【課題】複数のヒータや複数の熱伝導性材料を用いることなく、簡便な構成の下で塗布膜
からなる薄膜の膜厚均一性を向上させた乾燥装置および液晶表示装置を提供することであ
る。
【解決手段】ホットプレート１１は、基板Ｓと対向する加熱面１３ａを有し、加熱面１３
ａが、その中央部Ｃを頂点とする断面円弧状の曲面を呈する。そして、外縁ピン１５Ｅお
よび中央ピン１５Ｃが、それぞれ基板Ｓを支持して基板Ｓに水平姿勢を維持させ、基板Ｓ
の中央と加熱面１３ａとの間の距離（中央離間距離ＬＣ）を、基板Ｓの外縁と加熱面１３
ａとの間の距離（外縁距離ＬＥ）よりも短くさせる。 （もっと読む）

【課題】占有面積の小さい小型な装置で、効率よく安定した膜質の薄膜を得ることが可能な液晶装置の製造装置、液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】真空チャンバ内で蒸着材料を加熱することで発生した蒸気を基板上に到達させることにより、前記基板上に薄膜を形成する液晶装置の製造装置において、前記蒸着材料の重心を通過する直線周りに環状に配設されるとともに、前記基板が前記蒸着材料に対して所定の角度をなして対向するように前記基板を支持する複数の基板支持手段と、該複数の基板支持手段を前記直線周りに所定の周期かつ所定の角度で間欠的に回動させる回動手段と、前記複数の基板支持手段のうちの少なくとも一つとの間で前記基板を授受し、ロードロック室を介して前記真空チャンバ内の圧力を変動させることなく前記基板を真空チャンバに搬入出する搬送手段と、を具備する構成とした。 （もっと読む）

【課題】低電圧、かつ短時間でＯＣＢモードの初期配向転移を行うことができる、液晶装置、及び電子機器を提供する。
【解決手段】対向して配置された第一基板１０と第二基板２０との間に挟持された液晶層５０と、液晶層５０の配向状態をスプレイ配向からベンド配向へと転移させて表示を行う液晶装置１００である。第一基板１０には、走査線３ａ及びデータ線６ａに囲まれた領域にそれぞれ設けられる画素電極１５と、走査線３ａ及びデータ線６ａよりも上層かつ画素電極１５よりも下層に設けられ、画素電極１５との間に電位差を生じる転移電極６０と、が設けられる。 （もっと読む）

【課題】基板に対する膜厚分布補正を容易に実現し、膜厚均一性及び液晶配向性に優れた配向膜を得ることのできる成膜装置、成膜方法、液晶装置、並びにプロジェクタを提供する。
【解決手段】基板１５とターゲット１１との間に、基板１５に対する粒子の入射領域を規制する遮蔽板１２０と、基板１５に対する粒子の入射量を規制するコリメータ１１０とを有し、コリメータ１１０はターゲット１１の中心と基板１５の中心とを結ぶ線分ＰｔＰｓに沿って延在し、被成膜面１５ａに対して略垂直であるとともに線分ＰｔＰｓに対して交差した姿勢で配置される規制板１１１を基板１５の搬送方向に複数並設させてなり、規制板１１１はターゲット１１から見て基板１５の被成膜面１５ａと重なるように設けられ、基板１５のターゲット１１に遠い側よりも近い側に入射する粒子の密度を低減させる。 （もっと読む）

【課題】加速試験する際の位置決めを良好に実行して、試験結果の信頼性を維持できる液晶装置の試験方法を提供する。
【解決手段】液晶装置の試験方法は、基板と液晶層との間に配置された配向膜を有する液晶装置に光学系を介してレーザ光を照射して、配向膜の一部の領域を改質する動作と、光学系の光軸方向に液晶装置を移動しつつ、配向膜の改質した領域の画像を光学系を介して取得し、画像情報に基づいて基準位置を規定する動作と、基準位置から光軸方向に液晶装置を所定の移動量だけ移動して、改質した領域とは別の配向膜の一部の領域に光学系を介してレーザ光を照射して、液晶層の透過率情報を取得する動作と、移動量と液晶層の透過率情報とに基づいて、レーザ光に対する光学系の焦点位置を特定する動作とを含む。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置製造用露光マスクにおいて、ディスクリネーションの発生を抑制するために、開口部電極の開口部の長手方向端部が円弧状形状となることを抑制できるようにすることである。
【解決手段】液晶表示装置製造用露光マスクとしての開口部電極形成マスク１１０は、従来技術の開口部電極形成マスク１００の透光パターン１０４と同じ透光パターン１１４を基本パターン部として、さらに、ディスクリネーションの発生する箇所に補正パターン部である部分補正用の透光パターン１１６，１１８を有する。すなわち、透光パターンとしては、基本パターン部として細長い溝状形状の透光パターン１１４と、補正パターン部として細長い溝状形状の長手方向の両端部のそれぞれの部分を拡張する透光パターン１１６，１１８とを有する。補正パターン部の寸法は、基本パターン部の最小寸法よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、電界印加徐冷法により強誘電性液晶を配向させて液晶表示素子を作製する場合に、製造コストを大幅に削減することが可能な多面付けＴＦＴ基板、および液晶表示素子の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、基板上に複数のＴＦＴ基板領域が配置され、強誘電性液晶を用いた液晶表示素子に用いられる多面付けＴＦＴ基板であって、ゲート線およびソース線が絶縁されていることを特徴とする多面付けＴＦＴ基板を提供することにより、上記目的を達成するものである。 （もっと読む）

