【課題】 電極面に配向制御構造物として突起部を設けた場合に、その突起部に起因する漏れ光の発生を抑制することができる液晶装置の製造方法、液晶装置および電子機器を提供する。
【解決手段】 対向する一対の基板間に、負の誘電率異方性を有する液晶層３０を挟持してなる液晶装置１の製造方法であって、前記一対の基板の対向する面側に下側電極１１及び上側電極２１を形成すると共に、その下側電極１１又は上側電極２１に誘電体突起１２，２２を形成する工程と、下側電極１１、上側電極２１及び誘電体突起１２，２２の表面に金属膜を形成する工程と、前記金属膜について多孔質処理して配向膜(陽極酸化膜)を形成する工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ＭＶＡ型液晶表示パネルにおける液晶分子の異常配向を抑制する。
【解決手段】 この液晶表示装置は、上基板と、上基板に平行な下基板と、上基板と下基板との間に位置する液晶層と、上基板と液晶層との間に位置し、鋸歯形状を有する上鋸歯状パターン部が少なくとも一箇所に形成されている共通電極と、液晶層と下基板との間に位置し、鋸歯形状を有する下鋸歯状パターン部が少なくとも一箇所に形成されている画素電極を備えている。上鋸歯状パターン部は、共通電極に形成されている主スリットと、その主スリットの両側から伸びている複数の副スリットによって構成されている。下鋸歯状パターン部は、画素電極に形成されている主スリットと、その主スリットの両側から伸びている複数の副スリットによって構成されている。 （もっと読む）

【課題】 配向膜の下地に段差部が形成されることによる技術課題を解決し、しかも斜方蒸着で無機配向膜を形成する際の、材料の使用効率をも改善した、液晶装置の製造装置、液晶装置の製造方法、液晶装置、電子機器を提供する。
【解決手段】 対向する一対の基板間に液晶を挟持してなり、一対の基板のうちの少なくとも一方の基板の内面側に配向膜を形成してなる液晶装置の製造装置である。成膜室２と、成膜室２内にて基板Ｗに無機材料を物理的蒸着法で蒸着するための蒸着手段３とを備え、成膜室２内の、蒸着手段３における蒸着源３ａの略上方に、配向膜の下地となる下地膜の形成エリア１３を有し、成膜室２内の、蒸着手段３における蒸着源３ａの斜め上方に、配向膜の形成エリア１４を有している。配向膜の形成エリア１４には、無機材料を選択的に蒸着させるためのスリット状の開口部１６を有した遮蔽板１５が設けられている。 （もっと読む）

【課題】液晶分子等の配向性に優れる電子デバイス用基板、信頼性の高い液晶パネルおよび電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶パネル１は、ＴＦＴ基板１７と、ＴＦＴ基板１７に対向する液晶パネル用対向基板１２と、ＴＦＴ基板１７に設けられた配向膜３と、液晶パネル用対向基板１２に設けられた配向膜４と、配向膜３と配向膜４との間に介挿された液晶層２とを有する。配向膜３および配向膜４は、いずれも、斜方蒸着法により形成され、複数の細孔を有する無機酸化物膜を含んでなり、ＢＥＴ法で測定される基板１７、１２の配向膜３、４を形成する面の表面積をＳ_１［ｎｍ^２］とし、ＢＥＴ法で測定される無機酸化物膜の表面積をＳ_２［ｎｍ^２］とし、無機酸化物膜の平均厚さをｔ［ｎｍ］としたとき、０．５５ｌｏｇ_ｅｔ≦Ｓ_２／Ｓ_１≦０．５５ｌｏｇ_ｅｔ＋４．４なる関係を満足する。 （もっと読む）

【課題】連続波もしくは疑似連続波ガスレーザーを用いて照射可能な赤外光を照射することにより分子の配向方向を容易に制御できる装置を提供する。
【解決手段】赤外域の連続波もしくは疑似連続波ガスレーザーを光源とする赤外光照射装置、該照射赤外光をパルス赤外光に変換する光制御装置及び分子配向性材料の配置部を備え、該分子配向性材料の化学結合の振動励起エネルギーに相当する波長を有するパルス赤外光を照射することで該材料の分子配向を制御することを特徴とする、分子配向制御装置。 （もっと読む）

【課題】光反射電極を備えた液晶表示素子において、配向膜の信頼性を向上させること。
【解決手段】本発明は、透明電極１１を有する第１の基体１０と、光反射電極２１を有する第２の基体と、透明電極１１および光反射電極２１が互いに対向するよう第１の基体１０と第２の基体２０とを所定のギャップで重ね合わせた状態でそのギャップに封入される液晶Ｌとを有する液晶表示素子１であり、光反射電極２１には、光反射電極２１の表面の自然酸化膜が除去された状態で配向膜２２が形成されているものである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、電子機器の表示部に用いられる液晶表示装置に関し、良好な表示特性の得られる液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】液晶表示装置は薄膜トランジスタ２０のソース電極２２に電気的に接続された制御容量電極２６と、制御容量電極に電気的に接続された蓄積容量電極１９と、制御容量電極２６に電気的に接続された直結部１６と、制御容量電極２６に絶縁膜３１を介して対向配置され、直結部１６と分離して形成された容量結合部１７とを備えた画素電極と、直結部１６と容量結合部１７との間隙に形成され、蓄積容量電極１９に保護膜３１を介して対向配置され、容量結合部１７上の液晶の配向不良を改善するダミーの容量結合部１５とを有している。 （もっと読む）

