【課題】反射型カラーフィルタ及びこれを備えるディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】透明基板、透明基板上に形成された複数のフォトニック結晶パターンを含むフォトニック結晶層及び透明基板を介してフォトニック結晶パターンと対向する光エネルギー変換素子を含む反射型カラーフィルタ。入射光に対する透過率が電気的に制御される液晶層、液晶層を画像情報によって駆動する複数の薄膜トランジスタを備えるＴＦＴ−アレイ層及び液晶層を通じて入射された光のうち、フォトニックバンドギャップに該当する波長帯域の光を反射させる反射型カラーフィルタを備える反射型ディスプレイ装置。 （もっと読む）

【課題】入射された光を効率的に利用することができるカラーフィルタを提供する。
【解決手段】カラーフィルタ１０は、カラーフィルタ用基材１１と、カラーフィルタ用基材１１の光源側に設けられたブラックマトリクス層１２と、ブラックマトリクス層１２間に設けられた複数色の着色層１３と、を備えている。また、ブラックマトリクス層１２の観察側の面１２ａ上に、ブラックマトリクス１２層から観察側に向ってカラーフィルタ１０の法線方向に延びる隔壁１５が設けられている。この隔壁１５の屈折率は、カラーフィルタ用基材１１の屈折率よりも小さくなっており、またこの隔壁１５は、観察側に向かうにつれて先細となるくさび形状を有している。 （もっと読む）

【課題】表示品質の優れた表示装置を提供すること。
【解決手段】本発明にかかる表示装置は、画素１０５、ＴＦＴ１０６、ＢＭ１、及び色材３を有するものである。画素１０５は、行列状に複数設けられる。ＴＦＴ１０６は、画素１０５内に設けられる。また、画素１０５内におけるＴＦＴ１０６の位置が２種類以上あり、この位置が各列で共通する。ＢＭ１は、画素１０５内に、開口部２とＴＦＴ遮光部１ａを有する。ＴＦＴ遮光部１ａは、ＴＦＴ１０６と対向するように設けられる。色材３は、開口部２に設けられる。また、色材３の色が２種類以上あり、この色が各列で共通する。同色の色材３が設けられた開口部２の形状が全て同一である。 （もっと読む）

【課題】表示ムラが目立たない表示品質に優れた液晶表示装置を実現するカラーフィルタ基板を提供する。
【解決手段】カラーフィルタ基板１には、格子状のブラックマトリクス３０と、行列状に複数の着色画素４０が形成される。あるフォトマスクで露光された領域５０ａに含まれる着色層４１Ｒとブラックマトリクス３０との行方向の重なり幅Ｗａ（またはＷｂ）と、他のフォトマスクで露光された領域５０ｂに含まれる着色層４１Ｒとブラックマトリクス３０との行方向の重なり幅Ｗｇ（またはＧｈ）との差の最大値は４μｍ以下である。また、全ての着色画素とブラックマトリクスとの行方向の重なり幅Ｗａ〜Ｗｌの最大値が８μｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】高開口率化及び混色を抑制した液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】液晶層を挟持して対向配置された第１基板及び第２基板を有し、第１基板に
は、互いに絶縁された状態で交差するように形成された複数の走査線及び信号線１４と、
走査線及び信号線１４によって区画されたサブ画素とを備え、第２基板には、平面視で、
走査線及び信号線１４によって区画されたサブ画素毎に形成されたカラーフィルター層３
１を備え、第１基板に透明電極が備えられた液晶表示装置１０において、サブ画素毎に形
成されたカラーフィルター層３１は非着色領域４２を有し、非着色領域４２は、信号線１
４を挟んで両側に位置する透明電極と平面視で部分的に重なる位置に形成されている。 （もっと読む）

【課題】広い波長範囲をカバーする優れた波長選択性を発揮しかつ偏光選択性の無い分光素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】カラーフィルター２１は、３０°未満好ましくは２０°以下の異なる傾斜角度の第１〜第３斜面２４〜２６を設けた基板２２と、その主面に設けた誘電体多層膜２３とを備える。誘電体多層膜は、基板をその水平基準面が水平方向Ｈから所定のチルト角φ傾くように配置して、誘電体材料を真空蒸着により一定の入射方向に沿って入射させ、基板主面に積層成膜させて形成する。 （もっと読む）

【課題】平坦性が優れ、少ない工程で精度良く形成可能なカラーフィルタ基板、及びこのカラーフィルタ基板を具備する液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】透明基板上に、有機顔料を主たる色材とする遮光層を有効表示領域の外周に配置するとともに、３色以上の着色層からなる着色画素を有効表示領域に形成したカラーフィルタ基板において、前記有効表示領域内に形成された、前記遮光層と同一材料からなり、前記遮光層より薄い、０．４μｍ以上１．０μｍ以下の膜厚を有するスペーサの台座、及びこの台座上に形成された複数色の着色層の積層からなるスペーサとを具備し、前記遮光層と着色層の膜厚が略等しく、液晶表示装置を構成したときの液晶層の厚みと、前記台座上に形成されたスペーサの前記着色画素上に突出する部分の高さとが略等しいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い蛍光強度を有する波長変換材料、波長変換フィルタ、また、該波長変換フィルタを用いた波長変換発光デバイス及び光電変換デバイスを提供すること。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表されるシアニン化合物を少なくとも一種含有する波長変換材料である。


