【課題】分子レジスト材料を用いたレジストパターンのパターン不良を防止できるようにする。
【解決手段】まず、基板の上に、酸不安定基を含まないアルカリ可溶性で且つ三量体以上の環状のオリゴマーと、酸不安定基を含む分子化合物と、光酸発生剤とを含み、且つポリマーを含まないレジスト材料からレジスト膜１０２を形成する。続いて、形成されたレジスト膜１０２に極紫外線よりなる露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う工程。続いて、パターン露光が行われたレジスト膜１０２を加熱し、その後、加熱されたレジスト膜１０２に対して現像を行って、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、低ｐＨの現像液での現像処理でも、感度、現像性（画像形成能力、現像開始時間）に優れた、従って、作業性、安全性、環境適性にも優れた、ポジ型平版印刷版材料およびポジ型平版印刷版の画像形成方法を提供することにある。
【解決手段】アルミニウム支持体上に、少なくとも（Ａ）重量平均分子量１０００以上のフェノール性水酸基を有する高分子結合材、（Ｂ）光熱変換材、及び（Ｃ）２５℃の純水に１質量％以上溶解する水溶性化合物を含有してなる感光層を設けてなるポジ型平版印刷版材料であって、全感光層組成分中に該（Ｃ）の水溶性化合物を２０質量％以上含有し、且つ（Ｃ）／（Ａ）≧１であることを特徴とするポジ型平版印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、大版での高生産性に対応した耐傷性を有し、ｐＨが低い又は疲労した活性の低い現像液に対しての感度、現像ラチテュードに優れ、保存安定性に優れた平版印刷版材料とそれに使用する印刷版材料用樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】下記一般式１で表される化合物を含有することを特徴とする印刷版材料用樹脂組成物。
【化１】
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【課題】平版印刷版材料を多数枚運搬するに際し、平版印刷版材料が運搬中に損傷を受けることなく運搬できる平版印刷版材料の積層体およびその梱包体を提供する。
【解決手段】アルミニウム支持体上に画像形成層を有する平版印刷版材料１を該画像形成層を同方向にして複数枚積層した積層体３の支持体側に第一保護部材４を、画像形成層側に第二保護部材５を有する平版印刷版材料積層体６であって、該第一保護部材４および該第二保護部材５が紙からなる保護部材であって、該第一保護部材４の紙密度をＤ１、該第二保護部材５の紙密度をＤ２としたとき、Ｄ２≦０．６（ｇ／ｃｍ^３）、Ｄ２／Ｄ１≦０．８５、である平版印刷版材料積層体。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネス、及びパターン倒れが改善されたポジ型感光性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）オオニシパラメータが５．０以下のラクトン構造を有する繰り返し単位と、酸の作用によりカルボン酸を生成する一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。（式中の符号は明細書に記載の意味を表す。）
【化１】
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【課題】良好な形状のレジストパターンを形成でき、優れたリソグラフィー特性を発揮するレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、かつ、酸発生剤成分（Ｂ）は、一般式（ｂ１）［式中、Ｑ^１は酸素原子を含む２価の連結基である。Ｙ^１は置換基を有していてもよい炭素数１〜４のフッ素化アルキレン基である。ただし、−ＳＯ_３⁻における硫黄原子に隣接する炭素原子にはフッ素原子が結合している。Ｘは置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の炭化水素基であり、Ａ^＋は有機カチオンである。］で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含み、さらに、酸発生剤（Ｂ１）から発生する酸より酸強度の弱い酸を露光により発生する有機化合物（Ｃ）を含有するレジスト組成物。
［化１］
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【課題】電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足する電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ水溶液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）酸の作用により分解し、酸を発生する化合物及び（Ｄ）有機溶剤を含有し、（Ｃ）成分の化合物として、特定構造の化合物を含有する電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、赤外レーザ露光可能な平版印刷版材料を、地汚れ発生防止性（印刷汚れ発生防止性）に優れ、かつ、しかも耐刷性、にも優れて現像することができる平版印刷版材料の現像処理方法を提供することにある。
【解決手段】アルミニウム支持体の上にアルカリ可溶性樹脂を含有する感光性の画像形成層を有する平版印刷版材料を自動現像機で現像漕内にある回転するブラシローラーと現像液を用いて擦りながら搬送して現像処理する平版印刷版材料の現像処理方法において、該ブラシローラーを構成する植毛が剛性度が１２００ｋｇ／ｃｍ²〜５０００ｋｇ／ｃｍ²の熱可塑性樹脂で構成された発泡糸であり、且つ自動現像機内での平版印刷板材料の搬送速度Ｖｐ（ｃｍ／分）と、該ブラシローラーの回転周速Ｖｒ（ｃｍ／分）の関係が、Ｖｒ／Ｖｐ＝４〜２５であることを特徴とする平版印刷版材料の現像処理方法。 （もっと読む）

