【課題】パターン露光後の現像工程を省略することができる、新規なフォトリソグラフィー法を提供すること。
【解決手段】被加工表面上に、ヒートモード感光性化合物を蒸着することにより蒸着膜を形成すること、上記蒸着膜に、上記化合物が感光性を有する波長のレーザー光をパターン露光すること、および、上記パターン露光後の蒸着膜を有する被加工表面の少なくとも一部にエッチング処理を施し、上記パターン露光において露光された部分に対応する領域における被加工表面の少なくとも一部をエッチングすること、を含む被加工表面のエッチング方法。被加工物上に複数の凹凸を形成する加工方法。被加工物上に、ヒートモード感光性化合物を蒸着することにより蒸着膜を形成すること、および、上記蒸着膜に、上記化合物が感光性を有する波長のレーザー光をパターン露光することにより、該蒸着膜に複数の凹部を形成すること、を含む。 （もっと読む）

【課題】基板とレジストの密着性を向上するための疎水化処理による基板の裏面の汚染を抑制できる表面処理方法を提供すること。
【解決手段】表面処理方法は、基板１とレジストとの密着性を高めるために、前記レジストが塗布される基板１の表面を疎水化処理するための表面処理方法であって、基板１と前記レジストとの密着性を高めるための表面処理剤３の蒸気を基板１の表面に供給する際に、基板１の裏面に表面処理剤３の蒸気が供給されることを防止する。 （もっと読む）

【課題】光触媒機能を利用する印刷用版材において、版材の耐久性、とくに光触媒機能を発揮可能な層の基材への密着性を格段に高め、版材全体の耐久性を大幅に高めるとともに、光触媒機能を強化して、印刷版の生産性を高め、高精細な印刷を可能とする。
【解決手段】加熱処理により、基材（１）自体の表層が、光触媒機能を発揮可能な酸化層（４）に改質されているとともに、酸化層（４）の表面に、光触媒機能を発揮可能な微粒子（２）が焼き付けられており、その上に、疎水性の化合物を含み光触媒機能により分解可能な層（５）が被覆されていることを特徴とする印刷用版材（６）、およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＣの如き光透過性を有する基板材料上に所望のレジストパターンを精度よく且つ安定に形成することができるマスクパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】光透過性を有する半導体基板上に光反射膜を形成する。光反射膜の上にフォトレジストを形成する。半導体基板にフォーカス検出光を照射して光反射膜で反射される反射光に基づいて調整された焦点位置に原盤マスクを介して露光光を照射してフォトレジストを露光する。その後、フォトレジストの露光部分又は露光部分以外の部分を除去することによりフォトレジストにパターニング施す。 （もっと読む）

【課題】遷移金属の酸化物からなる無機レジストを使用した場合でも、高い露光感度を有し、かつ、露光現像後における紫外線又は可視光の透過率が高い光ディスク用スタンパを作製することを目的とする。
【解決手段】透明基板１０１と無機レジスト膜１０４との間に希土類金属膜１０３を設けることで、４０５ｎｍ程度の可視レーザによる高感度な露光が可能となる。また、露光後は水素含有誘電体膜１０２から水素が希土類金属膜に拡散し、希土類金属膜における紫外線又は可視光の透過率が高くなるため、スタンパ側からの紫外線照射が可能となる。 （もっと読む）

【課題】表面の粗度が低く滑らかな光ディスク用スタンパを容易に且つ安定して提供する。
【解決手段】遷移金属の酸化物と、この遷移金属の酸化物よりも融点の低い添加金属元素を含む無機材料からなるレジストを用いる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光や電子線に対する感度が高く、より少ない露光で、明瞭かつ微細なパターンを形成可能なレジスト材料を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、金属化合物を有するレジスト材料であって、上記金属化合物を構成する金属元素が、第１４族または第１５族の金属元素であり、かつ、上記金属化合物が化学量論的に不完全な化合物であることを特徴とするレジスト材料を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光や電子線に対する感度が高く、より少ない露光で、明瞭かつ微細なパターンを形成可能なレジスト材料を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、金属化合物を有するレジスト材料であって、上記金属化合物を構成する金属元素が、第１４族または第１５族の金属元素であり、かつ、上記金属化合物が化学量論的に不完全な化合物であることを特徴とするレジスト材料を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光や電子線に対する感度が高く、より少ない露光で、明瞭かつ微細なパターンを形成可能なレジスト材料を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、金属化合物を有するレジスト材料であって、上記金属化合物を構成する金属元素が、第１４族または第１５族の金属元素であり、かつ、上記金属化合物が化学量論的に不完全な化合物であることを特徴とするレジスト材料を提供する。 （もっと読む）

【課題】有機モノマーをプラズマ重合化することにより、光学的性質及び／または機械的性質において優れた特性を有する薄膜ハードマスクを形成する。
【解決手段】容量結合型プラズマCVD装置により半導体基板上に炭化水素系ポリマー膜を形成する方法が与えられる。当該方法は、ビニル基またはアセチレン基により置換されない、沸点が約２０℃から約３５０℃の炭化水素系液体モノマーC_αH_βX_γ（ここで、α及びβは５以上の自然数、γはゼロを含む整数、Xは、O、NまたはF）を気化する工程と、基板が配置されたCVD反応チャンバ内に気化したガス及びCO₂ガスまたはH₂ガスを導入する工程と、ガスをプラズマ重合することにより半導体基板上に炭化水素系ポリマー膜を形成し、それによって、１９３nmでの消衰係数を減少させかつ機械的硬度を増加させるところの工程と、から成る。 （もっと読む）

【課題】低温でも優れたアッシング耐性を有する有機シリコン酸化膜を形成する。
【解決手段】プラズマCVDにより有機シリコン酸化膜を形成する方法は、(i)基板が載置されるサセプタの温度を３００℃以下に調節する工程と、(ii)サセプタが設置されたリアクタ内に少なくともテトラエチルオルソシリケート(TEOS)及び酸素を導入する工程と、(iii)高周波RF電力及び低周波RF電力を印加する工程と、(iv)基板上に有機シリコン酸化膜を蒸着する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】自由に造形することができるトリアジンチオール誘導体を用いた光造形体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】基体１上にフッ素含有トリアジン誘導体層２を形成する。フッ素含有トリアジン誘導体層２上に、遮光部３ａ及び透過部３ｂを有するマスク３を配置して光４を照射する。これにより、透過部３ｂを介して光４が照射されたフッ素含有トリアジン誘導体層２ａは光重合してフッ素含有トリアジン重合体となる。溶剤、例えばエタノールにより洗浄することにより、マスク３の遮光部３ａに対応する部分（光照射されたフッ素含有トリアジン誘導体層２ａ以外の部分）が除去されて、パターンが形成される。 （もっと読む）