【課題】本発明は、ホワイトバランスに優れ、且つ、透過モードでは高色純度な画質、反射モードでは高反射率・高色純度な画質を実現できる液晶表示装置およびそれを用いた表示体を提供する。
【解決手段】液晶表示装置１は、第１透明基板２と、第２透明基板３と、第１透明基板２と第２透明基板３との間に介在した液晶層１７と、複数の画素領域の各々において、第１カラーフィルタ９、および第１カラーフィルタ９より透過率の高い第２カラーフィルタ１０を有したカラーフィルタ６とを備え、複数の画素領域の各々において、第１カラーフィルタ９と第２カラーフィルタ１０との境界部１１は、光反射領域８に位置しており、第１カラーフィルタ９は、非画素領域と対応する部位において、液晶層１７が位置する方向に突出しており、第２カラーフィルタ１０は、非画素領域と対応する部位において、液晶層１７が位置する方向に突出している。 （もっと読む）

【課題】短波長領域である青色の光損失が少ない液晶表示装置の提供。
【解決手段】液晶表示装置は、液晶組成物を有する液晶層と、液晶層を介して、互いに対向して配置された一対の基板と、その一対の基板の液晶層側に配置された配向層と、液晶層側とは反対側にそれぞれ配置された偏光板と、を備え、一対の基板は、液晶組成物の配向を制御するための薄膜トランジスタを有する薄膜トランジスタ基板と、複数種類の色の画素を備える有色層２４２を有するカラーフィルタ基板２１２と、を有し、複数種類の色の画素の１つである青画素の面積は、他の種類の色の画素の面積よりも大きい。 （もっと読む）

【課題】ネガ型フォトレジストを使用して形成した遮光膜と透明着色膜を有するカラーフィルタでありながら光洩れを防止することのできるカラーフィルタであって、しかも安価に製造できるカラーフィルタを提供すること。
【解決手段】透明基板の表面を多数の画素領域に区画する遮光膜と、画素領域に設けられた透明着色膜とを備え、前記遮光膜が遮光性着色剤を含有するネガ型フォトレジストを硬化したものから構成されているカラーフィルタで、遮光膜の光学密度が１μｍ当たり４．０以上とし、かつ、前記透明着色膜の膜厚を遮光膜の膜厚より０．５〜１．５μｍ厚く構成する。この膜厚の差のため、重なり部に突起が生じないか、あるいは実害のない程度の突起が生じているに過ぎず、光洩れが生じない。 （もっと読む）

【課題】ラビング処理や輸送中の振動などに起因して保護膜が摩擦力または押圧力を受けた場合であっても品質が劣化しないカラーフィルタおよび液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置用カラーフィルタ１０は、基材１１と、基材１１上に設けられたブラックマトリクス層１２と、基材１１上のブラックマトリクス層１２間に設けられた赤色画素層１３、青色画素層１４および緑色画素層１５と、ブラックマトリクス層１２上に設けられた複数の柱状のスペーサー１６とを備えている。また、ブラックマトリックス層１２、赤色画素層１３、青色画素層１４、緑色画素層１５およびスペーサー１６は、オーバーコート層１７により上方から覆われている。このオーバーコート層１７は、そのビッカース硬度が６０以上である。また、オーバーコート層１７のうちスペーサー１６上のオーバーコート層１７の厚みｔ_１は０．２μｍ以上となっている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、反射光用領域および透過光用領域における色特性が等しく、反射光用領域の着色層をインクジェット法により形成することが可能な半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、透明基板上に着色層のパターンを仕切るためのバンクを形成するバンク形成工程と、上記透明基板上の上記バンクで仕切られた領域内に、透明樹脂部をパターン状に形成する透明樹脂部形成工程と、上記透明基板上の上記バンクで仕切られた領域内に、上記透明樹脂部表面が露出するように、着色層形成用組成物をインクジェット法により吐出して着色層をパターン状に形成する着色層形成工程とを有することを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】高さが低い第二フォトスペーサーの密着性が乏しくなることなく、第二フォトスペーサーを適正な高さに設ける光路差調整層を形成するためのカラーフィルタ用フォトマスク、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタを提供する。
【解決手段】カラーフィルタを構成する光路差調整層５７上面のホールＨｅの形成に対応したマスクパターン領域に微細パターン５３が設けられている。微細パターンが遮光部を有し、その中心に透光パターンを有する。微細パターンが透光部を有し、その中心に遮光パターンを有するフォトマスク。光路差調整層を形成する際に、上記フォトマスクＰＭ６を用い第二フォトスペーサーＰＳ−１２の形成に対応した光路差調整層上面の位置にホールを形成し、該ホール上に第二フォトスペーサーを形成すること。 （もっと読む）