【課題】密着性、感度、および表面平滑性を向上させ、超ＬＳＩなどの半導体装置製造用の微細パターンを形成すること。
【解決手段】ハイパーブランチポリオールから誘導される構造を有するコア部の末端に、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する部位を有するシェル部を設け、コアシェル型ハイパーブランチポリマーとした。ハイパーブランチポリオールは、分岐ポリエーテルポリオール、分岐ポリエステルポリオール、分岐ポリアミドポリエステルポリオールからなる。 （もっと読む）

【課題】高感度でしかも傷耐性にも優れたポジ型の平版印刷版材料の提供。
【解決手段】（Ａ）フェノール性水酸基を有する樹脂、（Ｂ）アルカリ可溶性アクリル樹脂、（Ｃ）７５０から１１００ｎｍの近赤外線を吸収して熱に変換する機能を有する色素、（Ｄ）Ｒ_３−Ｏ−（Ｒ_１）Ｃ（Ｒ_２）−Ｏ−Ｒ_４で表される酸分解性化合物及び一般式（ＡＤＣ−２）で表される酸分解性化合物から選ばれる少なくとも１種、（Ｅ）該（Ｂ）の溶解度が２５℃で３０（ｇ／溶剤１００ｇ）以上である溶剤、及び（Ｆ）該（Ｂ）の溶解度が２５℃で２０（ｇ／溶剤１００ｇ）以下であって沸点（Ｔ２）が（Ｅ）の沸点（Ｔ１）よりも２０℃以上高い溶剤、を含有し、かつ（Ｅ）の含有量が全溶剤量の５〜４０質量％である感光層塗布液を、親水性支持体上に塗布乾燥して形成した平版印刷版材料。
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【課題】ラインエッジラフネスが小さくて良好なパターン形状が得られる、ＫｒＦエキシマレーザー、極端紫外線、電子線またはＸ線等の放射線に感応する感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】固形成分１〜４９重量％および溶媒５１〜９９重量％を含む感放射線性組成物であって、固形成分が、炭素数５〜４５で一〜四価の芳香族ケトンまたは芳香族アルデヒドと、炭素数６〜１５であり１〜３個のフェノール性水酸基を含有する化合物との縮合反応により合成した、分子量が３００〜３０００のポリフェノール化合物。
を含むことを特徴とする感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】光リソグラフィを中心としたナノファブリケーションのための高分子素材として好適なレジスト化合物、レジスト組成物を得ること。
【解決手段】所定の範囲内に分子量分画されたフミン質または当該フミン質の誘導体に、酸分解性基を導入する。酸分解性基の導入は、たとえば、フミン質または当該フミン質の誘導体が有する官能基のうち、−ＣＯＯＨまたは−ＯＨ部の少なくとも一方に酸分解性基を結合させることによっておこなう。酸分解性基は、たとえば、フミン質または当該フミン質の誘導体をコア部に対するシェル部として、リビングラジカル重合あるいはラジカル重合によって導入する。 （もっと読む）

【課題】焦点深度、ＬＷＲ、ＭＥＥＦに優れるとともに、現像欠陥にも優れた化学増幅型レジストである感放射線性樹脂組成物およびそれに用いられる新規化合物を提供する。
【解決手段】感放射線性樹脂組成物に使用できる下記式（１）で表される新規化合物。


式（１）において、Ｒ¹は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ²は水素原子または置換されていてもよい炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ³は置換されていてもよい炭素数４〜２０の三級炭化水素基を表し、Ｒ²およびＲ³がそれぞれ複数存在する場合には、その複数のＲ²およびＲ³は、それぞれ相互に同一であっても異なっていてもよく、ｍは１〜３の整数、ｎは０〜２の整数であり、ただしｍ＋ｎ＝３である。 （もっと読む）