【課題】 無偏光を使用して、液晶のチルト角が殆ど発生しない液晶配向膜の製造方法、チルト角を減じる方法を提供する。
【解決手段】 基板上に光配向性層を形成した後、斜め方向から光を照射する液晶配向膜の製造方法であって、前記光が、光ａ及び光ｂの２つの異なる向きを有する無偏光で平行光であり、１）光ａ及び光ｂは前記光配向性層に交わる部分を有し、２）光ａ及び光ｂのなす角は実質的に０°又は１８０°であり、３）光ａ及び光ｂと光配向性層表面のなす角は実質的に同一であり、４）光ａ及び光ｂの光配向性層表面における光強度をＩａ及びＩｂとした場合光強度ＩａとＩｂが実質的に同一である、光ａと光ｂを同時に前記光配向性層に対して照射し、光ａ及び光ｂが交わる部分で光配向を行う製造方法、チルト角を減じる方法、該製造方法により得た液晶配向膜を使用する液晶表示素子、及び光学異方体。 （もっと読む）

【課題】光漏れの無い液晶配向制御用突起、並びに、これを作製するための組成物、樹脂転写材料、およびこれらを用いた液晶表示装置用突起の製造方法、液晶表示装置用基板、液晶表示素子を提供する。更に、前記液晶配向制御用突起を用い、表示ムラのない高視野角且つ高コントラストの液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶分子の配向制御に用いられる液晶配向制御用突起であって、色度の無彩色点（ｘ＝０．３３３，ｙ＝０．３３３）からのズレがΔＥで３０以内であり、且つ、金属類微粒子と、着色剤とを含有することを特徴とする液晶配向制御用突起。 （もっと読む）

【課題】 液晶表示装置に関し、輝度や応答速度をさらに改善することのできる垂直配向式液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 電極及び垂直配向膜を有する一対の基板と、該一対の基板の間に挿入された負の誘電異方性を有する液晶と、液晶の配向を制御するために該一対の基板の各々に設けられた配向規制構造体とを備え、該各配向規制構造体３０が複数の主要部と、複数の主要部のうちの２つの間に配置され、主要部よりも狭い幅を有する幅狭部とを含む。 （もっと読む）

【課題】耐光性に優れ、かつ、配向特性（液晶材料の配向状態を規制する機能）に優れた液晶パネルを提供すること、このような液晶パネルを備える電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の液晶パネルは、液晶層２と、無機材料で構成された無機配向膜３Ａ，３Ａ’とを有する液晶パネルであって、前記無機配向膜の前記液晶層と対向する面とは反対側の面に、比誘電率が６以上である材料で構成された親和性向上膜４Ａ，４Ａ’が設けられたことを特徴とする。前記親和性向上膜を構成する材料は、無機材料である。前記親和性向上膜の平均厚さは、０．０５〜０．５μｍである。前記無機配向膜は、その表面に、規則的な凹凸を備えている。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の配向膜形成方法において、基板への物理的接触無しに、電場または磁場を用いて配向膜の配向方向を決定することによって、ラビング配向法で生じる光の漏れを防止する。
【解決手段】基板を準備する工程と、液晶の初期配向のために、下記化学式（１）：
【化１】


（式中、ｎは正の整数）
で表される化合物を含有する配向膜を前記基板上に塗布する工程と、前記配向膜の配向方向を決定するために、前記配向膜が塗布された基板に電場または磁場を印加する工程とを備えてなる液晶表示装置の配向膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、電子機器の表示部等に用いられる液晶表示装置及びその製造方法に関し、良好な表示品質の得られる液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】重合性成分を含有し、室温（２５℃）で１×１０^１３Ω・ｃｍ以上の比抵抗を有する液晶をＴＦＴ基板２上に滴下し、ＴＦＴ基板２と対向基板４とを真空中で貼り合わせてから大気圧に戻すことにより液晶をＴＦＴ基板２及び対向基板４の間に充填して液晶層６を形成し、液晶層６に所定の電圧を印加しながら重合性成分を重合させてポリマー層５２、５３を形成する。 （もっと読む）

【課題】 感度、透過率、絶縁性、耐化学性、平坦性、コーティング性などの性能に優れているだけでなく、特に無機質材料との接着性が顕著に向上して、ＬＣＤ製造工程の層間絶縁膜を形成するのに適合する感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 本発明による感光性樹脂組成物は、ａ）ｉ）不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物、またはこれらの混合物、ｉｉ）エポキシ基含有不飽和化合物、ｉｉｉ）オレフィン系不飽和化合物、およびｉｖ）シラン系単量体を共重合させて得られたアクリル系共重合体；ｂ）１，２−キノンジアジド化合物；およびｃ）溶媒を含む。 （もっと読む）

