及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含み、ハードコート機能を兼ねさせる。該ホログラム層１５は、耐擦傷性（耐スクラッチ性ともいう）や耐摩耗性などの高耐久性（即ち、ハードコート層を兼ねる）のホログラム層１５であるが、ホログラム機能を発現する微細な凹凸を容易に賦型できるので、別途、耐久性の保護層を設けなくても、意匠性及び／又はセキュリティ性に優れるホログラム転写箔とすることができる。
表面に保護層を有しないホログラム層１５のみを転写しても、充分な耐擦傷性、耐摩耗性、耐スクラッチ性などの高耐久性を有し、しかも、カードなどの媒体へ転写する際には、箔キレがよいので転写性よく転写することができる。
【００１３】
（基材）基材１１としては、耐熱性、機械的強度、製造に耐える機械的強度、耐溶剤性などがあれば、用途に応じて種々の材料が適用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート・ポリブチレンテレフタレート・ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、アクリル系樹脂、イミド系樹脂、ポリアリレートなどのエンジニアリング樹脂、ポリカーボネート、セロファンなどのセルロース系フィルムなどがある。該基材は、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、または、混合体（アロイでを含む）、若しくは複数層からなる積層体であっても良い。通常は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系のフィルムが、耐熱性、機械的強度がよいため好適に使用され、ポリエチレンテレフタレートが最適である。
【００１４】
また、該基材１１は、延伸フィルムでも、未延伸フィルムでも良いが、強度を向上させる目的で、一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。該基材の厚さは、通常、２．５〜５０μｍ程度が適用できるが、２．５〜１２μｍが好適で、４〜６μｍが最適である。該基材１１は、塗布に先立って塗布面へ、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー（アンカーコート、接着促進剤、易接着剤とも呼ばれる）塗布処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの易接着処理を行ってもよい。また、必要に応じて、充填剤、可塑剤、着色剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。
【００１５】
（離型層、剥離層）転写時の剥離性を向上させるために、離型層１３を設け、必要に応じて、剥離層１４も設けてもよく、離型層１３及び剥離層１４の両方を設けるとより転写性をより向上できる。
【００１６】
（離型層）離型層１３としては、通常、離型性樹脂、離型剤を含んだ樹脂、電離放射線で架橋する硬化性樹脂などがあるが、本発明ではメラミン系樹脂を用い、後述するハードコート層１５と組合わせることで、離型層１３とハードコート層１５と間の剥離が安定し、転写時の箔切れ性を著しく向上させることができる。
【００１７】
離型層１３の形成は、該樹脂を溶媒へ分散又は溶解して、ロールコート、グラビアコートなどの公知のコーティング方法で、塗布し乾燥して、温度１５０℃〜２００℃程度で焼き付ける。離型層１３の厚さとしては、通常は０．０１μｍ〜５．０μｍ程度、好ましくは０．５μｍ〜３．０μｍ程度である。
【００１８】
（剥離層）剥離層１４としては、弗素系樹脂、シリコーン、各種のワックスなどの離型剤を添加または共重合させたアクリル系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル樹脂、繊維素系樹脂、ワックス、メラミン系樹脂等が例示でき、離型層１３及び剥離層１４の両方を設ける場合には、適宜組み合わせて用いればよく、この場合には、剥離層１４は転写後に保護層としての機能を合わせ持つ。
【００１９】
（ホログラム層）ホログラム層１５としては、少なくとも電離放射線硬化性樹脂及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含ませる。
また、好ましくは、ホログラム層１５の材料としては、（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂（本明細書では「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」と呼称する）と及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含むようにする。さらに好ましくは、（メタ）アクリレートオリゴマーも含ませて硬化させる。該組成物を塗布し乾燥して、ホログラム機能を発現する微細な凹凸レリーフを賦型した後に、電離放射線で硬化させればよい。
