【課題】
より効率的に平坦な塗布膜を基板上に形成可能な電気光学装置用基板の製造方法及び該電気光学装置用基板を備えた電気光学装置の製造装置を提供する。
【解決手段】
反射膜９が形成された基板７上に、反射膜９に積層するようにカラーレジスト１０ｒを塗布し（Ｓ２）、反射膜９に積層するカラーレジスト１０ｒに選択的に光エネルギーを供給することとしたので（Ｓ３）、反射膜９に積層したカラーレジスト１０ｒの凸状部分を軟化させることができ、減圧乾燥処理前にカラーレジスト１０ｒの表面１０ａを平坦化し、表面１０ａが平坦化された着色層１０Ｒ等を基板７上に形成することが可能である。従って、着色層１０Ｒ等を透過する光の色むらを防止して表示性能を向上させることができる。また、例えばカラーレジスト１０ｒの凸状部分にのみエネルギーを供給するので、エネルギー効率に優れた液晶パネル１７の製造装置１とすることが可能である。 （もっと読む）

【課題】基板上に配線を備えると共に該基板上における平坦化処理が施された基板装置において、比較的簡単な構成により基板上の積層構造中における段差による配線不良を低減して、装置信頼性を高める。
【解決手段】基板上に溝（８０）が設けられており、この溝内に配線（６０）が部分的に埋め込まれることにより、基板上における平坦化処理が施されている。配線は、溝により生じる段差（８０ａ）を横切る部分を有し、この段差を横切る部分は、配線の他の部分と比べて幅広に形成されている。 （もっと読む）

【課題】 柱状スペーサに起因する配向不良領域による表示への影響を遮光範囲とは無関係に低減することにより、表示品位の低下を防止することのできる電気光学装置及びこれを備えた電子機器を提供する。
【解決手段】 本発明の電気光学装置は、一対の基板と、前記一対の基板間に配置された電気光学物質と、前記一対の基板のうち一方の前記基板に固定されたスペーサ１８と、前記一方の基板の内面に形成された配向膜と、前記一方の基板若しくは他方の前記基板に形成され、前記スペーサに対して前記配向膜のラビング方向下流側に隣接配置されたコンタクトホール１５ａと、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高解像度で、十分な厚膜化が可能であり、かつ透明性、耐熱性、密着性、耐溶剤性等の諸物性にも優れた層間絶縁膜を形成しうる層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物、当該樹脂組成物から形成された層間絶縁膜等を提供する。
【解決手段】層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）（ａ）酸性官能基を有する重合性不飽和化合物１０〜５０重量％、（ｂ）脂環式炭化水素基を有し、酸性官能基をもたない重合性不飽和化合物２０〜６０重量％および（ｃ）他の重合性不飽和化合物５〜４０重量％を重合して得られるアルカリ可溶性共重合体、（Ｂ）重合性不飽和化合物、（Ｃ）光重合開始剤、並びに（Ｄ）カップリング剤を含有することを特徴とする。
層間絶縁膜は、当該層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物から形成される。 （もっと読む）

【課題】 シール材と基板との接着強度を増加させた信頼性の高い液晶表示パネルを提供すること。
【解決手段】 複数の直交する信号線と走査線で囲まれた領域にそれぞれ形成され、薄膜トランジスタにより駆動される画素電極を表面に備える第１基板１１と、前記第１基板の額縁部分の少なくとも１辺に設けられた信号入力端子と、前記信号線及び走査線にそれぞれ接続され、前記額縁部分を経て前記信号入力端子に接続された複数の配線１５_Ｓ，１５_Ｇ、１５_Ｃと、少なくとも前記配線の表面を被覆する無機絶縁膜３２及びレジスト膜３３と、共通電極１８が形成された第２基板１９と、前記第１基板及び第２基板が対向配置されて両基板間の周囲をシールするシール材２１と、前記第１基板及び第２基板間に封入された液晶２８と、を有する液晶表示パネル１０Ａにおいて、前記レジスト膜の一部４０を除去してシール材の一部が前記無機絶縁膜と直接接触するようにする。 （もっと読む）

【課題】基板表面を完全に平坦化し、配向膜表面の段差や凹凸を無くし、配向膜の配向特性を改善して、表示品質の向上を実現する。
【解決手段】互いに対向する一対の基板１０，２０間に液晶５０が配置され、素子基板１０に複数の画素電極９ａが配設されているものにおいて、素子基板１０は画素電極９ａと、画素電極９ａの直下の層に設けた第３層間絶縁膜４３と、この第３層間絶縁膜４３の下層にマトリクス状に設けた配線３ａと、この配線３ａの直下の層に設けた第２層間絶縁膜４２とを具備し、第３層間絶縁膜４３の画素電極９ａに対応する部位に電極用溝４３ａが形成され、この電極用溝４３ａに画素電極９ａが埋設され、画素電極９ａ及び第３層間絶縁膜４３の表面が同一平面になるように平坦化され、配線３ａの下層に、この配線３ａに対応した配線用溝４２ａが形成され、この配線用溝４２ａに配線６ａが埋設され、配線６ａ及び第２層間絶縁膜４２の表面が同一平面になるように平坦化される。 （もっと読む）

