【課題】赤外線レーザー露光により検版性が良好な色画像を形成することができる現像工程不要の平版印刷版原版及び製版方法を提供する。
【解決手段】 支持体上に、画像記録層を有する平版印刷版原版であって、（Ａ）下記一般式（１）で表される化合物及び（Ｂ）赤外線吸収染料を画像記録層に含有することを特徴とする平版印刷版原版。


式（１）中、Ｒは各々一価の有機基を表し、Ｘ⁻はアニオンを表す。 （もっと読む）

【課題】保護層に対して適度な剥離性と適度な密着性とを発揮するカバーフィルム、およびカバーフィルムと保護層との間に適度な剥離性と適度な密着性とを兼ね備えた凸版印刷用の感光性樹脂構成体を提供すること。
【解決手段】表面に樹脂層４２を有し、該樹脂層が、酸変性成分１〜１０質量％の酸変性ポリオレフィン樹脂と、架橋剤および／またはポリビニルアルコールとを含有し、架橋剤がカルボジイミド化合物および／またはオキサゾリン化合物にて構成され、酸変性ポリオレフィン樹脂１００重量部に対する架橋剤の含有量Ｘ（質量部）と、ポリビニルアルコールの含有量Ｙ（質量部）とが以下の関係式；１≦Ｘ≦５０かつ０≦Ｙ≦１０００；または０≦Ｘ≦５０かつ５≦Ｙ≦１０００；の少なくとも一方を満たすカバーフィルム４。ベースフィルム１、感光性樹脂組成物層２、保護層３、および上記カバーフィルム４の順に積層された構造を有する凸版印刷用感光性樹脂構成体。 （もっと読む）

【課題】レジスト重合体を提供する。
【解決手段】式ＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２Ｃ（Ｘ^Ａ）（Ｃ（Ｏ）ＯＺ^Ａ）（ＣＨ_２）_ｎａＣＲ^Ａ＝ＣＨＲ^Ａで表される化合物の重合により形成された繰り返し単位（Ａ）を含むレジスト重合体（ただし、Ｘ^Ａは水素原子、シアノ基または式−Ｃ（Ｏ）ＯＺ^Ａで表される基を示し、Ｚ^Ａは水素原子または炭素数１〜２０の１価有機基を示し、ｎａは０、１または２を示し、Ｒ^Ａは水素原子または炭素数１〜２０の１価有機基であって、２個のＲ^Ａは同一であってもよく異なっていてもよい。）。 （もっと読む）

【課題】撥液性成分を含有する感光性組成物（レジスト）を用いて基板上に構造物（隔壁）を形成するにあたり、形成された構造物で区画される部分におけるレジストの残渣や撥液性成分の残留に起因する白抜けの問題を解決する。
【解決手段】基板上に、撥液性成分を含有する感光性組成物で構造物を製造する際に、該感光性組成物と基板との間に直接または他の層を介して形成される該感光性組成物の下引き層用の組成物において、親水性有機化合物を含有することを特徴とする下引き層用組成物。この下引き層用組成物を用いて基板と感光性組成物との間に下引き層を形成することにより、上記課題が解決できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、焦点深度を広げることが可能な上層反射防止膜、該上層反射防止膜を形成するための上層反射防止膜形成用組成物および該上層反射防止膜を用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される構造単位を有する重合体、
（Ｂ）ヒドロキシル基を有する３級アミン化合物及び
（Ｃ）水
とを含有することを特徴とする上層反射防止膜形成用組成物。
【化１】


