【課題】高精度パターンの印刷を行なう改良型パターン・ジェネレータを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、光学投影系に使用される空間強度光変調の方法において、旋回運動を行い、個々にアドレス可能なミラー要素の規則的なグリッドを与えるステップであって、グリッド内のミラー要素を配列して、第１ミラー要素が、実質的に異なる旋回運動を行う隣接する第２ミラー要素を有するようにする規則的なグリッドを与えるステップ、パターンを形成するミラー要素を駆動させるステップ、及びミラー要素から画像面に投影放射を行いパターンを再現するステップ、とを含み、単一の光源から放射が生成されることを特徴とする方法。 （もっと読む）

適応型ミラーシステムはミラーシステムに生じ得る波面誤差を補正するための位相ミラーセグメントのアレイを含み、各位相ミラーセグメントは集積型波面補正モジュールを含み、このモジュールは、光学面と、この光学面に関する入射局所波面の高空間時間周波数位相誤差を補正するべく光学面を変形させるための高空間時間周波数補正システムと、入射局所波面のチップ・チルト誤差を補償するべく光学面を調整するためのチップ・チルト補正システムとを有する。
（もっと読む）

自動焦点システムは、少なくとも１枚のマイクロミラーアレイレンズ、イメージセンサ及び信号処理装置を備えている。マイクロミラーアレイレンズは、被写体の像を写し、イメージセンサにその像を結像させる。イメージセンサは、その光を受光し、光の光学的エネルギーを電気的エネルギーの電気信号に変換する。イメージセンサは、被写体の画像データを搬送する電気信号を信号処理装置に送る。信号処理装置は、その電気信号を受け取り、画像データの画質とその焦点判定基準とを比較し、マイクロミラーアレイレンズの焦点距離を調節するためにマイクロミラーアレイレンズに送る制御信号を生成する。このプロセスは、画像データの画質が焦点判定規準に合致するまで反復継続され、人間の目における残像の速度内で完了する。
（もっと読む）

個々に制御されるマイクロミラーアレイレンズ（ＤＣＭＡＬ）は、複数の個々に制御されるマイクロミラー（ＤＣＭ）と駆動部分とから構成される。上記駆動部分は、静電気的に、上記ＤＣＭの位置を制御する。上記ＤＣＭＡＬの光学効率は、ＤＣＭを支持する機械的構造と上記駆動部分とを上記ＤＣＭの下に配置して、有効反射領域を増加させることにより、改善される。公知のマイクロエレクトロニクス技術は、電極パッドおよびワイヤによる有効反射領域の損失を取り除くことができる。上記レンズは、ＤＣＭを独立に制御することにより、収差を補正することができる。各ＤＣＭの独立制御は、公知のマイクロエレクトロニクス技術によって達成できる。ＤＣＭアレイは、任意の形状および／またはサイズのレンズを形成することができる、または、任意の形状および／またはサイズのレンズを備えたレンズアレイを形成することができる。
（もっと読む）

本発明は、静電気を用いた従来のマイクロミラーの欠点を克服した、２種類のディスクリート制御マイクロミラー（ＤＣＭ）を提供する。第１の類型のマイクロミラーは、静電気による従来のマイクロミラーよりも変位範囲の大きい可変支持ディスクリート制御マイクロミラー（ＶＳＤＣＭ）である。ＶＳＤＣＭの変位の正確性は、静電気による従来のマイクロミラーよりも好適であり、かつ動作電圧はＩＣ構成部品に適応している。ＤＣＭの第２の類型は、セグメント電極ディスクリート制御マイクロミラー（ＳＥＤＣＭ）であり、静電気による従来のマイクロミラーと同様の欠点を有している。しかし、ＳＥＤＣＭは、公知のマイクロ電子工学技術に適応される。
（もっと読む）

【課題】 光学系内でコントラスト比に影響する偏光状態が損なわれることがない微小光学素子を提供する。
【解決手段】 曲面形状により入射光に対して集光機能を有する複数の微小な光学素子３を周期的に配列してなり、前記各光学素子３の曲面形状３ｂの一部に前記入射光に対して実質的な平坦部３ａを有する微小光学素子３であることを特徴と特徴とする。 （もっと読む）

マイクロミラーアレイレンズは、２つの自由回転と１つの自由平行移動とを行う、複数のマイクロミラー１３と、駆動部分とから構成されている。上記マイクロミラーのアレイは、対象の１つのポイントから散光している全ての光が、同じ周期的な位相を有するように、また、画面の１つのポイントに収束するようにすることができる。上記駆動部分は、静電気的におよび／または電磁気的に、上記マイクロミラーの位置を制御する。上記マイクロミラーアレイレンズの光学効率は、上記マイクロミラーを支持する機械的構造と上記駆動部分とを上記マイクロミラーの下に配置することにより、改善される。半導体マイクロエレクトロニクス技術は、電極パッドおよびワイヤによる有効反射領域の損失を取り除くことができる。上記レンズは、各マイクロミラーを独立に制御することにより、収差を補正することができる。各マイクロミラーの独立した制御は、公知の半導体マイクロエレクトロニクス技術によって達成することができる。上記マイクロミラーアレイは、所望の任意の形状および／またはサイズのレンズを形成することができる。
（もっと読む）

リフレクタの反射面を、台形断面のプリズム要素の繰り返しからなる構造化面とすることにより、バックライト装置における入光付近のホットスポットや輝線、光源間の黒ずみ等を改善する。 （もっと読む）

高さの異なる部分（Ｋ１、Ｋ２）を有する下地面（Ｓｆ）を複数有する支持体と、この支持体に形成されｘ方向に起伏部ピッチ（Ｔｘ）で並ぶ複数の起伏部（１８乃至１２８）と、複数の反射電極（Ｅｒ１、・・・、Ｅｇ６）とを有する反射電極基板（１）であって、複数の下地面（Ｓｆ）がｘ方向に画素ピッチ（Ｓｘ）で並び、起伏部ピッチ（Ｔｘ）が画素ピッチ（Ｓｘ）の非整数倍である反射電極基板（１）。

（もっと読む）

本発明は、投影スクリーンとして機能することができる広帯域投影受像面である。この表面は、強い周囲光においても高い利得を提供し、グレアとスペックルを防止し、高いコントラストを提供し、グレイスケール直線性を保存し、輝度の均質性を提供し、急速な角カットオフを提供し、偏光を保存し、広いスペクトル範囲にわたって機能する能力を提供する。これらの達成は、超波長形態（フィギュア）を作るために使用される過程からサブ波長形態（仕上げ）において使用される材料加工処理の目的に適った区分から結果として得られる。
（もっと読む）

共焦点光学装置を開示する。この装置は、物体の三次元走査の実行が可能な３軸式走査鏡を含む。特に、この走査鏡は、環状ジンバル配置された２つの部材を取り付けた可変反射薄膜を備えることにより、２本の直交する軸の周囲で回転が得られる。装置内の別の適切な場所への設置も可能な可変薄膜を使用して、該装置から走査中の物体へと伝播された光ビームの焦点スポットの制御を行う。共焦点装置に関連した様々な方法についても記載している。 （もっと読む）