【課題】インクジェット印刷法等の塗布法により発光層等の有機膜が形成される際に、液状材料の溢れや引き込みに起因する隣接画素間での混色が抑制され、かつ上部電極の段切れ（段差による物理的・電気的な分離）が低減された有機エレクトロルミネセンスパネル、その製造方法及び有機エレクトロルミネセンス表示装置を提供する。
【解決手段】基板上に下部電極、バンク、有機膜及び上部電極が形成された有機エレクトロルミネセンスパネルであって、上記有機エレクトロルミネセンスパネルは、異なる膜厚の２以上のバンク領域、及び、２以上のバンク領域により囲まれ、平面形状が四辺形又は頂点若しくは辺に丸みを帯びた略四辺形の有機膜領域を有する有機エレクトロルミネセンスパネル。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタの加工精度の向上、混色の抑制等を可能にした固体撮像装置とその製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】固体撮像装置の製造方法では、光電変換素子を有する複数の画素が配列された撮像領域の表面上に開口部を有するハードマスクを形成する工程と、ハードマスクの開口部内に、第１色目フィルタ成分、または第２色目フィルタ成分と第３色目色フィルタ成分、のいずれかを形成する工程を有する。次いで、ハードマスクを除去して形成された開口部に残りの色フィルタ成分を形成する工程を有し、第２色目フィルタ成分と第３色目フィルタ成分のそれぞれの周囲が、第１色目フィルタ成分で囲まれたカラーフィルタを形成する。 （もっと読む）

【課題】ＩＰＳモードの液晶表示装置にて斜め方向の輝度浮きと色付きを低減する。
【解決手段】光入射側の偏光板１１を備えた基板１３ともう一方の偏光板１２を備えた基板１４間のそれぞれの吸収軸が略垂直で、液晶分子が基板に略平行となる液晶層１５と、照明装置５０を有する液晶表示装置であって、偏光板１１の吸収軸と液晶層１５の光学軸とが、略垂直の場合は、偏光板１１と液晶層１５の間に光学補償部材１７，１８が配置され、偏光板１２と液晶層１５の間は略等方性であり、略平行の場合は、偏光板１２と液晶層１５の間に光学補償部材１７，１８が配置され、偏光板１１と液晶層１５の間は略等方性であり、偏光板１１の吸収軸と光学補償部材１７，１８の遅相軸が略垂直であり、各画素はｎｘ≒ｎｙ≠ｎｚを満たし、少なくとも一色の画素の厚さ方向リタデーションが他色の画素と異なり赤画素の厚さ方向リタデーションが０ｎｍよりも大きくなる液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】位相差層が、その下地を凹凸面として形成されている場合にあっても、位相差層の表面に生じる凹凸を０．１μｍ以下に効果的に抑制されたカラーフィルタを形成するための製造方法を提供する。
【解決手段】基材（２）に対して直接又は間接に厚みを異にする着色層を設けるカラーフィルタ層（３）形成工程と、基材に対して直接又は間接に、重合性官能基を有する液晶化合物を含有する液晶組成物を塗布して液晶塗布膜を形成し、その液晶化合物を所定の方向に配向させ、ハーフトーンマスクを介して液晶塗布膜に対して活性放射線を照射することにより、液晶化合物を重合してなる構造を有する位相差層（９）を、備えており、カラーフィルタ層形成工程および位相差層形成工程は、各々の形成工程の後において、位相差層と着色層の積層された領域でのカラーフィルタの表面の凹凸差が０．１μｍ以下となるように行われる、ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 （もっと読む）