〔一般式（１）において、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を示す。Ｒ^２は、直接結合、−ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−Ａ−、又は−ＣＯＮＨ−Ａ−を示し、Ａは炭素数１〜８の２価の炭化水素基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】長期間保管した後においても、表面張力が増加せず、ストリエーションの発生等の問題を生じることのない塗布膜形成用組成物及びこれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】レジスト膜に直接接する被膜を形成するための塗布膜形成用組成物であって、少なくとも（ａ）膜形成成分、（ｂ）酸性成分、及び（ｃ）界面活性剤を含有し、且つ前記塗布膜形成用組成物の調製直後からの表面張力の経時変化量が６０℃において、０．２０ｍＮ／ｍ・ｄａｙ以下である塗布膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】現像液の低アルカリ化、現像処理工程の簡素化が可能な平版印刷版原版を欠陥なく、安定に製造可能とする方法を提供すること。
【解決手段】親水性支持体上に、（Ａ）増感色素、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物、及び、（Ｄ）バインダーポリマーを含有する感光層を塗布乾燥する工程と、（Ｅ）ポリビニルアルコール、及び、（Ｆ）シリカ化合物を含有する保護層を塗布乾燥する工程とをこの順で有し、該（Ｆ）シリカ化合物の最大粒径の、１．０倍以上４．０倍以下の公称濾過精度を有するフィルターを１つ以上使用して、調液後から塗布の間に保護層塗布液を濾過する工程を有することを特徴とする平版印刷版原版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】細線抜け性及び耐刷性に優れた平版印刷版原版、並びに、平版印刷版の製版方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）増感色素、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）バインダーポリマー、及び、（Ｅ）フェノチアジン系化合物を含有する感光層を有することを特徴とする平版印刷版原版、並びに、前記平版印刷版原版を画像露光する露光工程、及び、現像液の存在下で非露光部の感光層を除去する現像工程を含むことを特徴とする平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】１液処理にもかかわらず処理性に優れ、また着肉性に優れた平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）増感色素、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）バインダーポリマー、および（Ｅ）特定の化合物を含有する感光層を支持体上に有する平版印刷版原版を画像露光後、1液処理することを特徴とする平版印刷版の作製方法。。 （もっと読む）