【００２０】
（電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ）「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」としては、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂の硬化物、具体的には、特開２００１−３２９０３１号公報で開示されている光硬化性樹脂などが例示でき、実施例でも述べる。
即ち、「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物である。
【００２１】
（（メタ）アクリレートオリゴマー）（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、耐熱性のあるオリゴマーであればよく、例えば、日本合成化学社の商品名；紫光６６３０Ｂ、７５１０Ｂ、７６３０Ｂなどが例示できる。
【００２２】
（ポリエチレンワックス）ポリエチレンワックスとしては、ポリエチレン系樹脂の粒子やビーズが挙げられるが、好ましくは球状ビーズである。但し、ポリエチレンワックスを添加すると、箔切れ性は低下するので、その添加量は、電離放射線硬化樹脂１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部程度、好ましくは０．１〜５質量部とする。
【００２３】
（反応性シリコーン）反応性シリコーンとしては、電離放射線で硬化時に樹脂と反応し結合して一体化するもので、アクリル変性、メタクリル変性、又はエポキシ変性などで変性した反応性シリコーンで、該反応性シリコーンを含有させる質量基準での割合としては「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」１００に対して、０．１〜１０部程度、好ましくは０．３〜５部である。この範囲未満ではレリーフの賦型時にプレススタンパとの剥離が不十分であり、プレススタンパの汚染を防止することが困難で賦型性が悪い。また、この範囲を超えてはホログラム層面への反射層の密着性が低く、ホログラム層と反射層との間で剥離し商品価値を失ってしまう。従来のシリコーンオイルの添加では、反射層との密着性が悪い。
【００２４】
このように、ホログラム層１５には、「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」、必要に応じて（メタ）アクリレートオリゴマー、及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含ませることで、レリーフの賦型性がよく光回折効果が高く、かつ、ハードコート機能を兼ねさせることができる。
【００２５】
（１）電離放射線硬化前の塗布状態のホログラム層１５の塗膜は指乾状態でべとつかず、ブロッキングせずに巻き取ることができるので、ロールツーロール加工ができる。
（２）ホログラム層１５へは反応性シリコーンを含ませることで、賦型性がよいので、レリーフ構造を容易に賦型でき、賦型後に電離放射線で硬化できる。
（３）ポリエチレンワックスを含ませることで、転写後にはホログラム層１５が最表面層となるが、極めて過酷な環境での使用、長期間にわたる使用、及び／又は多数回の繰り返し使用などでも、溶剤、機械的な摩擦、及び摩耗から支持体に設けられた画像を保護し、傷付きにくく耐久性に優れる。
（４）ホログラム層１５はメラミン系樹脂を用いた離型層１３と界面を接しているので、ホログラム層１５と離型層１３との間で剥離し、安定した剥離性を有するので、転写時には箔切れがよく、バリなどの発生も極めて少なくすることができる。
【００２６】
（ホログラム層の形成）ホログラム層１５は、上記の電離放射線硬化性樹脂、必要に応じて（メタ）アクリレートオリゴマー、反応性シリコーン、及びポリエチレンワックスを含ませ、さらに必要に応じて光重合開始剤、可塑剤、安定剤、界面活性剤等を加え、溶媒へ分散または溶解して、ロールコート、グラビアコート、コンマコート、ダイコートなどの公知のコーティング方法で塗布し乾燥して塗膜を形成したりすれば良い。ホログラム層１５の厚さとしては、通常は０．５μｍ〜２０μｍ程度、好ましくは１μｍ〜１０ｍ程度であり、複数回の塗布でもよい。
【００２７】
