【課題】 高透明性、平坦性という保護膜の機能を有し、さらに、液晶配向性という配硬膜の機能も有する保護膜用組成物が求められていた。また、液晶表示素子の製造コストの低減化が求められていた。
【解決手段】 少なくとも多価ヒドロキシ化合物（ａ１）とジアミン（ａ２）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）とを用いて得られたポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）およびそのイミド化物であるポリエステル−ポリイミド（Ａ２）からなる群から選ばれる１以上、ならびに、ポリアミド酸（Ｂ）を含む保護膜用組成物。
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【課題】開口率を向上させると共に補助容量を大きくした液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１の基板１０Ａに有するアクティブ素子の上層に形成されたゲート絶縁膜１２Ｂ、ゲート電極２、層間絶縁膜１２Ｃ、映像線Ｄとソース電極４とをこの順で積層する。層間絶縁膜１２Ｃは高誘電体微粒子またはゾルゲルを少なくとも含む比誘電率４．０以上の塗布型透明絶縁膜で形成される。ゲート絶縁膜１２Ｂに第１のスルーホールＳＨ３を有し、第１のスルーホールＳＨ３内の層間絶縁膜１２Ｃに第２のスルーホールＳＨ４を形成し、ソース電極４を第２のスルーホールＳＨ４を介してアクティブ素子に電気的に接続し、ゲート電極２と映像線Ｄとソース電極４および層間絶縁膜１２Ｃで保持容量を構成する。 （もっと読む）

【課題】液晶ディスプレイ用基板の製作方法の提供。
【解決手段】本発明は一種の液晶ディスプレイ用基板の製作方法に関するものであり、主には、従来のパネル設計における抵抗値のマッチングがしにくいという問題を改善するために、低インピーダンスの導線構造を形成するものである。本発明で製作する薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ用基板は、パネル内の導線抵抗値を有効に減少することができ、薄膜トランジスタの駆動信号の通信速度を向上させることができる。故に、本発明は製品の歩留まりを向上させて製造コストを下げるだけでなく、薄膜トランジスタ液晶ディスプレイの大型化、高画質化のニーズを満足させることもできる。 （もっと読む）

【課題】シール材近傍のギャップムラの発生を抑制し、製造歩留まりを向上することが可能な液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 シール材１１によって貼り合わされたアレイ基板１００と対向基板２００との間に液晶層３００を保持し、複数の画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）によって構成されたアクティブエリア１２を備え、アレイ基板１００は、アクティブエリア１２の周辺に額縁状に配置された遮光層１５と、遮光層１５の外周に配置され遮光層１５と同等の膜厚の平坦化層１６と、を備え、シール材１１は、遮光層１５及び平坦化層１６の上に配置されたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高感度で且つ未露光部の膜減りが事実上なく、膜形成後に高温焼成又レジスト剥離液処理によっても高い透過率が維持され、膜厚減少もないポジ型感光性樹脂組成物、及び該樹脂組成物が得られる製造方法、並びに、各種ディスプレイの膜材料に好適な硬化膜を提供すること。
【解決手段】（Ａ）成分：熱架橋反応並びに熱硬化反応のための官能基を有し且つ数平均分子量が２，０００乃至３０，０００であるアルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）成分：１分子中二個以上のビニルエーテル基を有する化合物、
（Ｃ）成分：１分子中二個以上のブロックイソシアネート基を有する化合物、
（Ｄ）成分：光酸発生剤、
（Ｅ）溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物。また、上記成分を混合し室温より高められた温度下に所要の期間保つことによる該ポジ型感光性樹脂組成物の製造方法。並びに、斯様なポジ型感光性樹脂組成物を用いて得られる硬化膜。 （もっと読む）

【課題】
残像や焼き付きが視認されることのない、横方向電界が印加されるアクティブマトリクス型の液晶表示装置及びその製造方法を提供すること
【解決手段】
本発明にかかる液晶表示装置は、画素電極と対向電極を有する電極基板１と、電極基板１と対向配置された対向基板３と、表示領域２を囲むよう枠状に形成され、電極基板１と対向基板３とを接着するシール材４と、電極基板１と対向基板３とシール材４とで形成される空間に設けられた液晶９と、を備えた液晶表示装置であって、対向基板３の液晶側の面に形成され、表示領域２に設けられたオーバーコート膜８を有し、オーバーコート膜８の端部がシール材４の外形端より内側に配置されているものである。 （もっと読む）

【課題】従来のシルセスキオキサン骨格を有する酸無水物は、分子中にフレキシブルなメチレン結合を多数有するため、ガラス転移点や熱分解温度が低く、剛直で耐熱性に優れたかご型ケイ素骨格の特性を十分に発揮させるには至らなかった。
【解決手段】式（１）で示される酸無水物。ＸおよびＹはアルキル、シクロアルキル、アリールおよびアリールアルキルから独立して選択される基であり、Ｚは３価の脂環式基、または酸無水物基と共に環を形成する３価の飽和脂肪族基である。

