【課題】レジストパターンの寸法変化を抑制することができるパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】Ｄｅｎｓｅ部及びＦｌａｔ部を有するギャップが存在する被加工基板上に、平坦化膜形成用組成物を塗布して平坦化膜を形成する工程（１）と、平坦化膜上にレジスト組成物を塗布してレジスト膜を形成する工程（２）と、レジスト膜に放射線を照射して、レジスト膜を選択的に露光する工程（３）と、露光したレジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程（４）と、レジストパターンをマスクとして用いて、平坦化膜及び被加工基板に所定のパターンを形成する工程（５）と、を含み、平坦化膜形成用組成物が、所定の重合体（Ａ）と、架橋剤（Ｂ）と、有機溶媒（Ｃ）と、を含有するものであるパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】基板の凸凹を気泡なくラミネートさせ、感度向上効果を有する感光性樹脂積層体、該感光性樹脂積層体を用いて基板上にレジストパターンを形成する方法、及び該レジストパターンの用途を提供すること。
【解決手段】支持体上に、感光性樹脂層、保護層を順次積層してなる感光性樹脂積層体であって、該保護層は、感光性樹脂層と接する面の平均粗さ（Ｒａ）が０．５μｍ以上であり、該感光性樹脂層は、（ａ）カルボキシル基含有の熱可塑性共重合体２０〜９０質量％、（ｂ）分子内に少なくとも一つの重合可能な末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー５〜７５質量％、及び（ｃ）光重合開始剤０．０１〜３０質量％を含むドライフィルムレジストであり、そして該（ｃ）光重合開始剤としてヘキサアリールビスイミダゾール誘導体を含むことを特徴とする感光性樹脂積層体。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れており、Ｓｉ含有量が多く且つレジスト材料の染み込み量が少ないシリコン含有膜を形成することができると共に、裾引き等のないボトム形状に優れるレジストパターンを安定して形成することができる多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本シリコン含有膜形成用組成物は、（Ａ）シラノール基を有するポリシロキサンと、（Ｂ）２つ以上のオキセタニル基を有するオキセタニル基含有化合物と、（Ｃ）有機溶媒と、を含有する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィーで用いられる少なくとも３層を有する多層レジスト膜のレジスト下層膜の形成方法であって、反射率を低減でき、エッチング耐性が高く、高い耐熱性、耐溶媒性を有し、特に基板のエッチング中によれの発生がないレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成方法及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる少なくとも３層を有する多層レジスト膜のレジスト下層膜の形成方法であって、ビスナフトール基を有する化合物を含有するレジスト下層膜材料を基板上にコーティングし、該コーティングしたレジスト下層膜材料を３００℃を超え、６００℃以下の温度で、１０秒〜６００秒間の範囲で熱処理して硬化させることを特徴とするレジスト下層膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れており、Ｓｉ含有量が多く且つレジスト材料の染み込み量が少ないシリコン含有膜を形成することができると共に、裾引き等のないレジストパターンを安定して形成することができる多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本シリコン含有膜形成用組成物は、（Ａ）テトラアルコキシシラン由来の構造単位（ａ１）、及びヘキサアルコキシジシラン由来の構造単位（ａ２）を含有しており、前記構造単位（ａ１）の含有割合を１００モル％とした場合に、前記構造単位（ａ２）の含有割合が１０〜３０モル％であるポリシロキサンと、（Ｂ）有機溶媒と、を含有するものである。 （もっと読む）

