【課題】感光性樹脂組成物層を形成し、該感光性樹脂組成物層を部分的に露光した後に、現像を行うことなく、表面に凹凸パターンが形成されたパターン膜を得ることを可能とするパターン膜の製造方法を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物からなる所定の厚みの感光性樹脂組成物層１を形成する工程と、感光性樹脂組成物層１が光の照射された露光部１ａと、光の照射されていない未露光部１ｂとを有するように、かつ露光部１ａの厚みが未露光部１ｂの厚みよりも相対的に薄くなるように、感光性樹脂組成物層１を部分的に露光する工程と、露光後、現像を行わずに、露光部１ａ及び未露光部１ｂの感光性樹脂組成物層１を焼成する工程とを備えるパターン膜１Ａの製造方法。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂組成物層を形成し、該感光性樹脂組成物層を部分的に露光した後に、現像を行うことなく、表面に凹凸パターンが形成されたパターン膜を得ることを可能とするパターン膜の製造方法を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物からなる所定の厚みの感光性樹脂組成物層１を形成する工程と、感光性樹脂組成物層１が光の照射された露光部１ａと、光の照射されていない未露光部１ｂとを有するように、感光性樹脂組成物層１を部分的に露光する工程と、露光後、現像を行わずに、未露光部１ｂの厚みが露光部１ａの厚みよりも相対的に薄くなるように、未露光部１ｂ及び露光部１ａの感光性樹脂組成物層１を焼成する工程とを備える、パターン膜１Ａの製造方法。 （もっと読む）

【課題】低露光量においても基板との密着性、耐溶剤性に優れ、且つ現像残渣の生じることのない画素およびブラックマトリックスを与える新規な着色層形成用感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、並びに（Ｄ）光重合開始剤、ならびに（Ｅ）オキシラニル基、オキセタニル基、エピスルフィド基、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、メルカプト基、イソシアネート基、アミノ基、ウレイド基およびスチリル基の群から選ばれる少なくとも１種の官能基を含有するシロキサンオリゴマーを含有することを特徴とする着色層形成用感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】残渣、パターン剥離のないパターンを容易に加工することが可能であり、さらに、該焼成によってクラックが発生しにくい隔壁を製造することができる感光性ペーストを提供する。
【解決手段】［１］（Ａ）無機粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）含エポキシ基ケイ素化合物、（Ｄ）酸発生剤、（Ｅ）有機溶媒、（Ｆ）下記式（１０）で表される化合物
を含有する感光性ペースト。


（式中、Ｚは、環員数３〜５の飽和複素環基を表し、Ｒは炭素数１〜２０のアルキレン基を表し、ｉは１〜６の整数を表す。）
［２］［１］の感光性ペーストを用いてなるプラズマディスプレイ用隔壁。
［３］［２］の隔壁を備えたプラズマディスプレイ用部材。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率変化、柔軟性、高感度、低散乱、耐環境性、耐久性、低寸法変化（低収縮性）、及び高多重度が達成されるホログラム記録材料及び記録媒体を提供する。
【解決手段】 金属酸化物マトリックスと光重合性化合物とを含むホログラム記録材料であって、金属酸化物マトリックスは、（Ｒ_E ）m Ｍ_I （ＯＲ₁₁）n （Ｒ_E は環状エーテル基含有有機基；Ｒ₁₁はアルキル基；Ｍ_I は金属）で表される環状エーテル基含有金属アルコキシド化合物（Ｉ）又はその多量体と、（Ｒ₂₂）j Ｍ_II（ＯＲ₂₁）k （Ｒ₂₂はアルキル基又はアリール基；Ｒ₂₁はアルキル基；Ｍ_IIは金属）で表される環状エーテル基を含有しない金属アルコキシド化合物（II）又はその多量体とを少なくとも含むマトリックス形成用材料から形成されたものである。ホログラム記録材料からなるホログラム記録層２１を有するホログラム記録媒体１１。 （もっと読む）