（ホログラム）次に、ホログラム層１５の表面には、ホログラムなどの光回折効果の発現する所定のレリーフ構造を賦型し、硬化させる。ホログラムは物体光と参照光との光の干渉による干渉縞を凹凸のレリーフ形状で記録されたもので、例えば、フレネルホログラム等のレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラム（ＣＧＨ）、ホログラフィック回折格子などがある。レリーフ形状は凹凸形状であり、特に限定されるものではなく、微細な凹凸形状を有する光拡散、光散乱、光反射、光回折などの機能を発現するものでもよく、例えば、フーリエ変換やレンチキュラーレンズ、光回折パターン、モスアイ、が形成されたものである。また、光回折機能はないが、特異な光輝性を発現するヘアライン柄、マット柄、万線柄、干渉パターンなどでもよい。
【００２８】
これらのレリーフ形状の作製方法としてはホログラム撮影記録手段を利用して作製されたホログラムや回折格子の他に、干渉や回折という光学計算に基づいて電子線描画装置等を用いて作製されたホログラムや回折格子をあげることもできる。また、ヘアライン柄や万線柄のような比較的大きなパターンなどは機械切削法でもよい。これらのホログラム及び／又は回折格子の単一若しくは多重に記録しても、組み合わせて記録しても良い。これらの原版は公知の材料、方法で作成することができ、通常、感光性材料を塗布したガラス板を用いたレーザ光干渉法、電子線レジスト材料を塗布したガラス板に電子線描画装置を用いてパターン作製する電子線描画法をなどが適用できる。
【００２９】
（レリーフの賦型）ホログラム層１５面へ、上記のレリーフ形状を賦形（複製ともいう）する。ホログラムの賦型は、公知の方法によって形成でき、例えば、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレリーフとして記録する場合には、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版をプレス型（スタンパという）として用い、上記樹脂層上に前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製することができる。
【００３０】
（レリーフの硬化）ホログラム層１５は、スタンパでエンボス中、又はエンボス後に、電離放射線を照射して、電離放射線硬化性樹脂を硬化させる。上記の電離放射線硬化性樹脂は、レリーフを形成後に、電離放射線を照射して硬化（反応）させると電離放射線硬化樹脂（ホログラム層１５）となる。電離放射線としては、電磁波が有する量子エネルギーで区分する場合もあるが、本明細書では、すべての紫外線（ＵＶ‐Ａ、ＵＶ‐Ｂ、ＵＶ‐Ｃ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線を包含するものと定義する。従って、電離放射線としては、紫外線（ＵＶ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、または電子線などが適用できるが、紫外線（ＵＶ）が好適である。電離放射線で硬化する電離放射線硬化性樹脂は、紫外線硬化の場合は光重合開始剤、及び／又は光重合促進剤を添加し、エネルギーの高い電子線硬化の場合は添加しないで良く、また、適正な触媒が存在すれば、熱エネルギーでも硬化できる。
【００３１】
（レリーフの絵柄）ホログラム層１５の絵柄は、特に限定されないが、擬似連続絵柄とすることが好ましい。擬似連続絵柄はプレス型（スタンパという）を作成する際に、小さなレリーフ版の複数を、精度よく突合せてつなぎ目を目立たなくしたり、つなぎ目を樹脂で埋めたりすればよい。このように、擬似連続絵柄とすることで、できるだけ大きな面積、又は好ましくは全面とすることもできる。
【００３２】
（反射層）反射層１７は、所定のレリーフ構造を設けたホログラム層１５面のレリーフ面へ、反射層１７へ設けることにより、レリーフの反射及び／又は回折効果を高めるので、ホログラム層１５の反射率のより高れば、特に限定されなず、例えば金属薄膜が適用できる。該反射層１７としては、通常、金属層や透明層が適用できるが、ＩＤカードなどのように、支持体１０１に画像１０５を有する場合には、画像１０５を観察できる透明層が好ましい。支持体１０１に画像１０５を有しない場合や、支持体１０１の１部分へ転写する場合には、不透明な金属層でもよい。
【００３３】
該反射層１７に用いる金属としては、金属光沢を有し光を反射する金属元素の薄膜で、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ等の金属、及びその酸化物、硫化物、窒化物等の薄膜を単独又は複数を組み合わせてもよい。上記の光反射性の金属薄膜の形成は、いずれも１０〜２０００ｎｍ程度、好ましくは２０〜１０００ｎｍの厚さになるよう、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの真空薄膜法で得られるが、その他、メッキなどによっても形成できる。反射層１７の厚さがこの範囲未満では、光がある程度透過して効果が減じ、また、それ以上では、反射効果は変わらないので、コスト的に無駄である。
