【課題】高精細かつ高速応答を可能とし、光変調度を向上させた磁気光学式空間光変調器を提供する。
【解決手段】２次元配列された画素４に光変調素子５０を備える空間光変調器１であって、光変調素子５０は、２つのスピン注入光変調素子５，６を、それぞれの磁化反転層５３，６３の側を対向させて非磁性金属からなる接続層５５を挟んで備え、それぞれの磁化固定層５１，６１はその磁化方向が互いに反平行に固定される。上部電極２および下部電極３から供給される電流の向きに応じてスピン注入光変調素子５，６はスピン注入磁化反転するが、それぞれの磁化反転層５３，６３は同じ磁化方向を示すため、光変調素子５０に入射した光は、２層の磁化反転層５３，６３を透過することによりファラデー効果による旋光角（θ_Ｌｒ１，θ_Ｄｒ１）の変化が増大する。 （もっと読む）

【課題】応答速度が速く、画素の微小化による精細な光変調を可能とする光変調素子、この光変調素子を用いて構成される光変調器、この光変調器を用いて構成される表示装置、ホログラフィ装置及びホログラム記録装置を提供する。
【解決手段】光変調素子１１は、固定磁化膜層２２と、非磁性中間膜層２３と、自由磁化膜層２４とがこの順序で積層されたスピン注入磁化反転素子構造を有し、固定磁化膜層２２と自由磁化膜層２４における磁気の方向が膜面に垂直な方向であり、自由磁化膜層２４における磁化状態を変化させることによって自由磁化膜層２４へ入射する光の偏光方向に対してその反射光または透過光の偏光方向を変化させる光変調素子１１であって、固定磁化膜層２２は、コバルト膜層と白金膜層とが交互に積層された構造を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スピン注入磁化反転素子構造を有し、大きな磁気光学効果を示す光変調素子、この光変調素子を用いて構成される光変調器を提供する。
【解決手段】光変調素子１１は、固定磁化膜層２２と、非磁性中間膜層２３と、自由磁化膜層２４とがこの順序で積層されたスピン注入磁化反転素子構造を有し、固定磁化膜層２２と自由磁化膜層２４における磁化の方向が膜面に垂直な方向であり、自由磁化膜層２４における磁化状態を変化させることによって自由磁化膜層２４へ入射する光の偏光軸に対してその透過光または反射光の偏光軸を回転させる。自由磁化膜層２４として、コバルト（Ｃｏ）膜層７５と白金（Ｐｔ）膜層７６とが交互に積層された構造とした。 （もっと読む）

【課題】従来の光パルス発生装置は大型かつ高製造コストであった。
【解決手段】BK-7プリズム１に入射された可視レーザ光Vは金層２に入射角θで入射する。金層２において可視レーザ光Vによって表面プラズモン共鳴光を励起し、光パルス発生器７から光パルスP₇を照射して有機色素層３を励起して時間的変化する反転分布状態にし、反転分布状態の時間的変化に応じて有機色素層３の消衰係数k₃を負とする。入射角θは、全反射領域において可視レーザ光Vの金層２の光入射面での反射率Rが最小となる光吸収（プラズモン）ディップ角である。パルス幅の大きい光パルスP₇からパルス幅の小さい光パルスP₁を金層２の反射波として得る。 （もっと読む）

【課題】画素の選択性を向上させた、磁気光学式空間光変調器を提供する。
【解決手段】２次元配列された複数の画素４のそれぞれに強磁性細線５を備える空間光変調器１であって、強磁性細線５は、その両端にそれぞれ接続された電極２，３から供給される電流により磁壁ＤＷが強磁性細線５内をその長さ方向に沿って移動し、強磁性細線５に形成された２箇所の括れ部５ｃ１，５ｃ２の一方で磁壁ＤＷが固定される。この磁壁ＤＷが電流の供給方向に応じて括れ部５ｃ１，５ｃ２間を移動することで、括れ部５ｃ１，５ｃ２間の領域５ａの磁化方向が反転し、この領域５ａを透過した偏光はファラデー効果により旋光の向きが反転する。 （もっと読む）