【課題】
表面が平坦化された塗布膜を得るための電気光学装置用基板製造方法、電気光学装置用基板製造装置、及び電気光学装置製造方法を提供すること。
【解決手段】
電気光学装置用基板の製造方法であって、前記電気光学装置用基板上に粘度が２ｍPa・s以上３０ｍPa・s以下の塗布材料を塗布して塗布膜を成膜する工程（Ｓ２）と、前記塗布工程後、前記塗布膜に対し振動波長が０．１μｍ以上０．５μｍ以下となる振動を与える工程（Ｓ３）と、前記振動工程後、又は前記振動工程と同時に前記塗布膜を乾燥する工程（Ｓ４）とを具備する。 （もっと読む）

【課題】反射型液晶表示装置の構造に係り、コントラストと輝度を向上させる。
【解決手段】半導体基板１１上に画素ごとに形成された複数のスイッチング素子１４と、複数のスイッチング素子の上方に積層された多層膜のうちで最上層に、各スイッチング素子と接続されながら矩形状の周囲を電極間隙により画素ごとに切り離され、且つ、入射光ＬＩＷの一部を透過させると共に残りの入射光を反射させるために金属膜材を用いて薄膜に形成された複数の画素電極３０Ｗと、多層膜中で複数の画素電極の下方に層間絶縁膜２９Ｗを介して形成され、且つ、複数の画素電極を透過した一部の入射光を下層側に対して遮光しながら複数の画素電極側に反射させる金属遮光膜２８と、透明基板４５に形成された透明な対向電極４４と、複数の画素電極と透明な対向電極とを対向させ、両電極間で互いに対向する配向膜４１，４３を挟んで封入された液晶とからなる。 （もっと読む）

【課題】 電気光学装置において、高品質な表示を可能とする。
【解決手段】
基板上に、配線及び電子素子の少なくとも一部を形成し、その上に、これを熱による変質から保護するための保護絶縁膜を成膜する。その後、配線及び電子素子の少なくとも一部を、熱処理用に設定された第１の温度で、保護絶縁膜を介して熱処理を施す。その後、保護絶縁膜上に、層間絶縁膜として燐（Ｐ）及び硼素（Ｂ）の少なくとも一方を含んだシリコン酸化膜を成膜する。その後、シリコン酸化膜を第１の温度より低い第２の温度で加熱し流動化させることにより、シリコン酸化膜の上面を平坦化させる。 （もっと読む）

【課題】微細塵や静電気の発生および基板表面の平坦性の劣化を招来するポリイミド膜等の配向膜、ならびに光重合反応処理や高印加電圧が必要とされる液晶・樹脂複合体を使用することなく液晶を配向することができ、基板間の広い領域にわたって液晶配向の乱れを防止しうる、簡易な構成の液晶光変調器およびそれを用いた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】対向配置された１対の透明基板２と、それぞれの透明基板２の内側に積層された透明電極膜１１および樹脂薄膜１２と、樹脂薄膜１２の間に、等しい間隔をおいて互いに平行となるように、一方の樹脂薄膜１２上に固定配置された複数本の微細な樹脂繊維３と、これら各樹脂繊維３の間に各々充填されたネマティック型の液晶１とを備えている。樹脂薄膜１２の形成材料は、極性基の割合が０もしくは少ないものであって、液晶１との分子間相互作用が小さいものとすることが好ましく、例えばポリスチレン樹脂を用いる。 （もっと読む）

【課題】 IPS液晶表示器の反応速度を増加させ、パネルの透過率を向上し、広視野角効果を実現して、縁部の液晶分子の配向状態が不連続との問題を改善する。
【解決手段】 本発明に係る液晶表示器は、上下基板と、その間にある液晶層と、を有する。基板表面には、複数のTFTと、映像信号線と、走査信号線と、共通線と、画素電極と、対向電極とを含み、このうち画素電極と対向電極が介在配列を構成し、且つその終点と始点が映像信号線と走査信号線が定義する画素領域の同一側辺に位置する。もう一つの基板表面には、電圧が対向電極とおなじである透明補助電極を有する。上記の構造により、本発明の液晶表示器は一部が基板平面と平行な電界成分だけでなく、画素電極上にさらに基板平面と垂直電界成分を有し、基板の透過率を改善することができる。 （もっと読む）

【課題】 より確実にかつより簡易に所定の薄膜形成領域における薄膜の膜厚を均一化する。
【解決手段】 液体材料を液滴として吐出して基板２０上に薄膜を形成する薄膜形成方法であって、薄膜形成領域Ａより広い液体材料配置領域Ｂに上記液体材料を吐出し、上記液体材料を乾燥させることによって、上記薄膜の端部における隆起部分Ｈ１を上記薄膜形成領域Ａ外に配置する。 （もっと読む）