【課題】ライン状の蒸着源から基板上に材料を成膜する成膜装置において、膜を構成する柱状構造体の延在方向を可変とすることで、膜の特性を任意に設定可能とする。
【解決手段】蒸着源からの材料を基板上に成膜する成膜装置であって、所定方向に基板１０Ａを搬送する基板搬送装置３０４と、上記基板１０Ａの搬送方向を含む平面と平行な基準面内において一方向に延在するライン状の蒸着源３０２と、上記蒸着源３０２を上記基準平面内において回転可能に支持する蒸着源回転装置３０３と、少なくとも上記基板搬送装置３０４及び上記蒸着源回転装３０３置を制御する制御装置３０８とを備える。 （もっと読む）

【課題】良好な明暗比状態を達成可能な温度補償機能を有する液晶デバイスを提供する。
【解決手段】一対の偏光素子と、該一対の偏光素子の間に配置された液晶素子と、該液晶素子に電圧を印加する電圧印加手段とを少なくとも含む液晶デバイス。該液晶材料は、高速応答が可能で、且つ印加電場の大きさ、および／又は方向に応じた光学軸方位の回転が可能な液晶素子であり、電圧印加手段は、前記液晶材料中の液晶分子配向に応じて、該電圧印加手段から液晶素子に印加すべき電圧を制御可能である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、積層フォトスペーサーのサイズ（線幅）をマスク開口幅に対し、一定の範囲内で制御することが可能で、該サイズ（線幅）のみを変更することができるカラーフィルタの製造方法及び装置を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス基板上に少なくとも樹脂ブラックマトリックス、着色画素、配向制御用突起及び積層フォトスペーサーを順次に形成する液晶表示装置用のカラーフィルタの製造方法において、前記減圧乾燥装置（１０）と前記露光装置（２０）との間にガラス基板待機用のカセット（３０）を設け、減圧乾燥から露光までの所要時間を１〜３０分の間に設定し、前記積層フォトスペーサーのサイズ（線幅）をマスク開口幅に対し、−５〜＋５μｍの範囲内で制御することを特徴とするカラーフィルタの製造方法及び装置である。 （もっと読む）

【課題】塗布膜シートの幅方向に対してラビングローラを所定の角度で交差させてラビング処理する場合でも、塗布膜シートに面状欠陥を生じることなく均一にラビング処理する。
【解決手段】
表面の幅方向両端側に未塗布部１４Ｂを残して塗布部１４Ａが形成された帯状シート１４を走行させながら、回転するラビングローラ２０に帯状シート１４の表面を巻き掛けてラビング処理を施すラビング方法において、ラビングローラ２０の表面と帯状シート１４の未塗布部１４Ｂとを非接触にする。 （もっと読む）

【課題】ターゲット交換を容易、且つ迅速に行えるスパッタ装置のターゲット固定構造を提供する。
【解決手段】固定部材３０にターゲット５が固定される。固定部材３０に対して着脱自在に設けられる保持部材３５を有し、ターゲット５が、固定部材３０と保持部材３５との間で挟持して保持される。 （もっと読む）

【課題】 液晶表示素子において、ラビングにより発生した静電気の放電による配向欠陥を防ぐ。
【解決手段】
ＤＵＴＹ比１／１６以上の低デューティ駆動の液晶表示素子を次の要領で作製する。所定形状の第１の電極を備えた第１の基板を準備する。所定形状とは異なる形状であって、第１の電極よりも信号線電極数の少ない第２の電極を備えた第２の基板を準備する。第１、第２の電極各々の上に必要に応じた絶縁性を有する絶縁膜を形成する。第１の基板と第２の基板上方に第１、第２の電極を覆うように第１、第２の垂直配向膜を形成する。第２の垂直配向膜にのみラビング処理を行う。第１の基板と第２の基板とを対向配置し、それらの間に誘電率異方性が負の液晶を配置する。 （もっと読む）

【課題】専有面積の削減に寄与できる液晶装置の製造装置を提供する。
【解決手段】対向する一対の基板間に挟持された液晶層を備える。少なくとも一方の基板の内面側に無機配向膜を形成してなる。成膜室２と、成膜室内にて基板Ｗに配向膜材料をスパッタ法で成膜して無機配向膜を形成するスパッタ装置３とを備える。スパッタ装置は、プラズマ生成領域を挟んで対向する一対のターゲット５ａ、５ｂと、プラズマ生成領域からスパッタ粒子を略鉛直方向に放出する開口部３ａとを有する。成膜室には、無機配向膜形成面を水平面に対して傾けて基板Ｗを支持し、且つ鉛直方向と交差する方向を走査方向として移動させる移動装置６、６ａが設けられる。 （もっと読む）