【課題】 配向膜の劣化を防止し、信頼性の高い液晶装置を提供する。
【解決手段】 配向膜１６の表面に液晶膜５１を形成し、この液晶膜５１によって配向膜１６を覆った状態で基板１０Ａを加熱乾燥する。そして、このように乾燥した基板１０Ａを用いて液晶装置を組み立てる。この方法によれば、単に配向膜のみを加熱乾燥するよりも、より低い温度で短時間に多くの水分を除去することができる。また、乾燥後液晶装置を組み立てるまでの間は配向膜１６は液晶膜５１に覆われているので、この液晶膜５１がガスバリア層として機能し、この間の水分吸着を防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】膜厚均一な樹脂膜を広い領域に形成する。
【解決手段】本発明の印刷装置１は蒸気発生装置２０を有しており、印刷ヘッド５５で塗布液が基板１１上の印刷領域に塗布されると、塗布された部分は蒸気発生室２６内に送られる。蒸気発生装置２０は蒸気放出面２２に形成された小孔から加湿液の蒸気を放出し、その蒸気が蒸気発生室２６内に充満して加湿雰囲気が形成されるので、印刷された塗布液はその加湿雰囲気に置かれると、加湿液の蒸気で膨潤する。従って、印刷領域の残りの部分が印刷されている間に、先印刷された部分が乾燥しないので、印刷後の塗布液は全体が膨潤した状態が維持され、乾燥工程で乾燥むらが起こらず、膜質の良い樹脂膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、テレビ受像機や電子機器の表示部に用いられる液晶表示装置及びその製造方法に関し、液晶に混入された重合性成分（材料）を重合する際に、当該液晶に所望の電圧を印加でき、初期に形成される液晶分子のプレチルト角を制御して良好な表示特性の得られる液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】液晶表示装置１は、ＴＦＴ基板２に形成された、ゲートバスライン７ａ〜７ｄと、ゲートバスライン７ａ〜７ｄに絶縁膜を介して交差するドレインバスライン９ａ〜９ｄとを有している。ドレインバスライン９ａ〜９ｄ間には、重合用ＴＦＴ２９ａ、２９ｂ、２９ｃがそれぞれ形成されている。液晶４５に混入された重合性成分を重合する際に、重合用ＴＦＴ２９ａ、２９ｂ、２９ｃをオン状態にすることにより、ドレインバスライン９ａ〜９ｄ同士を導通することができる。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置において、側面の視認性を向上させ、コントラストの低下を防止する。
【解決手段】絶縁基板上に、ゲート線１２１、ゲート線と絶縁されて交差しているデータ線１７１、ゲート線及びデータ線が交差して画定する各画素領域に形成されている画素電極１９０、並びに、ゲート線、データ線、及び画素電極にゲート電極１２４、ソース電極１７３、ドレイン電極１７５が接続されている薄膜トランジスタが形成されている。画素電極は、第１サブ画素電極１９０ａ及び第２サブ画素電極１９０ｂを含み、第１サブ画素電極は薄膜トランジスタと直接接続されており、第２サブ画素電極は第１サブ画素電極と接続されている結合電極１７６と重畳して容量性結合されている。結合電極は、偏光板の偏光方向に対して垂直または平行にのびていて、偏光板の偏光方向に対して垂直または平行な境界を有する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、周囲の画素に影響を当与えることなく、簡易な工程で輝点を黒点化することができ、この黒点が時間経ても輝点に戻ることなく、維持されるような輝点欠陥の補修方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、一対の基板（２０ａ、２０ｂ）と、当該一対の基板の間に介在する液晶層（１０）と、基板と液晶層の間に設けられて液晶層の液晶の配向を規制する配向膜（１２ａ、１２ｂ）とからなる液晶パネルを備える液晶表示装置の輝点欠陥画素（Ｂ）を補修する方法であって、配向膜の輝点欠陥画素に対応する範囲にレーザ光を照射して配向膜の配向規制力を局所的に低下または消失させる工程を含み、液晶を表示させる時に、前記配向規制力を低下または消失させた範囲を透過する光の強度を低下させることによって輝点欠陥画素を補修することを特徴とする液晶表示装置の欠陥補修方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】
表面が平坦化された塗布膜を得るための電気光学装置用基板製造方法、電気光学装置用基板製造装置、及び電気光学装置製造方法を提供すること。
【解決手段】
電気光学装置用基板の製造方法であって、前記電気光学装置用基板上に粘度が２ｍPa・s以上３０ｍPa・s以下の塗布材料を塗布して塗布膜を成膜する工程（Ｓ２）と、前記塗布工程後、前記塗布膜に対し振動波長が０．１μｍ以上０．５μｍ以下となる振動を与える工程（Ｓ３）と、前記振動工程後、又は前記振動工程と同時に前記塗布膜を乾燥する工程（Ｓ４）とを具備する。 （もっと読む）