【課題】エッチング耐性に優れ、ドライエッチングプロセスにおいて折れ曲がり難く、レジストパターンを忠実に再現性よく被加工基板に転写することが可能な下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】アルデヒド基及び水酸基の少なくともいずれかを有するピレン骨格を含むノボラック樹脂と有機溶媒とを含有するレジスト下層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れており、且つ、レジスト膜との密着性及びレジストパターンの再現性に優れると共に、現像等に用いられる現像液に対して十分な耐性を有し、レジスト除去時の酸素アッシングに対して十分なマスク性（エッチング耐性）を有するシリコン含有膜を形成できる多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物等を提供する。
【解決手段】本組成物は、式（１）の化合物（ａ１）３０〜８０質量部、式（２）の化合物（ａ２）５〜６０質量部、並びに、式（３）の化合物（ａ３）及び式（４）の化合物（ａ４）のうちの少なくとも一方５〜５０質量部〔但し、化合物（ａ１）〜（ａ４）の合計を１００質量部とする。〕に由来するポリシロキサンと、溶媒と、を含有する。
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【課題】パターン転写性（特に、ＲＩＥでのレジスト曲がり耐性）に優れた下層膜を形成する可能なレジスト下層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】２つ以上のフェノール性水酸基、及び、アルキルチエニル基を有する芳香族環を繰り返し構造単位として含むノボラック樹脂（Ａ）と、有機溶剤（Ｂ）と、を含有するレジスト下層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト法において、フォトレジスト膜の良好なパターン形成が可能であり、良好なドライエッチング耐性を有するエッチングマスク用ケイ素含有膜を形成でき、保存安定性が良好であり、剥離プロセスで使用される溶液で剥離が可能なケイ素含有膜形成用組成物、ケイ素含有膜形成基板、更にパターン形成方法を提供する
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト法において成膜されるケイ素含有膜を形成するための熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物であって、少なくとも、（Ａ）酸を触媒として用いて加水分解性ケイ素化合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、（Ｂ）熱架橋促進剤、（Ｃ）炭素数が１〜３０の１価又は２価以上の有機酸、（Ｄ）３価以上のアルコール、（Ｅ）有機溶剤、を含むことを特徴とする熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト法において、フォトレジスト膜の良好なパターン形成が可能であり、良好なドライエッチング耐性を有するエッチングマスク用金属酸化物含有膜を形成でき、保存安定性が良好であり、剥離プロセスで使用される溶液で剥離が可能な金属酸化物含有膜形成用組成物、金属酸化物含有膜形成基板、更にパターン形成方法を提供する
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト法において成膜される金属酸化物含有膜を形成するための熱硬化性金属酸化物含有膜形成用組成物であって、少なくとも、（Ａ）加水分解性ケイ素化合物と、加水分解性金属化合物とを加水分解縮合することにより得られる金属酸化物含有化合物、（Ｂ）熱架橋促進剤、（Ｃ）炭素数が１〜３０の１価又は２価以上の有機酸、（Ｄ）３価以上のアルコール、（Ｅ）有機溶剤とを含むことを特徴とする熱硬化性金属酸化物含有膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー光等に対して高感度で、発生する酸（光発生酸）の酸性度が十分高く、かつ、レジスト溶剤に対する高い溶解性及び樹脂に対する優れた相溶性を有する光酸発生剤及び、そのような光酸発生剤を含有するレジスト材料を提供する。
【解決手段】下記一般式（４）で示される含フッ素カルバニオン構造を有する酸を発生することを特徴とする化学増幅レジスト材料用の光酸発生剤を使用することによって、前記課題は解決する。


前記一般式（４）において、ｎは１〜３の整数を表す。Ｒ’は水素原子もしくは炭素数１〜３の置換もしくは無置換のアルキル基を表す。Ｒとしてはアダマンチル基等が挙げられ、Ａは、カルボニル基等の２価官能基であり、Ｒ_ＦおよびＲ_Ｆ’はそれぞれ独立に炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有し、レジスト材料の染み込み量が少ないレジスト下層膜を形成することができ、且つ保存安定性に優れるレジスト下層膜用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜用組成物は、側鎖にアルキルスルホンアミド基を含有する構成単位、およびそれぞれ他の特定構造を有する２種類の構成単位を含有するポリシロキサンと、溶剤と、を含む。 （もっと読む）

【課題】汚れ付着によるロール劣化が軽減され、従来以上の長期にわたって搬送、転写を安定的に行なえる搬送装置及び積層体の製造装置を提供する。
【解決手段】ゴム層６５ａを有する圧着ローラ６４ａ及びゴム層６５ｂを有する圧着ローラ６４ｂとゴム層６５ａにＵＶ−Ｂ光を照射するＵＶ−Ｂランプ８１とを備えており、ゴム層６５ａの表面に汚れが生じていると判定されたときに、ゴム層６５ａに積算照度が所定値に達するまでインラインでＵＶ−Ｂ光を照射して洗浄できるようになっている。 （もっと読む）