【解決手段】ナフトールを有する繰り返し単位と酸によってアルカリ溶解性が向上する繰り返し単位とを共重合した高分子化合物を含む第１のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して第１のレジスト膜を形成し、加熱処理後に高エネルギー線で露光し、現像し、その後波長２００ｎｍ以下の高エネルギー線の照射によって第１のレジスト膜を架橋硬化させ、その上に第２のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して第２のレジスト膜を形成し、加熱処理後に高エネルギー線で露光し、現像する工程を有するパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第１のポジ型レジスト材料で、第１のパターンを形成後、これをアルカリ現像液とレジスト溶液に不溶化する。その上に更に第２のレジスト材料を塗布、露光現像することにより、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行うことができる。 （もっと読む）

【課題】高い解像度と改善されたエッジラフネスとを備えるとともに、アルカリ現像可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】（１，３，５−トリス（パラ−（パラヒドロキシフェニル）フェニル）ベンゼン）を母核に有し、酸分解性置換基を有する化合物と、化学放射線の作用により酸を発生する光酸発生剤とを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【解決手段】紫外線、遠紫外線、電子線、ＥＵＶ、Ｘ線、エキシマレーザー、γ線、又はシンクロトロン放射線の高エネルギー線に感応し、下記一般式（１ａ）又は（１ｃ）のいずれかで示されるスルホン酸を発生する化学増幅型レジスト材料用の光酸発生剤。
Ｒ¹−ＣＯＯＣＨ（ＣＦ₃）ＣＦ₂ＳＯ₃^- Ｈ⁺ （１ａ）
Ｒ¹−Ｏ−ＣＯＯＣＨ（ＣＦ₃）ＣＦ₂ＳＯ₃^- Ｈ⁺ （１ｃ）
（Ｒ¹はステロイド骨格を有する炭素数２０〜５０の炭化水素基を示す。）
【効果】本発明の光酸発生剤は、レジスト材料中の樹脂類との相溶性がよく、酸拡散制御を行うことができる。また、これらスルホン酸を発生する光酸発生剤はデバイス作製工程での塗布、露光前焼成、露光、露光後焼成、現像の工程に問題なく使用できる。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、露光ラチチュード、パターン形状が良好であり、且つ、二重露光において、露光ラチチュード、パターン形状が良好である、ポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基を有し、該酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基の酸の作用により脱離する基内に非多環の炭化水素構造を有する繰り返し単位（Ｂｂ）を有する樹脂及び（Ｃ）酸の作用により分解し、酸を発生する化合物を含有するポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】耐傷性に優れ、高感度でかつ画像再現の均一性に優れるポジ型平版印刷版材料を高い生産効率で製造する平版印刷版材料の製造方法の提供。
【解決手段】アルミニウム支持体上に、画像形成層用塗布液を塗布、乾燥して画像形成層を形成する工程および該画像形成層上に合紙を重ねる工程を有する平版印刷版材料の製造方法であって、該画像形成層がアルカリ可溶性樹脂、光熱変換化合物およびフッ素系化合物を含有し、該合紙を重ねる工程が湿度４０％ＲＨ（相対湿度）以上、８０％ＲＨ（相対湿度）以下で行われることを特徴とする平版印刷版材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）、液浸露光、二重露光において、パターン形状、ラインエッジラフネスが良好である、ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）カルボニル基若しくはスルホニル基とカルボン酸エステル構造とを有する、酸の作用により分解し、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路、プリント配線基板又は液晶パネルの製造に用いることのできるフォトレジスト技術に関し、ポジ型フォトレジストである従来の反応現像画像形成法を高感度に改良し、露光量又は露光時間を大幅に削減する。
【解決手段】従来のフォトレジスト層が含むヘテロ原子に結合したカルボニル基（Ｃ＝Ｏ）を主鎖に含む縮合型ポリマーと光酸発生剤に、下式の増幅剤を併用することにより、感度を改良した。 Ｒ^１−Ｙ−Ｘ−Ｏ−Ｒ^２（式中、Ｒ^１はアリール基等、Ｙは単結合等、Ｘはカルボニル基（−ＣＯ−）等、Ｒ^２はアルキル基を表す。）で表される。 （もっと読む）