【課題】スプレイ−ベンド転移を効率良く誘起させることができる液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】この微小構造体３１は、ＴＦＴ基板３上に複数形成される。この微小構造体３１は、１回目のラビング処理のラビング方向Ｘに沿う辺ａと、２回目のラビング処理のラビング方向Ｙに沿う辺ｂとを含んでおり、ラビング方向Ｘとラビング方向Ｙとの間のなす角θ１を辺ａと辺ｂとの間のなす角（頂角）θ２とする。この微小構造体３１を用いて上記ラビング処理を行うことにより、電圧印加時に液晶分子のねじれ配列が互いに異なるねじれ構造を持つ２つの微小領域を形成することができる。この２つの微小領域が形成されることにより、スプレイ−ベンド転移を誘起することができる。 （もっと読む）

【課題】基板にマトリクス状に凹部を区画形成し、液滴を適切に選択した凹部に配置して
広げることにより、基板に容易に正確なパターンを形成する、パターン形成方法を提供す
る。
【解決手段】各第２の凹部２６ｃが形成された対向基板の対向電極２６に、液滴吐出装置
から吐出されて着弾した各液滴Ｆｂ１は、相互に結合して液層Ｚ１を形成する。液層Ｚ１
の中央の付近は、略山型に盛り上がっているので、液層Ｚ１が跨っている各第２の凹部２
６ｃの内部全体に広がる。このとき吐出された液量が多いので、依然、液層Ｚ１の中央の
付近は盛り上がっている。この状態において、液層Ｚ１は、液層Ｚ１の中央に近い側面部
分から、隣接する第２の凹部２６ｃに濡れ広がる。以降、液層Ｚ１は、隣接する第２の凹
部２６ｃに濡れ広がることを繰り返す。そして、対向電極２６の全面に均一に濡れ広がっ
た液層Ｚ１を乾燥させて配向膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】液滴を吐出して形成する多層膜の膜厚均一性を向上させた液晶表示装置の製造方
法及び液晶表示装置の製造システムを提供する。
【解決手段】第一液滴吐出装置が、複数の第一格子点の各々に向けて第一液滴Ｄ１を吐出
させ、Ｙ方向に隣接する第一格子点の間にスジ部Ａ１を有した対向電極Ｐ２を形成する。
そして、第二液滴吐出装置が、Ｙ方向に隣接する第一格子点の間に規定された複数の第二
格子点Ｋ２に向けて第二液滴Ｄ２を吐出させ、スジ部Ａ１上の領域の膜厚を相対的に薄く
した配向膜を前記透明電極に積層する。 （もっと読む）

【課題】３９０ｎｍ〜５００ｎｍの青色レーザー光を入射させる液晶素子において、水平配向膜として機能し、液晶分子の適切なプレチルト角が得られ、かつ光学的に安定した特性を有する斜方蒸着膜および液晶材料を備えた液晶素子を提供する。
【解決手段】液晶層を挟持する複数の透明基板を備え、おのおのの透明基板面の液晶層に接する側には、無機物材料が１層で斜方蒸着された水平配向膜が備わっており、液晶材料にはヒンダードアミン系化合物が添加されていることを特徴とする液晶素子。 （もっと読む）

【課題】蒸着膜の液晶配向性を制御し、液晶配向欠陥の低減化を図り、配向性を向上させ、光路偏向素子、液晶光変調素子、空間光変調素子として利用した場合の、各種画像表示装置におけるコントラスト比を向上させる。
【解決手段】無機材料を主成分とし、斜方蒸着法により作製された蒸着膜であって、柱状構造体３を具備しており、柱状構造体２は多孔性を有しているものとし、この蒸着膜を光路偏向素子として利用した液晶光変調素子、投射型画像表示装置、空間光変調素子、投射型画像表示装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】大掛かりな装置や高価な特別な装置を必要とせずに、容易にラビング状態を観察することができる。
【解決手段】ラビング処理された配向膜を備えた基板のラビング状態を観察するラビング状態観察方法であって、液晶材料とゲル化剤とを混合してゲル化温度以上に加熱して混合液を生成するステップＳ１と、混合液を基板に滴下するステップＳ２と、混合液が滴下された基板に、もう１枚の基板を重ね合わせるステップＳ３と、重ね合わせたそれらの基板を室温まで冷却するステップＳ４と、室温になった前記基板を顕微鏡で観察することにより、ラビング状態を検査するステップＳ５とを備えている。なお、混合液の加熱は、基板への滴下前に行わなくともよく、基板どうしを重ね合わせた後に行ってもよい。 （もっと読む）