【課題】表示特性を低下させることなく調光層の強度を高めた光変調素子および該光変調素子の製造方法を提供することである。
【解決手段】少なくとも一方が透光性を有し、表面に設けられた電極が対向するように配置された一対の基板と、前記一対の基板間に設けられ、少なくとも液晶ドロップまたは液晶マイクロカプセル、高分子バインダー及び樹脂スペーサーを含む調光層と、を有する光変調素子である。 （もっと読む）

【課題】磁気光学層／圧電層／薄膜トランジスタ回路層の順に下から積み上げていく基本概念を踏襲した上で、温度プロセス・ルールを守り、圧電体の分極処理を、ＴＦＴに損傷を与えることなく容易に行うことができ、圧電体の特性劣化が生じず、しかもＴＦＴの特性改善も行えるようにする。
【解決手段】基板１０上に磁気光学層（ＹＩＧ１２）及び圧電層（ＰＺＴ１６）を形成した後、ＴＦＴのＭＯＳ構造まで作製した段階で、水蒸気アニールによる欠陥修復処理を行い、次いでゲート電極及びソース／ドレイン領域にコンタクトホール３０を形成し、該コンタクトホールを通してそれらを一括接続するベタ導電膜３６を設け、ベタ導電膜と圧電層の共通電極１４間に電界を印加して分極を行い、その後、前記ベタ導電膜を除去する。これによって、基板上に磁気光学層、圧電層、薄膜トランジスタ回路層を、その順序で積層形成する。 （もっと読む）

【課題】磁気光学層／圧電層／薄膜トランジスタ回路層の順の積層構造であって、圧電体に含まれている重金属イオンによる半導体の汚染を防いで半導体の特性劣化を防止し、電極材料である白金族元素の触媒作用による圧電体の特性劣化が生じないようにする。
【解決手段】基板１６上に、磁気光学層１０、圧電層１２、薄膜トランジスタ回路層１４が、その順序で積層形成されている構造において、圧電層は、圧電体の磁気光学層側に共通電極２４を、薄膜トランジスタ回路層側に各画素決定要素毎に分離された白金族元素からなる個別電極２６を対設した構造であり、個別電極を覆い個別電極同士の間隙を埋めるように薄膜トランジスタ回路層との間に、圧電材料に含まれている重金属イオンのバリアとなり、白金族元素の触媒作用で酸欠になった圧電材料に酸素を供給する絶縁性酸化物を個別電極側から見て圧電層と対峙するように全面ベタ成膜したキャップ膜３０を設ける。 （もっと読む）

光学装置（１）が提供される。光学装置（１）は、スイッチング層（２）と、少なくとも１つの配向層（６）と、光ガイドシステム（５）と、を備え、スイッチング層（２）は、その配向が可変な、光の吸収および光の放射のための発光材料（３）を含んでおり、光ガイドシステム（５）は放射光をガイドするものであり、スイッチング層（２）は少なくとも１つの配向層（６）と接触しており、発光材料（３）は異方性を有しており、光学装置（１）は、光ガイドシステム（５）と物理的に接触している光エネルギ変換手段（７）を備えている。
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【課題】画素の階調表示の可能な、磁気光学式の空間光変調器を提供する。
【解決手段】２次元配列された画素４に、隣り合う間隔ｄが１μｍ未満となるように配置された複数の光変調素子５と、一対の電極２，３とを備える多素子空間光変調器であって、画素４に供給された電流の大きさに応じて、すべての光変調素子５が磁化反転して明暗の表示を切り換えたり、一部の光変調素子５が磁化反転することにより明暗の中間表示を行う。 （もっと読む）