【００３４】
また、反射層１７として、ほぼ無色透明な色相で、その光学的な屈折率がホログラム層のそれとは異なることにより、金属光沢が無いにもかかわらず、ホログラムなどの光輝性を視認できるから、透明なホログラムを作製することができる。例えば、ホログラム層１５よりも光屈折率の高い薄膜、および光屈折率の低い薄膜とがあり、前者の例としては、ＺｎＳ、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｓ3、ＳｉＯ、ＳｎＯ2、ＩＴＯ等があり、後者の例としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ2、ＡｌＦ3がある。好ましくは、金属酸化物又は窒化物であり、具体的には、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｇａ、Ｒｂ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ａｕ等の酸化物又は窒化物他はそれらを２種以上を混合したもの等が挙げられる。またアルミニウム等の一般的な光反射性の金属薄膜も、厚みが２００Å以下になると、透明性が出て使用できる。
【００３５】
透明金属化合物の形成は、金属の薄膜と同様、ホログラム層１５のレリーフ面に、１０〜２０００ｎｍ程度、好ましくは２０〜１０００ｎｍの厚さになるよう、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、ＣＶＤなどの真空薄膜法などにより設ければよい。さらには、ホログラム層１５と光の屈折率の異なる透明な合成樹脂を使用してもよく、接着層１９材料とホログラム層１５材料の屈折率が十分に異なる場合には、接着層１９が反射層１９を兼ねることもできる。
【００３６】
（接着層）接着層１９としては、公知の加熱されると溶融または軟化して接着効果を発揮する感熱接着剤が適用でき、具体的には、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂などが挙げられる。該接着層１９には、マイクロシリカなどのフィラーを含むことが、箔切れ性の点で好ましい。また、接着層１９の樹脂としては、９５℃程度の低温で溶融接着し、６０℃程度になると固化して接着する融点が６０〜９５℃ものが好ましい。融点が上記範囲未満であると、支持体との接着性が不十分であり、形成された画像を使用する温度が制限される。また、融点が上記範囲を越えるとサーマルヘッドによる加熱では転写性が不十分となり、又、ハードコート層の箔切れ性が低下し、解像性の良い転写が困難となる。
該材料樹脂を溶剤に溶解または分散させて、適宜顔料などの添加剤を添加して、公知のロールコーティング、グラビアコーティング、コンマコーティングなどの方法で塗布し乾燥させて、厚さ１〜３０μｍの層を得る。
【００３７】
（転写）このようにして得られた本発明のホログラム転写箔１０を用いて、図２のように、ホログラム層１５、及び接着層１９を、支持体１０１に形成された画像１０５の表面へ転写する。なお、転写時には離型層１３とホログラム層１５との間で剥離するが、若干離型層１３の１部がホログラム層１５へ移行する場合もあるが、本発明の範囲内である。
【００３８】
（転写法）支持体１０１への形成方法としては、公知の転写法でよく、例えば、熱刻印によるホットスタンプ（箔押）、熱ロールによる全面又はストライプ転写、サーマルヘッド（感熱印画ヘッド）によるサーマルプリンタ（熱転写プリンタともいう）などの公知の方法が適用できる。スポット状、文字、数字、イラストなどの任意の形状を転写してもよい。異なる任意の形状である顔写真などの可変情報を連続操作できたり、オンデマンドで印画できるサーマルプリンタが好ましい。
【００３９】
また、背景技術で説明したように、極めて過酷な環境での使用、長期にわたる使用期限、及び／又は多数回の繰り返し使用などでは、未だ充分な耐久性が得られていなかったので、保護層（ハードコート層、本発明のホログラム層が兼ねている）を厚くすればよいが、厚くすると箔切れが著しく悪くなるので、別途、保護層を重ねて２回転写していた。本発明のホログラム転写箔１０によれば、画像の保護性が高く、セキュリティー性もあるホログラム層１５を、剥離性及び箔切れ性がよく、１回のみでで転写することができる。