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【課題】 低屈折率誘電体膜と高屈折率誘電対膜による増反射効果を十分に発揮させることができる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 画素電極１２と該画素電極を駆動する駆動回路とがマトリックス状に配列された駆動基板１４と、対向電極１６が形成された透明基板３４とを、画素電極と対向電極とが対向するように間に液晶ＬＣを挟んで接合してなる液晶３示装置において、前記画素電極の画素間隙に誘電体を設け、該誘電体と前記画素電極との間の高低差の位相差が０．２λ（λ：読み出し光の波長）以下とし、更に前記画素電極の形成された画素エリア全体に第１の誘電体膜と、該第１の誘電体膜より高屈折率な第２の誘電体膜とを積層する。これにより、使用波長において増反射効果を生ぜしめる。 （もっと読む）

【課題】安定な特性の薄膜トランジスタ、及びその製造方法、並びに表示装置とその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様にかかるＴＦＴ２０は、ＴＦＴアレイ基板１０上に設けられた絶縁性の下地膜２１と、下地膜２１の上に設けられたチャネル領域２２２を含む半導体膜２２とを備え、チャネル領域２２２における半導体膜２２中の不純物濃度が、半導体膜２２の膜厚方向において略一定であり、チャネル領域２２２における半導体膜２２と下地膜２１との界面において不純物濃度が不連続であり、下地膜２１中の不純物濃度が、半導体膜２２中の不純物濃度よりも低く、かつＴＦＴアレイ基板１０側に向かうにつれて単調に減少しているものである。 （もっと読む）

【課題】レーザ切断方法において、高スループット、低コスト、高精度で基板を切断するレーザ切断方法を提供する。
【解決手段】少なくとも一対の基板１，１８を貼り合せた重ね基板を切断する方法であって、前記重ね基板１，１８の切断位置に沿って当該基板１，１８の相互間に、当該各基板１，１８を透過する波長の光を吸収する性質を持ったパターン部材２１を配設し、基板１，１８を透過する波長のレーザをパターン部材２１に沿って照射し、これによって前記重ね基板１，１８を前記パターン部材２１に沿って切断すること。 （もっと読む）

【課題】確実に、セル厚を制御すると共に、表示装置を構成する一対の基板を貼り合わせる。
【解決手段】互いに対向して配置されたアクティブマトリクス基板２０ａ及び対向基板３０と、両基板２０ａ及び３０の間に設けられた液晶層４０と、両基板２０ａ及び３０を互いに接着すると共に液晶層４０を包囲するシール部２５とを備えた液晶表示装置５０ａであって、アクティブマトリクス基板２０ａには、ゲート絶縁膜１１に達するアンカーホールＨａを有する層間絶縁膜１２が設けられ、シール部２５は、アンカーホールＨａを介してゲート絶縁膜１１に接着すると共にアンカーホールＨａの周囲に配置された層間絶縁膜１２の表面に接着する接着構造を有している。 （もっと読む）

【課題】維持電極線に印加される電圧の漏れを最小化することができる表示装置を提供する。
【解決手段】本発明による表示装置は、絶縁基板と；絶縁基板の上に形成されている第１金属配線層と；第１金属配線層と離隔して第１金属配線層に沿って形成されている維持電極線と；第１金属配線層と維持電極線を覆っている第１絶縁膜と；第１絶縁膜の上に形成されており、維持電極線に対応する維持容量形成層を有する第２金属配線層と；第２金属配線層を覆っており維持容量形成層の一部を露出させる画素接触孔を有する第２絶縁膜と；第２絶縁膜の上に形成されており、画素接触孔を通じて前記維持容量形成層と接続されている画素電極とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】横電界方式の液晶表示装置において、有機膜の上に絶縁膜を形成することをなくし、画素電極層と共通電極層との間の中間絶縁膜の特性を向上させることである。
【解決手段】下側の透明パネル基板２０において、下ガラス基板３０上のバッファ層３２の上にＴＦＴ形成層４０が形成され、そのゲート膜層３６の上に、ゲートライン４２、コモンライン５０と共に画素電極層６０が設けられる。そしてその上に中間絶縁層８０が形成され、その後、スリット７１を有する共通電極層７０が形成される。中間絶縁層８０の前の工程で有機膜を用いないので、中間絶縁層８０は、有機膜の耐熱温度以上の高温でＣＶＤ法により成膜することができる。 （もっと読む）