【課題】２４℃で２週間放置してもエッジフュージョンが発生せず、輸送時の移動や３０ｃｍの高さからの落下においても巻きズレが生じることなく、６０〜９０℃において気泡が入ることなく１μｍ〜４０μｍの段差の埋め込みができる感光性フィルム等の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に感光層を少なくとも有し、感光層が、架橋性基を有するバインダーを少なくとも含有する感光性組成物からなり、バインダーに架橋性基を導入するための触媒の残存量が２００ｐｐｍ以下であり、２４℃における溶融粘度が１．０×１０^５Ｐａ・ｓ〜１．０×１０^７Ｐａ・ｓであり、かつ６０〜９０℃における溶融粘度が１．０×１０^２Ｐａ・ｓ〜５．０×１０^４Ｐａ・ｓであり、感光性フィルムをロール状に巻回してロール体とする際の巻き取りテンションが１．６ｋｇ／１０ｃｍ以上であり、前記ロール体の両端面に端面押さえを有する感光性フィルムである。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜としての機能を有するとともに、パターン転写性能、エッチング選択性、及びインターミキシング防止効果が良好なレジスト下層膜を形成可能な下層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位（Ｒ^１は水酸基等、ｎは０〜６の整数、Ｘは炭素数１〜２０の置換可能なアルキレン基等、ｍは１〜８の整数をそれぞれ示す）を必須の構成単位として有し、その他の特定の繰り返し単位を更に有する重合体（Ａ）を含有する下層膜形成用組成物である。
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【課題】レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有し、レジスト材料の染み込み量が少ないレジスト下層膜を形成することができ、且つ保存安定性に優れるレジスト下層膜用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜用組成物は、下記一般式（１）で表される構成単位を含有するポリシロキサンと、溶剤と、を含む。


（Ｘは、置換されていてもよいメチレン基、又は置換されていてもよい炭素数２〜５の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を表す。） （もっと読む）

【課題】露光・現像性能と乾燥後或いは焼成後の導体層の密度とが共に得られる転写用感光性導体ペーストを提供する。
【解決手段】 感光性導体ペースト１２において、アクリル樹脂、ロジン系樹脂、またはフッソ系分散剤を含むことから、感光性樹脂の含有量を減少させても露光・現像性能が確保されるとともに、乾燥後或いは焼成後の導体層の密度が高くなるので、露光・現像性能と乾燥後或いは焼成後の導体層の密度とが両立した転写用感光性導体ペースト１２が得られる。 （もっと読む）

【課題】 光ナノインプリントに用いられる微細な凹凸を有する基材にエアーボイドの発生のない感光性樹脂層を積層することができる感光性エレメント及び光ナノインプリントに用いられる微細な凹凸を有する基材にエアーボイドの発生がなく、なおかつ安価な常圧下で加熱加圧するラミネータで感光性樹脂層を積層することができる、感光性エレメントの製造方法を提供する。
【解決手段】 表面粗さが０．０１〜２μｍの微細な凹凸を転写する感光性エレメントであり、その構成が支持フィルム（Ａ）、感光性樹脂組成物層（Ｂ）及び保護フィルム（Ｃ）を含み、かつ前記保護フィルム（Ｃ）の感光性樹脂組成物層と接触する面のＲａが０．０５〜０．５μｍである感光性エレメント及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】高速で転写を行っても転写不良が起こりにくく、高湿雰囲気下で保存してもレチキュレーション、熱可塑性樹脂層の染み出しが発生しにくい感光性転写材料を提供する。
【解決手段】仮支持体上に、該仮支持体側から順に、平均粒径３〜１０００ｎｍの微粒子を、下記式（１）を満たす範囲で含有するアルカリ可溶な熱可塑性樹脂層と、感光性樹脂層と、を有する感光性転写材料である。
ｙ≦０．６２５ｘ 式（１）
〔式（１）中、ｙは、熱可塑性樹脂層の乾燥質量１００部に対する微粒子の含有量（質量部）、ｘは、微粒子の平均粒径（ｎｍ）を表す。〕 （もっと読む）

【課題】支持層から基材への転写性に優れ、適切な現像時間を有し、感度、遮光性、細線形成性に優れる感光性樹脂積層体を提供する。さらに、遮光性が十分であり、且つ膜厚が薄く微細な、ブラックマトリックス付き基板の製造方法を提供する。さらに、該ブラックマトリックス付き基板を用いたカラーフィルタを提供する
【解決手段】少なくとも支持層と、酸素遮断層と、感光性樹脂層とを順に積層してなる感光性樹脂積層体であって、該支持層は、その積層しない面とは反対側の面の剥離力が１００〜４０００ｍＮ／２５ｍｍであって、該酸素遮断層は水溶性樹脂組成物を含み、該感光性樹脂層は感光性樹脂組成物を含み、該感光性樹脂組成物は、該感光性樹脂組成物１００質量％に対して、特定のアルカリ可溶性高分子３〜４０質量％、エチレン性不飽和二重結合を有する光重合性化合物３〜５０質量％、光重合開始剤０．１〜２０質量％を含むことを特徴とする感光性樹脂積層体。 （もっと読む）