【課題】予定された線幅で形成された位相差層を備えるカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】基材２に対して直接又は間接に複数の着色層５，６，７を設けるカラーフィルタ層形成工程と、所定の位置に線状のパターンで位相差層９を形成する位相差層形成工程と、を備えており、位相差層形成工程は、重合性官能基を有する液晶化合物を含有する液晶組成物を塗布し、かつ液晶化合物を所定の方向に配向させる第１段階と、所定パターンの開口部を形成したハーフトーンマスクを介して、液晶塗布膜に対して活性放射線を照射して、液晶化合物を重合させる第２段階とからなり、第２段階のハーフトーンマスクには、線状の位相差層の形成位置に応じて定められる位置に開口部が形成されており、開口部における光の透過率の高い部分の線幅よりも、開口部における光の透過率の低い部分の線幅のほうを大きくして形成されている。 （もっと読む）

【課題】入力装置としても機能し得る表示パネルに用いられる有用な表示装置用基板を提供する。
【解決手段】表示装置用基板５０は、基材５２と、基材５２上に形成された遮光部５４と、を備える。遮光部は、画素領域Ａ１に貫通開口５４ａが形成されるように、パターンニングされている。表示装置用基板５０は、画素領域Ａ１の外側の領域Ａ２において遮光部に形成された複数の開口部５４ｂにそれぞれ形成された複数の光透過部６０を、さらに備える。開口部は貫通開口から離間して形成され、光透過部は、その周囲を遮光部によって取り囲まれている。 （もっと読む）

【課題】オーバーコート層を設けなくても、透明導電膜にスリットを形成し、液晶の配向を制御する方式の液晶表示装置での電気的特性に起因する液晶の配向乱れのない、カラーフィルタを提供する。上記カラーフィルタを用いた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】透明基板上に、ブラックマトリックス、着色層、透明導電膜、柱状スペーサー、突起が形成されたカラーフィルタにて、前記透明導電膜に、液晶の配向を制御する開口部が形成され、該開口部の中央に前記突起が形成されたこと。突起の高さが、柱状スペーサーの高さよりも０．３μｍ〜２．５μｍ低いこと。突起のパターン線幅が、６．０μｍ〜１０．０μｍの範囲であること。 （もっと読む）

【課題】視角を狭くした状態において斜め方向からの表示画像を格段に見えにくくすることができる液晶表示装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】互いに対向する素子基板８及びカラーフィルター基板９と、素子基板８とカラーフィルター基板９との間に設けられた液晶層１４と、素子基板８及びカラーフィルター基板９の表示領域を構成する複数の表示画素と複数の視角制御画素Ｐｂと、を有し、複数の視角制御画素Ｐｂのうちの少なくとも一部の視角制御画素Ｐｂにおける少なくとも一部の領域を遮光する遮光手段３７ａ，３７ｂ，３７ｃが設けられ、遮光手段３７ａ，３７ｂ，３７ｃによって遮光の度合いが異なる視角制御画素Ｐｂにより視角制御パターンが形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】色純度に優れる３色塗り分け方式の有機ＥＬ発光体を備えた有機ＥＬディスプレイの長寿命化を実現できる、透過率が高く色純度に優れた表示を可能にするカラーフィルタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基材１と、透明基材１上に所定のパターンで設けられた赤色着色層３Ｒ、緑色着色層３Ｇ及び青色着色層３Ｂとを有し、各着色層の開口部表面１２の断面視形状について、その断面視形状が左右対称な開口部表面１２Ａを有する着色層が、赤色着色層３Ｒ及び緑色着色層３Ｇの一方であり、その断面視形状が一定方向に傾斜する開口部表面１２Ｂを有するものであって該傾斜の高い部分が前記左右対称な着色層に隣接する着色層が、赤色着色層３Ｒ及び緑色着色層３Ｇの他方であり、その断面視形状が前記一定方向に傾斜する着色層の傾斜角度よりも小さい角度で傾斜している着色層が、青色着色層３Ｂであるように構成する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、顔料の分散安定性に優れ、かつ断面形状が良好で透明電極を断線しないことを両立するカラーフィルタ用着色組成物の提供。
【解決手段】
前記課題は、樹脂組成物（Ａ）、色素（Ｂ）、活性エネルギー線重合開始剤（Ｃ）、活性エネルギー線硬化性単量体（Ｄ）、及び溶剤（Ｅ）を含有してなる感光性着色組成物であって、樹脂組成物（Ａ）が、樹脂組成物（Ａ）の全重量を基準として、ビニル系樹脂（Ｆ）を５０重量％以上含んでなり、ビニル系樹脂（Ｆ）が、ビニル樹脂（Ｆ）の全構成単位の重量を基準として、カルボキシル基を有する構成単位（ａ）２〜５０重量％、環状構造を有する構成単位（ｂ）２〜５０重量％、及びその他の構成単位（ｃ）１０〜８０重量％から構成されるビニル系樹脂であることを特徴とする感光性着色組成物により解決される。 （もっと読む）