【課題】新規な電子線用ネガ型レジスト組成物および該電子線用ネガ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明は、一般式（Ｉ）［式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子または１価の有機基であり、Ｒ^２は１価の有機基である。ｎは１〜３の整数である。］で表されるアルコキシシラン化合物の加水分解物および／または縮合物（Ａ）と、非イオン性酸発生剤（Ｂ）とを含有することを特徴とする電子線用ネガ型レジスト組成物である。
［化１］
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【課題】焼成前後の寸法変動が小さく、アウトガス発生が著しく少ない隔壁を製造しうる感光性ペーストを提供する。
【解決手段】［１］（Ａ）無機粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）架橋剤、（Ｄ）酸発生剤および（Ｅ）有機溶媒を含有する感光性ペーストであって、（Ａ）がシリカ（Ａ−ａ）を必須成分として含み、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂が、５８０℃、０．５時間の焼成処理での熱質量減少率が９０重量％以上の有機樹脂であることを特徴とする感光性ペースト。
［２］［１］の感光性ペーストを用いてなるプラズマディスプレイ用隔壁。
［３］［２］の隔壁を備えたプラズマディスプレイ用部材。 （もっと読む）

【課題】パターン断面形状が台形形状となる隔壁を製造しうる感光性ペーストを提供する。
【解決手段】［１］（Ａ）無機粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）架橋剤、（Ｄ）酸発生剤、（Ｅ）有機溶媒および（Ｆ）下記式（Ｉ）で表される化合物を含有する感光性ペースト


（式中、Ｘ₁、Ｘ₂は少なくともどちらか一方がベンジリデン基と共役系となりうる多重結合を有する基である。）
［２］［１］の感光性ペーストを用いてなるプラズマディスプレイ用隔壁。
［３］［２］の隔壁を備えたプラズマディスプレイ用部材。 （もっと読む）

【課題】高機械強度が期待される、パターン断面形状が台形形状の隔壁を製造し得る感光性ペーストを提供する。
【解決手段】［１］（Ａ）無機粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）架橋剤、（Ｄ）酸発生剤および（Ｅ）有機溶媒を含み、且つ（Ｆ）水を感光性ペースト総量に対して０．０５〜５質量％の範囲で含有することを特徴とする感光性ペースト。
［２］［１］の感光性ペーストを用いてなるプラズマディスプレイ用隔壁。
［３］［２］の隔壁を備えたプラズマディスプレイ用部材。 （もっと読む）

【課題】厚膜でも一回の露光でパターン形成が可能であり、かつ、焼成前後での寸法変動が小さいことに加え、基板との密着性に著しく優れた、未露光部の残渣のない隔壁を製造し得る感光性ペーストを提供する。
【解決手段】［１］（Ａ）無機粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）架橋剤、（Ｄ）酸発生剤および（Ｅ）有機溶媒を含有する感光性ペーストであって、（Ｅ）が１気圧における沸点が１００℃以上１９５℃未満の有機溶媒（Ｅ−Ａ）を必須成分とすることを特徴とする感光性ペースト。
［２］前記（Ｅ）が、１気圧における沸点が１９５℃未満の有機溶媒（Ｅ−Ａ）と１気圧における沸点が１９５℃以上の有機溶媒（Ｅ−Ｂ）とを必須成分として含む［１］の感光性ペースト。
［３］上記いずれかの感光性ペーストを用いてなるプラズマディスプレイ用隔壁。
［４］［３］記載の隔壁を備えたプラズマディスプレイ用部材。 （もっと読む）