（式中、Ｘは酸素原子、硫黄原子、セレン原子、−ＣＲ^４Ｒ^５−、−ＮＲ^６−を表し、Ａ^１及びＡ^２は炭素原子数６〜２０の芳香環を表し、Ｒ^１〜Ｒ^６は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、カルボキシル基、水酸基、−ＮＲＲ’、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基を表す）。 （もっと読む）

【課題】工程の複雑化や設備規模の増加が問題となっているフォトリソグラフィー法に代わりに開発されている被印刷基材表面上へ転写する反転印刷法において、簡便な工程/設備規模で、パターンの変形による抜けが無く、パターン重ね合わせ精度が高く、高品質な微細加工の要求の解決を課題とする。
【解決手段】パターン上層部、下層部を含んだ、少なくとも二つの層により構成される積層構造パターンを基材上に作製する方法であって、パターン上層部が、その下方のパターン層よりも大きく、パターン断面形状で画像パターン上層部からなるパターン表面部分が水平方向に突き出した形状とした事を特徴とする。 （もっと読む）

【課題】コンタクトホールのテーパ角を大きく、かつ、色重ね部のテーパ角を小さく形成した、ＣＯＡ型の液晶表示装置およびその製造方法の提供する。
【解決手段】ＣＯＡ型の液晶表示装置およびその製造方法にあって、
カラーフィルタをフォトリソグラフィ技術によって形成する際に、カラーフィルタのコンタクトホールと色重ね部のいずれか一方あるいは双方をハーフトーン露光することによって、色重ね部のテーパ角がコンタクトホールのテーパ角よりも小さく形成する。 （もっと読む）

【課題】汎用性に富んだ光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る製造方法によれば、複数本のライン状の隔壁７ａを形成した後に、隣り合う２つの隔壁７ａ間の領域を複数の区画領域Ｐに分割するための堰となる隔壁７ｂを液滴吐出法によって形成している。換言すれば、隔壁７ｂの形成位置を変更（調整）することにより、区画領域Ｐの大きさを自在に調整することができる。よって、表示領域Ｖのサイズや、使用する溶液の種類、乾燥条件などを考慮した上で、表示領域Ｖの中央部よりも周縁部の区画領域Ｐが広くなるように、最適化することができる。従って、汎用性に富んだ光学装置の製造方法を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】柱状スペーサの下地領域を平坦化させると共に、透過率を向上させることが可能な液晶表示装置を提供することである。
【解決手段】
画素領域を有する第１基板と、カラーフィルタ及び遮光膜を有する第２基板とを備えた液晶表示装置であって、カラーフィルタを重ねて形成した第１遮光膜と、黒色層より成る第２遮光膜との交差領域内に、隣接するカラーフィルタの端部が重畳しない領域が形成され、該重畳しない領域内で前記隣接するカラーフィルタの境界部を跨ぐように、スペーサが形成される液晶表示装置である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、位相差層および駆動用液晶層の両方についての屈折率の波長分散特性の問題を解決可能なカラーフィルタを製造するための製造方法およびそのカラーフィルタを備えた液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 光透過性を有する基材と、厚みの異なる複数の着色層を備えてなるカラーフィルタ層と、入射光に位相差を生じさせる位相差層とを備えるカラーフィルタの製造方法が、基材に対して直接又は間接に厚みを異にする着色層を設けるカラーフィルタ層形成工程と、基材に対して直接又は間接に、重合性官能基を有する液晶化合物を含有する液晶組成物を塗布して液晶塗布膜を形成し、該液晶塗布膜に含まれる液晶化合物を所定の方向に配向させ、フォトマスクを介して液晶塗布膜に対して活性放射線を照射することにより、液晶塗布膜に含まれる液晶化合物を重合してなる構造を有する位相差層を形成する位相差層形成工程と、を備え、その位相差層形成工程で、フォトマスクとして、ハーフトーンマスクが用いられ、カラーフィルタ層形成工程および位相差層形成工程が、該カラーフィルタ層形成工程および位相差層形成工程の実施後において、カラーフィルタの最表面の領域のうち位相差層と着色層の積層構造が存在する部分により形成されるとともに厚みを異にする着色層ごとに形成される積層構造形成領域によって、隣り合う積層構造形成領域の間又は境界位置に、０．１μｍを超える所定の大きさの段差部が形成されるように、行われることで、波長分散特性の問題を解決可能なカラーフィルタを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー法で、ブラックマトリックス、ＲＧＢの着色画素、透明電極、フォトスペーサを製造すると、必要なフォトマスクの数が６版から７版必要であり、マザーガラスの大型化に伴ってマスクコストの負担が大きくなるという問題がある。
【解決手段】基板１上に、少なくとも、相互に隙間を開けて配列する側壁形状が順テーパ状の着色画素２，３，４、透明電極層５、前記隙間の位置に、上部にフォトスペーサ７，８を備えるブラックマトリックス９、がこの順に積層されたことを特徴とするカラーフィルター基板である。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ表示光源を用いる場合に、正面及び斜め方向の視認性が良好となるカラーフィルタの提供。
【解決手段】好ましくは、基板上に感光性着色組成物の塗膜を形成する工程、遮光領域と全透過領域のほかに光透過率５％以上８０％以下の半遮光領域を含むフォトマスクを用いて前記塗膜を露光する工程、および未露光部を現像する工程を含む方法により形成され、１画素内の画素パターンの端部を除く領域に傾斜角５度以上９０度以下の傾斜面を複数有する画素パターンを具備する有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ、および該カラーフィルタおよび有機ＥＬ光源を具備する有機ＥＬ表示装置。 （もっと読む）