該ホログラム層１５が最表面に位置するようになり、溶剤、機械的な摩擦、及び摩耗から支持体に設けられた画像を保護し、傷付きにくく耐久性が高まる。
このように、機械的化学的な損傷から長期間にわたって保護できるので、極めて過酷な環境で使用されるガソリンスタンドカードや工事現場カード、及び、使用期限がなかったり、長期にわたる入退室カードやポイントカード、金融機関などの多数のセキュリティ管理された部屋への入退室を繰り返す入退室カードなどにも好適に使用することができる。
【００４０】
（支持体）支持体１０１としては、特に限定されず、例えば天燃繊維紙、コート紙、トレーシングペーパー、転写時の熱で変形しないプラスチックフイルム、ガラス、金属、セラミックス、木材、布あるいは染料受容性のある媒体等いずれのものでもよく、用途によって、適宜選択すればよい。また、支持体１０１の媒体はその少なくとも１部が、画像、着色、印刷、その他の加飾が施されていてもよい。なお、図２では昇華転写タイプの熱転写方法による画像で、受像層１０３へ形成した画像を例示しているが、受像層１０３の有無には限定されない。
【００４１】
（画像）特に好ましい画像１０５としては、耐久性に劣る画像で、例えば、イエロー、マゼンダ及びシアン（更に必要に応じてブラック）の着色熱転写層を面順次に繰返し多数設けた長尺熱転写フイルムを用いる、溶融転写タイプ、昇華転写タイプの熱転写方法による画像である。該画像は、身分証明書等のＩＤカードを作成する場合、溶融転写タイプの場合は、文字や数字等の如き画像の形成は容易であるが、これらの画像は耐久性、特に耐摩擦性が劣るという欠点がある。一方、昇華転写タイプの場合には、顔写真等の階調性画像を形成することが出来るが、形成された画像は通常の印刷インキとは異なり、ビヒクルが無い為、耐光性、耐候性、耐摩擦性等の耐久性に劣るという問題がある。
該画像は、本発明のホログラム転写箔１０を用いて表面へ転写することで、ハードコート層を兼ねるホログラム層１５が最表面に位置し、画像を保護し、耐久性を高め、かつ、ホログラムの持つ高意匠性とセキュリティ性をも兼ねることとなる。
【００４２】
（耐久性）ホログラム層１５の鉛筆硬度試験は、ＪＩＳ−Ｋ５４００に準拠して測定し、Ｈ以上の硬度を有していた。
また、ホログラム層１５のスクラッチ強度は、表面の充分な耐摩擦性の点から、サファイア１５０ｇ以上、好ましくは２００ｇ以上である。
なお、スクラッチ強度の測定方法は、２３℃、５５％ＲＨの条件下で２４時間調湿した試料に対して、耐摩耗性試験機（ＨＥＩＤＯＮ−１８）を用い、０．８ｍｍφサファイア針を直角にあてがい、サファイア針に掛かる荷重を０ｇから２００ｇまで徐々に増加させ、６０ｃｍ／ｍｉｎで試料表面を摺動して移動させながら、表面に傷が付き始める時の荷重の測定を行った。荷重が大きいほど良好であることを表す。
【実施例】
【００４３】
以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。
【００４４】
（実施例１）基材１１として厚さ２５μｍのＰＥＴフィルムを用い、該基材１１の一方の面へ、グラビアコート法で、ＴＣＭ０１メジューム（大日本インキ社製、メラミン樹脂商品名）塗工液を乾燥後２μｍになるように塗布し乾燥して、０８０℃２０秒間焼き付けて、離型層１３を形成した。
該離型層１３面へ、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物をグラビアリバースコーターで乾燥後の厚さが２μｍになるように、塗工し１００℃で乾燥させた。
・＜電離放射線硬化性樹脂組成物の作製手順＞
まず、「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」は以下の手順で、生成した。撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を取り付けた反応器に、酢酸エチル２０６．１ｇ及びイソホロンジイソシアネートの三量体（ＨＵＬＳ社製品、ＶＥＳＴＡＮＡＴ Ｔ１８９０、融点１１０℃）１３３．５ｇを仕込み、８０℃に昇温して溶解させた。溶液中に空気を吹き込んだのち、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．３８ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業社製品、ビスコート３００）２４９．３ｇ及びジブチル錫ジラウレート０．３８ｇを仕込んだ。８０℃で５時間反応させたのち酢酸エチル６８８．９ｇを添加して冷却した。
該「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」と、造膜性樹脂（アクリル系オリゴマー）、反応性シリコーン、ポリエチレンワックス、光重合開始剤、及び溶媒を下記の組成で配合して電離放射線硬化性樹脂組成物を調製した。