【課題】ウォーターマーク欠陥、及び、溶け残り欠陥が発生し難い液浸露光用の上層膜を形成するための材料である共重合体を得る共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】重合可能な温度に昇温した溶媒に、所定の単量体（Ａ）を含有する第一の単量体溶液とラジカル重合開始剤とを、それぞれ滴下しながら重合反応を行い、重合体溶液を得る工程と、得られた重合体溶液に、酸性の官能基を有する単量体（Ｂ）を含有する第二の単量体溶液を滴下して、液浸露光用の上層膜を形成するための材料として使用される共重合体を含有する共重合体溶液を得る工程と、を有する共重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト保護膜形成組成物およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する重合体であり含フッ素重合体（Ｆ）よりフッ素含有量が低いレジスト重合体（Ｒ）を含む感光性レジスト層の表面に塗布されて用いられるレジスト保護膜形成組成物であって、含フッ素重合体（Ｆ）を含むアルカリ溶解性のレジスト保護膜用材料と、ハイドロフルオロカーボン系溶媒およびハイドロフルオロエーテル系溶媒から選ばれる少なくとも１種のフッ素系溶媒（Ｓ）を含む溶媒とを含む、レジスト保護膜形成組成物。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、特定構造で表される構成単位（ａ０）と他の特定構造で表される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、前記高分子化合物（Ａ１）を構成する全構成単位に対し、前記構成単位（ａ０）の割合は、５〜５０モル％であり、前記構成単位（ａ１）の割合は１０モル％より大きく、前記構成単位（ａ０）および（ａ１）の割合の合計は９０モル％以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィに無機酸化物からなるナノ粒子を含むバリア膜を用いる際のレジストパターンのパターン不良を防止できるようにする。
【解決手段】基板１０１の上にレジスト膜１０２を形成し、形成したレジスト膜１０２の上に、無機酸化物（ＳｉＯ_２）からなるナノ粒子とアルカリ可溶性基を有する脂環式化合物（１−アダマンタノール）とを含むバリア膜１０３を形成する。続いて、バリア膜１０３の上に液体１０４を配した状態で、液体１０４及びバリア膜１０３を介してレジスト膜１０２に露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。続いて、パターン露光されたレジスト膜１０２に対して現像を行って、バリア膜１０３を除去すると共にレジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィに無機酸化物からなるナノ粒子を含む液体を用いる際のレジストパターンのパターン不良を防止できるようにする。
【解決手段】基板１０１の上にレジスト膜１０２を形成し、続いて、形成したレジスト膜１０１の上に、無機酸化物からなるナノ粒子（ＨｆＯ_２）とアルカリ可溶性基を有する脂環式化合物（1,3−アダマンタンジオール）とを含む液体１０４を配した状態で、レジスト膜１０２に露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。続いて、パターン露光が行われたレジスト膜１０２に対して現像を行って、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】ウォーターマーク欠陥やＢｌｏｂ欠陥等を抑制することができる上層膜用組成物を提供すること。
【解決手段】一般式（１）及び（２）で表される単位のいずれか、並びにそれ以外の特定の単位を有する重合体（Ａ）を含む重合体と溶剤とを含有する上層膜用組成物。
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【課題】酸性から中性領域で現像可能であり、その際に問題となる耐傷性および現像性、更に現像によって除去した保護層成分（現像カス）の分散安定性の問題を克服した平版印刷版の製版方法及び平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】親水性支持体上に、（Ａ）増感色素、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）バインダーポリマーを含有する感光層と、（Ｅ）少なくとも１種のポリビニルアルコール、（Ｆ）無機フィラー、（Ｇ）カルボン酸を含有するモノマー単位を９０モル％以上含む重合体を含有する保護層とをこの順に有する平版印刷版原版を画像露光した後、ｐＨが２〜８の現像液で保護層および非露光部の感光層を除去することを特徴とする平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】酸性から中性域で現像可能であり、そして、その際に問題となる現像性、更に感材から溶出してくる成分による処理ムラの問題を克服した平版印刷版用現像処理液及び平版印刷版の製版方法を提供する。
【解決手段】 下記式（Ｉ）で表される両性界面活性剤、水溶性高分子化合物を含有し、さらにｐ−ヒドロキシ安息香酸エステルを含有し、ｐＨ２〜８であることを特徴とする平版印刷版用現像処理液、及び該処理液を用いた平版印刷版の製版方法（式（Ｉ）中、Ｒ１及びＲ２は、各々独立してＨまたはアルキル基を表し、Ｒ３はアルキル基、またはエチレンオキサイドを含有する基を表し、Ａはカルボン酸アニオン、スルホン酸アニオン、またはホスホン酸アニオンを含有する基である。）
【化１】
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【課題】高感度であり、且つ現像ラチチュードが広いポジ型平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂と赤外線吸収剤とを含有するポジ型画像記録層、及び、側鎖にエポキシ基とエチレングリコール基とを有するポリマーを含有するオーバーコート層を、この順に有することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【解決手段】側鎖のヘキサフルオロアルコールの水酸基が保護されたモノマー（１）又は（２）と酸不安定基を有するモノマー（３）の共重合により得られる高分子化合物（Ａ）を液浸リソグラフィー用フォトレジスト用の添加剤材料として用いる。


【効果】高分子化合物（Ａ）を用いたレジスト材料は液浸リソグラフィーにおける撥水性と滑水性に優れ、現像欠陥が少ない良好なリソグラフィー性能を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】高分子化合物（Ａ）を用いたレジスト材料及びレジスト保護膜材料は液浸リソグラフィーにおける撥水性と滑水性に優れ、現像欠陥が少ない良好なリソグラフィー性能を実現する。
【解決手段】側鎖にヘキサフルオロアルコールを有するモノマー（１ａ）と、側鎖のヘキサフルオロアルコールの水酸基が保護されたモノマー（１ｂ）の共重合により得られる高分子化合物（Ａ）を液浸リソグラフィー用フォトレジスト用の添加剤材料及びレジスト保護膜材料として用いる。
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