【課題】部品点数を少なくし、装置の長大化・大型化を抑制でき、短波長域を含む広い波長域で透過スペクトルが急峻で狭帯域な特性を発揮し得る多段構造のリオフィルタと同等の波長可変フィルタを実現する。
【解決手段】波長フィルタ３１は、一定の厚さを有する平板状の石英からなる光変調部３３とその一端に接続した水晶振動子３４とからなるＰＥＭ素子３２を備える。ＰＥＭ素子の上側主面の上方には、透明ガラス板４３に支持された第１〜第４偏光子３７〜４０と上側４１，４２が設けられ、下側主面の下方には、支持板４５に支持された下側反射ミラー４４が設けられる。光変調部への入射光は、第１〜第４偏光子と上側及び下側反射ミラーとの間で多重反射しながら光変調部を透過して出射する。光路に沿って隣接する２つの偏光子間の位相差は、２^ｎ−１×２π、（ｎ：１〜３）に設定する。 （もっと読む）

反射型ディスプレイ、電気泳動ディスプレイ、液晶ディスプレイ等のディスプレイを製造する方法を提供する。その一例は、アドレッシング可能な複数個の画素形成素子を有するディスプレイアセンブリに対し、パターン層をなす複数個の色フィルタ素子を整列させる方法である。本方法では、第１群に属する画素形成素子を、その群に属する個々の画素形成素子のアクティべーション状態が変化するようアクティベートする。少なくとも、第１群に属するアクティベート済の画素形成素子に従い、パターン層をなす複数個の色フィルタ素子のディスプレイアセンブリに対する目標整列状態を決定する。その目標整列状態に従い、パターン層をなす複数個の色フィルタ素子をディスプレイアセンブリに対し整列させる。
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【課題】被検出面の電位を高い分解能で計測する。
【解決手段】液晶表示部５６は、透明電極６２を備えた基板６０と基板６４とが対向して配置され、基板６０，６４間にはコレステリック液晶６６が封入されて構成されている。
透明電極６２には、電位分布を計測するときに透明電極６２を所定のバイアス電位にするためのバイアス電源６８が接続されている。
基板６４には分解電極７０が備えられている。基板６４及び分解電極７０は、（Ｂ）に示されるように、複数の細長電極素子を備えた誘電体素子が同図矢印Ｄで示される主走査方向に並べられたラダー形状に構成されている。細長電極素子を備えた誘電体素子の各々は、所望する電位分布の計測の分解能に応じた間隔で並べられ、各細長電極素子を備えた誘電体素子の間隔の細かさに応じた電位分布が計測されるようにする。 （もっと読む）

【課題】 １つの電源で、高額な部品を使用することなく、多数のＰＬＺＴに交番電界を印加することができるＰＬＺＴ用の駆動回路を提供する。
【解決手段】 １又は２以上のＰＬＺＴ１１_１〜１１_ｎと、各ＰＬＺＴの一方の電極を並列に接続した端子２２を共通接点とする第１の切替スイッチ３１と、ＰＬＺＴの各一の他方の電極に設けられた第２のスイッチ３２及び第３のスイッチ３３と、第２のスイッチの接点を並列に接続したライン２７と、前記第３のスイッチの接点を並列に接続したライン２８との間に設けられた直流電源３０と、を有し、前記第１の切替スイッチが前記共通接点の他に２つの切替接点２３、２４を有し、一方の接点が前記直流電源の一方の電極に接続され、他方の接点が前記直流電源の他方の電極に接続されている。 （もっと読む）

本発明の目的は、規則的な画素構造を有し、異なる種類の変調を実現する個別の制御可能光変調器を構成することであり、制御可能光変調器において周知の変調装置の欠点は回避されるべきである。空間光変調器は透過型及び反射型で実現可能である。光変調器は、画素構造を有する少なくとも１つのアドレス指定可能透過層と、逆反射素子を有する少なくとも１つの基板層と、画素の変調を制御する変調制御手段とを含む。変調制御手段（ＭＭ）はいずれの場合も少なくとも２つの隣接する画素（Ｐ）を有する複数のマクロ画素を生成し、選択された変調特性が画素に割り当てられる。いずれの場合にもアドレス指定可能透過層（ＳＴ）の１つのマクロ画素の１つの画素（Ｐ）に入射した光束を変調し且つ入射光束がマクロ画素の別の画素（Ｐ）を順次通過するように入射光束を誘導するために、いずれの場合にも１つの逆反射素子（ＲＥ）がアドレス指定可能透過層（ＳＴ）の１つのマクロ画素の２つの隣接する画素（Ｐ）を覆うように、逆反射素子（ＲＥ）は基板層（ＳＲ）に連続して設けられる。適用分野は、ホログラフィックディスプレイなどの異なる種類の変調を実現する光変調装置を含む。
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【課題】薄くて大きな屈折率を有し、カメラ用レンズ・シャッター等に有用な光学素子を提供する。
【解決手段】表面が少なくとも凹または凸形状を有する透明磁性体と、該透明磁性体を磁化する機構と、偏光子とが、この順に光路に沿って設けられてなる光学素子であり、特に、該透明磁性体は、化学式：Ｔｉ_２−Ｘ Ｍ_ＸＯ_４
（ただし、Ｍ＝Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕから選ばれる少なくとも１種の遷移金属、０＜ｘ＜２）で表されるチタニアナノシートを含有するものが好ましい。 （もっと読む）