【課題】白状態における表示色が黄色味を帯びるのを抑制することが可能な液晶表示装置
を提供する。
【解決手段】液晶表示装置１００は、ＴＦＴ基板１と、ＴＦＴ基板１側に設けられる画素
電極１８と、ＴＦＴ基板１側に設けられ、絶縁膜１７を挟んで画素電極１８と対向する共
通電極１６と、ＴＦＴ基板１と対向するように配置され、カラーフィルター２２が設けら
れる対向基板２と、液晶層３０と、赤色、緑色および青色のカラーフィルター２２にそれ
ぞれ対応して設けられる複数のサブ画素５１、５２および５３と、平面的に見て隣接する
赤色のサブ画素５１と緑色のサブ画素５２との境界領域Ａに接するように配置されるスペ
ーサー２４と、平面的に見て、スペーサー２４およびスペーサー２４の周辺を遮光すると
ともに、赤色のサブ画素５１および緑色のサブ画素５２の一部を覆うスペーサー用遮光部
６０とを備える。 （もっと読む）

【課題】高輝度を実現することができるカラーフィルターおよびそれを備えた表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】カラーフィルター２２は、少なくとも１種の着色層２８からなる画素Ｅが２次元的に複数配列された表示領域Ｄを有する。そして、所定の表示を行う領域Ｓにおける画素Ｅが、１種の着色層２８により形成されている。 （もっと読む）

【課題】混色を抑制して色再現性に優れたカラーフィルタを低コストに製造する。
【解決手段】チップ基板１２ａ上にデバイス保護層３６を形成する。デバイス保護層３６に凹部３７を形成する。凹部３７を埋めるように、デバイス保護層３６上に多孔質シリカ７４層を形成する。多孔質シリカ７４層に緑・青・赤用開口部７６Ｒ，７６Ｇ，７６Ｂを順番に形成するとともに、各開口部が形成される度にその開口部を埋めるように、開口部に対応した色の緑・青・赤色層８３Ｇ，８３Ｂ，８３Ｒを多孔質シリカ７４層上に順番に積層する。凹部３７の周縁部である研磨ストッパー部３８が露出するまで、各色層８３Ｒ，８３Ｂ，８３Ｇ及び多孔質シリカ７４の各表面に研磨処理を施して、各色画素４０Ｒ、４０Ｇ，４０Ｂ、及び分離壁４１からなるカラーフィルタ２２を形成する。 （もっと読む）

【課題】設計の自由度および製造効率を向上させたカラーフィルタ基板の製造方法を提案する。
【解決手段】透明なパネル基板５の一方の面に、凹凸処理を施した熱融着性無色透明フィルム層１を配置し、凹凸面上に印刷でカラーフィルタ３２を形成してカラーフィルタ付きパネル基板４０を製造するカラーフィルタ付きパネル基板形成工程と、無色透明なフィルム材３の上にリブ状遮光材ＬＳを前記別色カラーフィルタ３２の位置に応じて配置したリブ状遮光材付きフィルム材３を製造するリブ状遮光材付きフィルム形成工程とを含み、前記カラーフィルタ付きパネル基板形成工程と前記リブ状遮光材付きフィルム形成工程とを別々に行った後、前記カラーフィルタ付きパネル基板のカラーフィルタ上に、前記リブ状遮光材が形成された面を下側にして前記リブ状遮光材付きフィルム材を重ね、熱と共に押し付けることで貼り合せる。 （もっと読む）