【課題】厚膜配線パターンを容易に加工することが可能であり、該配線パターンに気泡、形崩れ等のパターン欠陥が著しく低い、感放射線性樹脂組成物を提供する。また、本発明の組成物を用いてなる配線形成用材料を提供する。
【解決手段】［１］下記の（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含有し、且つ組成物全量中、１気圧における沸点が２５０℃以下の化合物を０.５質量％以下含有する感放射線性樹脂組成物。（Ａ）下記（ａ）で示されるアルカリ可溶性樹脂（ａ）フェノール化合物とアルデヒド化合物を縮合させたノボラック樹脂。（Ｂ）含エポキシ基ケイ素化合物。（Ｃ）放射線の照射により酸を発生する化合物。［２］上記感放射線性樹脂組成物からなる配線形成用材料。［３］上記配線形成用材料を用いて得られた金属配線パターンを有する半導体デバイス。 （もっと読む）

【課題】製造工程における樹脂パターンの膨潤や劣化などを抑制することができ、使用可能な樹脂の選択性の幅が広く、微細かつ高精細な樹脂パターンを低コストで簡便に効率よく形成可能な樹脂パターンの形成方法等の提供。
【解決手段】本発明の樹脂パターンの形成方法は、基体上に、光が照射されると前記樹脂と結合可能となる結合性基と、前記基体の表面と結合可能な官能基とを少なくとも有する樹脂固定用化合物を含む樹脂固定層を形成する樹脂固定層形成工程と、前記樹脂固定層上に、前記樹脂を含む樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、前記樹脂層に光を像様に照射することにより、該光を照射した領域の前記樹脂固定層と前記樹脂層とを結合させて潜像を形成する潜像形成工程と、前記光が照射されていない領域における樹脂層を、物理的刺激により剥離し除去することにより、樹脂パターンを現像する現像工程とを少なくとも含む。 （もっと読む）

【課題】コントラストの高い親水性領域と撥水性領域を表面に有する処理基材の提供。また、特別な装置や高エネルギー光、長時間の光の照射を必須とせず、低光量により短時間で処理基材を製造する方法の提供。
【解決手段】基材の表面に親水性領域と撥水性領域とを有する処理基材であって、撥水性領域はエポキシ基官能基の１個以上と撥水性部分を有する化合物（ａ）、および光カチオン重合開始剤を含む組成物（Ａ）を硬化させた膜厚が０．１〜１００ｎｍである撥水性の膜からなる処理基材。基材の表面を親水化処理して表面を親水性にし、該表面に組成物（Ａ）を含む膜を形成し、該膜の表面の一部に光を照射して組成物（Ａ）を硬化させて膜厚が０．１〜１００ｎｍである撥水性の膜を形成し、基材の表面に存在する未硬化の組成物（Ａ）を除去して親水性の表面を露出させることによって、処理基材を製造する方法。 （もっと読む）

【課題】極紫外線（ＥＵＶ）露光に適した新規なフォトレジスト。
【解決手段】半導体リソグラフィーにおけるフォトレジストとして使用のために設計された新規の構造を有する、いくつかの低分子分子性ガラスを使用する。該フォトレジストは、常温より有意に高いガラス転移温度並びに、結晶化しにくい傾向を示す、低分子量の有機材料である。該分子性ガラスのフォトレジストは、4つのフェニル基又は4つのビフェニル基を有する、四面体シラン分子核を有する。各フェニル基、又はビフェニル基の各外側のフェニル基は、3位又は4位に、メトキシ基又はヒドロキシ基を有する。該ビフェニルの実施態様に関して、該結合は、メタ-メタ、メタ-パラ、パラ-パラ、又はパラ-メタであり得る。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ現像性が良好であり、かつ、その硬化物が優れた柔軟性及び優れた弾性回復特性を有するフォトスペーサ用の感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 親水性ポリマー（Ａ）、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ｂ）、２個以上の加水分解性アルコキシ基を有するポリシロキサン（Ｃ）、光ラジカル重合開始剤（Ｄ）及び光酸発生剤（Ｅ）を含有するアルカリ現像可能なフォトスペーサ用感光性樹脂組成物（Ｑ）であり、２個以上の加水分解性アルコキシ基を有するポリシロキサン（Ｃ）が、一般式（１）で表される加水分解性アルコキシ基を有するシラン化合物（ｃ１）の１種以上の縮合物（Ｃ１）であることが好ましい。
Ｒ¹_mＳｉ（ＯＲ²）_4-m （１）
式中、Ｒ¹は炭素数１〜１２の脂肪族飽和炭化水素基または炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基であり、Ｒ²は炭素数１〜４のアルキル基であり、ｍは０〜２の整数である。 （もっと読む）