・＜ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物＞
「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」 ２５質量部
メタアクリレートオリゴマー（日本合成化学社製、商品名紫光６６３０Ｂ）５質量部
反応性シリコーン（信越化学社製、商品名Ｘ−２２−２４４５） ０．２質量部
ポリエチレンワックス（平均粒径２．０μｍ） ０．３質量部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア９０７） ０．９質量部
酢酸エチル ７０質量部
次に、該層面へ、２光束干渉法による回折格子から２Ｐ法で複製した擬似連続絵柄としたスタンパを複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス（エンボス）して、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させた。
該ホログラム層１５のレリーフ面へ真空蒸着法で厚さが５０ｎｍの酸化チタン薄膜を形成して反射層１７を形成した。
該反射層１７面へ、下記の接着層組成物をグラビアコーターで乾燥後の塗布量が１μｍになるように、塗工し１００℃で乾燥させて、接着層１９を形成して、実施例１のホログラム転写箔１０を得た。
・＜接着層組成物＞
ポリエステル樹脂Ｐ−１７０（日本合成化学社製、商品名） ２０質量部
マイクロシリカ（平均粒子径０．５μ） １０質量部
溶媒（ＭＥＫ：トルエン＝１：１） ７０質量部
【００４５】
（実施例２）ホログラム層１５の電離放射線硬化性樹脂組成物として、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物を用いる以外は、実施例１と同様にして、実施例２のホログラム転写箔１０を得た。
・＜ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物＞
「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」 ２５質量部
メタアクリレートオリゴマー（日本合成化学社製、商品名紫光７５１０Ｂ）５質量部
反応性シリコーン（信越化学社製、商品名Ｘ−２２−１６０２） ０．２質量部
ポリエチレンワックス（平均粒径２．０μｍ） ２質量部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア９０７） ０．９質量部
酢酸エチル ７０質量部
【００４６】
（比較例１）ホログラム層１５の電離放射線硬化性樹脂組成物として、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物を用いる以外は、実施例１と同様にして、比較例１のホログラム転写箔を得た。
・＜ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物＞
「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」 ２５質量部
メタアクリレートオリゴマー（日本合成化学社製、商品名紫光６６３０Ｂ）５質量部
反応性シリコーン（信越化学社製、商品名Ｘ−２２−２４４５） ０．２質量部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア９０７） ０．９質量部
酢酸エチル ７０質量部
【００４７】
（比較例２）ホログラム層１５の電離放射線硬化性樹脂組成物として、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物を用いる以外は、実施例１と同様にして、比較例２のホログラム転写箔を得た。
・＜ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物＞
「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」 ２５質量部
メタアクリレートオリゴマー（日本合成化学社製、商品名紫光６６３０Ｂ）５質量部
反応性シリコーン（信越化学社製、商品名Ｘ−２２−２４４５） ０．２質量部
ポリエチレンワックス（平均粒径２．０μｍ） ５質量部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア９０７） ０．９質量部
酢酸エチル ７０質量部
【００４８】