【課題】光学特性の劣化を抑制しつつ、製造歩留まりの低下を抑制することが可能な表示装置用のアレイ基板を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁基板１０と、絶縁基板１０上に配置され絶縁基板１０と同等の屈折率を有する材料によって形成されたバッファ層１１Ａと、バッファ層１１Ａ上に配置され窒化シリコンによって形成された第１絶縁層１１Ｂと、第１絶縁層１１Ｂ上に配置され酸化シリコンによって形成された第２絶縁層１１Ｃと、第２絶縁層１１Ｃ上に配置された半導体層１２を有するスイッチング素子３と、スイッチング素子３に接続された画素電極５と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ＩＴＯの断線がなく高い経時安定性に優れ、更には保護膜を拭き取るなどした際の淵部分の残渣が少なくシール剤との接着性にも優れた保護層を形成することができる熱硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 熱架橋剤として、エチレン性不飽和化合物及び／又は分子内にエポキシ基を有する化合物を含有する保護膜用熱硬化性組成物であって、該熱硬化性組成物０．１ｇを縦１０ｃｍ×横１０ｃｍのガラス基板の中心に滴下した後、スピンコートによりガラス基板中心部分の乾燥膜厚が２μｍ以上となるように塗布した場合、該塗布層端部の側面と基板平面から形成されるテーパー角を（Ｗ１）、該塗布層をさらに２３０℃３０分間の加熱処理を施した後の同一の塗布層端部の側面と基板平面から形成されるテーパー角を（Ｗ２）としたとき、以下の式を満たすことを特徴とする保護膜用熱硬化性組成物。
Ｗ１／Ｗ２ ≧ １．２ （もっと読む）

【課題】微細パターンを形成する工程でエッチング誤差を減らし、表示装置の信頼性を向上させる。
【解決手段】本発明は表示装置及びその製造方法に関し、絶縁基板と、その上に形成される第１信号線と、第１信号線と絶縁されて交差する第２信号線と、第２信号線上に形成される露出防止膜と、第１〜第３端子を有し、第１信号線と前記第２信号線に各々第１端子と第２端子が接続されるスイッチング素子と、スイッチング素子の第３端子に接続される画素電極とを含む。このように、第２信号線上に窒化ケイ素からなる露出防止膜を配置することによって、第２信号線を形成するとき発生し得るエッチング誤差を減少させることができる。
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【課題】液晶表示パネルのマルチギャップ構造による配向膜の膜厚の差の発生を阻止。
【解決手段】透明層７の側面と、その透明層７の外側の基板面１ａとの成す角θを鋭角とし、その鋭角の空間７ａに配向膜の残渣９ａを溜まらせるようにする。そのことにより、基板面１ａの、透明層７の周端を基板面１ａに投影した領域の外、すなわち透過領域６では、配向膜９の膜厚Ｔに差が生じないので、一画素当たりのコントラストの差が発生せず、表示品位の低下を阻止できる。 （もっと読む）

【課題】
薄膜トランジスタの性能のばらつきの低減を図ることができる薄膜トランジスタ装置及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明にかかる薄膜トランジスタ装置は、絶縁基板上１にソース領域２ａ、ドレイン領域２ｂ及びチャネル領域２ｃを含むシリコン層２と、ゲート絶縁層３と、ゲート電極４とを有する薄膜トランジスタと、薄膜トランジスタを覆う層間絶縁層５と、層間絶縁層５に設けられたコンタクトホール６を介して、ソース領域２ａ、ドレイン領域２ｂ及びゲート電極４に電気的に接続された配線７とを備えた薄膜トランジスタ装置である。配線７及び層間絶縁層５を覆い、配線７及び層間絶縁層５の表面凹凸を緩和する第一の上部絶縁層８ａと、第一の上部絶縁層８ａを覆う第二の上部絶縁層８ｂとを備え、第二の上部絶縁層８ｂの水素拡散係数が第一の上部絶縁層８ａの水素拡散係数より小さいことを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタ基板表面へのフォトスペーサの密着性が良好であり、高信頼性の液晶表示装置及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の液晶表示装置は、複数の電極を備える基板と、前記複数の電極に対向するようにそれぞれ配置された複数のカラーフィルタ層と該複数のカラーフィルタ層上に設けられた透明電極とを備えるカラーフィルタ基板１０と、を有した液晶表示装置において、前記透明電極１５には非画素領域の交差部に開口部１６が形成され、前記開口部１６には前記複数の電極を備える基板とカラーフィルタ基板１０との間の距離を所望の値に保持するフォトレジストからなるフォトスペーサ１７Ａが設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ブラックマトリックス上のどの部分においても平坦化層による平坦化が良好なカラーフィルタ基板を実現する。
【解決手段】 ブラックマトリックス４１を有する遮光層１２と、着色層１６Ｒ、Ｇ、Ｂと、遮光層１２と着色層に重なり合うように形成される平坦化層とを有し、各着色層はブラックマトリックス４１に対応した形状に区切られており、区切られたそれぞれの着色層１６Ｒ、Ｇ、Ｂの周縁が遮光層１２に重なるとともに、この周縁が互いに離間する離間部４３を形成しており、平坦化層は離間部４３を埋めるように遮光層１２に重なっている。 （もっと読む）