【課題】製作工程を通して保磁力の変動を抑え、各々のセルについて反転磁界の最大値／最小値を２未満にして確実な磁化反転制御を可能にする。また、磁化反転に必要な磁界を低減し、配線からの発熱を抑える。
【解決手段】基板上に磁性ガーネット膜が設けられ、２次元アレイ状に配列された多数のセルに区画されており、各セルを独立に磁化反転させるＸ側配線及びＹ側配線が形成されている空間光変調器用の磁気光学デバイスである。ここで、磁性ガーネット膜は、Ｔｂ_x Ｒ_3-x-y Ｂｉ_y Ｆｅ_5-z Ｍ_z Ｏ₁₂（但し、ＲはＹ，Ｇｄ、ＭはＡｌ，Ｇａ，Ｉｎ）、０．７≦ｘ≦１．６、０．７≦ｙ≦１．５、０≦ｚ≦１．３で表される磁性ガーネット単結晶からなり、９８０℃〜１０４０℃で１〜５時間の条件でアニールされ、個々のセルの保磁力の最大値が１６ｋＡ／ｍ以下で、且つ最大値／最小値＜２になっている。 （もっと読む）

【課題】偏光面の回転が無い内部反射光を極力抑制することにより、基板付き磁性ガーネット膜からの出射光のコントラスト（オン時の光量／オフ時の光量）を改善し、磁気光学式空間光変調器の変調特性を向上させる。
【解決手段】非磁性ガーネット基板上に、ファラデー効果を有する磁性ガーネット膜が設けられている磁気光学素子である。ここで非磁性ガーネット基板と磁性ガーネット膜との間にガーネット中間膜が介在しており、該ガーネット中間膜の屈折率ｎ１は、ｎｓ＜ｎ１＜ｎ２（但しｎｓは非磁性ガーネット基板の屈折率、ｎ２は磁性ガーネット膜の屈折率）で、且つガーネット中間膜の屈折率ｎ１と膜厚ｄ１との積が、ｎ１・ｄ１＝λ／４±１０％（但し、λは使用波長）に収まっている。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、複数のレーザ光同士のコヒーレンスを低減させ、スペックルノイズを抑えた波長選択素子、波長選択素子の製造装置、光源装置及び画像表示装置を提供すること。
【解決手段】レーザ光を発光する複数の発光素子から射出されたレーザ光のうち所定の選択波長が選択される光選択領域が１つの基体に複数形成された波長選択素子であって、複数の光選択領域Ａ〜Ｄのそれぞれに、干渉縞が形成された干渉領域ａ〜ｄが設けられ、少なくとも一つの干渉領域ａ〜ｄの干渉縞の間隔が、残りの干渉領域ａ〜ｄの干渉縞の間隔と異なることを特徴とする。 （もっと読む）

光出力装置は、少なくとも光出力を含む光源出力を持つ少なくとも１つの光源と、切換可能部材であって、前記光出力が前記切換可能部材を通して供給され、前記切換可能部材が少なくとも２つの光学的状態の間で切換可能である切換可能部材とを有する。これらの少なくとも２つの光学的状態は、前記光出力の異なる一様度を供給する。前記切換可能部材の切り換えは、前記光源出力によって引き起こされる。
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