【課題】入射された光を効率的に利用することができるカラーフィルタを提供する。
【解決手段】カラーフィルタ１０は、一側の面２０ａに仕切り壁１６を残して複数の溝１７が形成されたカラーフィルタ用基材２０と、カラーフィルタ用基材２０の各溝１７内に、空間を残して充填されたカラーフィルタ層１１とを備えている。また、各仕切り壁１６の表面には反射層１８が設けられている。このため、一側の面２０ａからカラーフィルタ用基材２０の溝１７内に入射した光がカラーフィルタ１０の他側から取り出されるよう、光を反射層１８で全反射させることができる。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタ基板の色画素の膜厚を異ならせる事により各色ごとに液晶層の層厚が異なるマルチギャップ方式の液晶表示装置において、好適な透明保護膜用材料およびカラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタを提供する。
【解決手段】透明基板上に、少なくとも赤色画素（R）、緑色画素（G）、青色画素（B）からなるカラーフィルタと透明保護膜を構成要素とするカラーフィルタにおいて、硬化物のガラス転移温度が５０〜１００℃の範囲で、融点が１００〜２００℃の範囲となる透明保護膜用樹脂組成物をカラーフィルタ上に積層し、前記赤色画素（R）、緑色画素（G）、青色画素（B）の各画素上の透明保護膜の膜厚が異なるように熱処理することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】ブラックマトリックス（遮光膜）とカラーフィルタとが重畳する箇所であって、柱状スペーサが配置される箇所に制約をなくすことのできる液晶表示装置の提供。
【解決手段】液晶を挟持する一方の基板に、第１方向およびこの第１方向と交差する第２方向に並設された複数の画素ＰＩＸの間を覆うように形成されたマトリクス状の遮光膜ＢＭと、第１方向に延設されたストライプ形状の３色のカラーフィルタＣＦと、が層構造で形成され、かつ、前記ストライプ形状のカラーフィルタＣＦのうちの１のカラーフィルタＣＦｇが、前記遮光膜ＢＭと隣接する他色のカラーフィルタＣＦｂとの積層部に、更に重ねて第２方向に延在する延在部ＣＦＳｇを有し、前記延在部ＣＦＳｇに柱状スペーサＳＯＣを配設する。 （もっと読む）

【課題】青色光および赤色光の混合光から，発光効率および色座標が向上された赤色光，青色光および緑色光を具現するカラーフィルタ基板，およびカラーフィルタ基板を利用した有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】青色波長の光および赤色波長の光の混合光を受けてフルカラーを具現するカラーフィルタ基板において，カラーフィルタ基板は，青色波長の光を緑色光および赤色光に変換する第１色変換部材と，緑色光を遮断する緑色遮断部材とを含む赤色カラーフィルタと，青色波長の光を緑色光および赤色光に変換する第２色変換部材と，赤色光および赤色波長の光を遮断する赤色遮断部材とを含む緑色カラーフィルタと，赤色波長の光を遮断する赤色遮断部材を含む青色カラーフィルタとを含んで構成される。 （もっと読む）

【課題】 偏光依存性を抑えると共に、可視域の青の波長を透過するＧＲ（Ｇｕｉｄｅｄ Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ）モードのシリコンを用いた光学フィルタを提供すること。
【解決手段】 基板と、シリコンで構成された部材の複数を前記基板の表面上に周期的に配してなる周期構造と、を備え、前記周期構造に入射する光の内、第１の波長の光を前記基板方向に選択的に透過させる光学フィルタであって、前記部材は、周期を４００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の範囲内として二次元的に配されていると共に、前記部材の前記表面に平行な方向の大きさを１２０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下の範囲内として、第１の波長の透過スペクトルの極大値を４００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の範囲内に発現させた光学フィルタ。 （もっと読む）