【課題】露光時の感度低下が小さくすることができ、かつ緻密なパターンを形成し得る感光性ペーストを提供する。
【解決手段】軟化温度が６００℃以上の無機粒子（Ａ）、アルカリ金属酸化物およびアルカリ土類金属酸化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する軟化温度が６００℃未満のガラス粒子（Ｂ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、電磁線の照射または加熱により酸を発生する化合物（Ｄ）および有機溶剤（Ｅ）を含有する感光性ペーストであって、アルカリ金属酸化物の含有量が、感光性ペーストに対して質量分率で２質量％以下であるか、または前記のガラス粒子（Ｂ）に対して質量分率で３質量％以下であることを特徴とする感光性ペースト。 （もっと読む）

【課題】 優れた光学的特性（例えば、高屈折率、高透明性（可視光線に対する透明性）など）を有し、かつ基板に対する高い密着性、ハードコート性、高耐熱性などの特性を有する硬化物を得るのに有用な重合性組成物を提供する。
【解決手段】 前記重合性組成物を、フルオレン骨格を有する特定の多官能性（メタ）アクリレート［９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシエトキシフェニル）フルオレンなど］、重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物（例えば、（メタ）アクリロイルオキシアルキルトリＣ_1-4アルコキシシラン）、および光酸発生剤で構成する。前記組成物は、光重合性を高めるため、さらに、光ラジカル開始剤を含んでいてもよい。 （もっと読む）

【課題】 接着力、耐熱性、絶縁性、平坦性、耐化学性などに優れて液晶表示素子の画像形成用材料に適し、特に液晶表示素子の有機絶縁膜形成時に誘電率、平坦性、感度、残膜率、ＵＶ透過率が優れているためゲート用有機絶縁膜としての使用に適し、同時にオーバーコート用レジスト樹脂、ブラックマトリックス用レジスト樹脂、コラムスペーサ用レジスト樹脂、またはカラーフィルター用レジスト樹脂として、感度および残膜率を向上させるのに適した有機無機複合感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 本発明による有機無機複合感光性樹脂組成物は、Ａ）周期律表内の第３、４、５、１３族金属酸化物からなる群または類似二元素金属酸化物からなる群より選択した金属酸化物；Ｂ）ａ）アクリル系共重合体；ｂ）光開始剤；ｃ）エチレン性不飽和結合を有する多官能性モノマー；ｄ）エポキシ基またはアミン基を含むシリコン系化合物；ｅ）溶媒を含む。 （もっと読む）

【課題】１ＧＨｚ以上のクロック周波数による電気信号の伝送を可能とする、選択的に微細な金属配線像を有するプリント配線基盤を簡便な手段で作成し、多層化を容易ともする。
【解決手段】式で表されるチオール反応性アルコキシシラン化合物の水溶液に樹脂基板平面又は立体面を浸漬して、多機能性分子レジストの単分子層を形成し、これを用いて導電性金属配線像が形成された新規プリント基盤と、樹脂基板を多層に張合わせた多層プリント基板を得る。


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【課題】高硬度でかつシリコーンの特性を有する硬化物を形成可能な光カチオン硬化性樹脂組成物並びに耐汚染性塗料、コーティング材料、樹脂改質剤、レジスト材料及び光造型剤を提供する。
【解決手段】光カチオン硬化性樹脂組成物は、下記式（Ｉ）に示す構造式（Ｒ^０は下記式（ＩＶ）に示す構造式で表される有機官能基であり、Ｘは加水分解性基。）で表される化合物と、一分子中に一つ以上のシロキサン結合生成基を有する反応性シリコーンと、の混合物を加水分解して得られる。


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