（評価）評価は支持体への転写試験で行った。転写試験は、支持体１０１としてポリ塩化ビニール製のクレジットカード仕様のカードを用い、該支持体１０１の表面へ、ＦＡＲＧＯ製のカード用プリンタＨＤＰ８２０で、カラー昇華性インクリボンを用いて顔写真を印画した後に、同じくＦＡＲＧＯ製のカード用プリンタＨＤＰ８２０で、実施例及び比較例のハードコート層転写箔１０の接着層１９面を重ねて熱転写し、カードへの転写状況を観察した。
【００４９】
（評価結果）実施例１〜３では、転写時の剥離性もよく、箔切れ性もよく、正常に転写できた。しかしながら、比較例１では剥離性が悪く剥離しにくく、転写時にバリが発生して正常に転写できなかった。比較例２ではホログラムの賦型性が悪く、光回折効果が得られなかった。なお、実施例１〜３及び比較例１のホログラム層に賦型された回折格子模様は充分な光回折効果が発現されており、意匠性とセキュリティ性に優れていた。
また、実施例１〜３の第１ハードコート層１５面の鉛筆硬度試験を、ＪＩＳ−Ｋ−５４００に準拠して測定したところ、２Ｈ以上の硬度を有し、さらに、実施例１〜３の第１ハードコート層１５面のスクラッチ強度はサファイア２００ｇ以上であり、充分な耐久性を有していた。しかしながら、比較例１ではスクラッチ強度が悪く、充分な耐久性を有していなかった。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明の１実施例を示すホログラム転写箔の断面図である。
【図２】本発明のホログラム転写箔を用いて転写した被転写物である。
【符号の説明】
【００５１】
１０：ハードコート層転写箔
１１：基材
１３：離型層
１５：ホログラム層
１７：反射層
１９：接着層
２１：紫外線吸収層
１００：媒体
１０１：支持体
１０３：受像層
１０５：画像
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、該基材の一方の面へ少なくとも離型層、ホログラム層、反射層及び接着層を設けてなるホログラム転写箔において、前記離型層がメラミン系樹脂であり、前記ホログラム層が電離放射線硬化性樹脂及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含み、ハードコート機能を兼ねていることを特徴とするホログラム転写箔。
【請求項２】
上記電離放射線硬化性樹脂が（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有することを特徴とする請求項１に記載のホログラム転写箔。
【請求項３】
上記ホログラム層のポリエチレンワックスの含有が質量基準で、電離放射線硬化樹脂：ポリエチレンワックス＝１００：０．０１〜１０であることを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載のホログラム転写箔。
【請求項１】
基材と、該基材の一方の面へ少なくとも離型層、ホログラム層、反射層及び接着層を設けてなるホログラム転写箔において、前記離型層がメラミン系樹脂であり、前記ホログラム層が電離放射線硬化性樹脂及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含み、ハードコート機能を兼ねていることを特徴とするホログラム転写箔。
【請求項２】
上記電離放射線硬化性樹脂が（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有することを特徴とする請求項１に記載のホログラム転写箔。
【請求項３】
上記ホログラム層のポリエチレンワックスの含有が質量基準で、電離放射線硬化樹脂：ポリエチレンワックス＝１００：０．０１〜１０であることを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載のホログラム転写箔。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２００８−９１３４（Ｐ２００８−９１３４Ａ）
【公開日】平成２０年１月１７日（２００８．１．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−１７９５７０（Ｐ２００６−１７９５７０）
【出願日】平成１８年６月２９日（２００６．６．２９）
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１月１７日（２００８．１．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年６月２９日（２００６．６．２９）
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【Ｆターム（参考）】
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