【課題】有機膜を用いて平坦化した後に望む幅でエッチングすることによって、エッチングＣＤの変化を最小化し微細パターンを形成することができる印刷板の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁基板６１に所定深さを有する第１トレンチ６４を形成する段階と、第１トレンチ６４を含む絶縁基板６１の全面に有機膜６５を形成する段階と、有機膜６５を選択的に除去し、第１トレンチ６４と対応する部分に第１トレンチ６４よりも狭い幅を有する第２トレンチ６７を形成する段階とを備える。 （もっと読む）

【課題】 液晶装置等の電気光学装置において、画像信号線を低抵抗化して、高品位な画像表示を行う。
【解決手段】 電気光学装置は、基板上に、互いに交差する複数の走査線及び複数のデータ線と、走査線及びデータ線の交差に対応して設けられた複数の画素部とを備える。更に、層間絶縁膜を介して相異なる層に位置する複数の導電膜から夫々形成されると共に互いに電気的に接続された複数の部分配線を有しており、複数の画素部が配列された画素アレイ領域の一辺に沿った方向に配線された部分を含む、複数のデータ線に画像信号を供給するための画像信号線を備える。 （もっと読む）

【課題】 液晶装置等の電気光学装置において、ダミー画素と表示画素との境界付近における画質の不連続な変化を防止し且つダミー画素が占める領域の増大を抑制する。
【解決手段】 電気光学装置は、基板上に、画素領域に配置された複数の画素部と、複数のダミー画素領域に夫々配置されたダミー画素部とを備えている。ダミー画素領域の配列ピッチは、画素領域の配列ピッチより小さく、且つ、画素領域の一辺から離れるに従って徐々に小さくなる。ダミー画素領域のうち画素領域に隣接する第１ダミー画素領域の配列ピッチの画素領域の配列ピッチに対する大きさの比率は、第１ダミー画素領域に対して画素領域とは反対側に隣接する第２ダミー画素領域の配列ピッチの第１ダミー画素領域の配列ピッチに対する大きさの比率よりも大きい。 （もっと読む）

【課題】少なくとも有機絶縁膜を有する層間絶縁膜上に透明導電膜をパターン形成する液晶表示装置の製造方法において、ＩＴＯドライエッチング時の均一性を確保する。
【解決手段】パッシベーション膜３２にコンタクトホール２６，２７を開口する工程は、層間絶縁膜上にフォトレジストをパターン形成する工程と、フォトレジストをポストベークする工程を経ることなく、フォトレジストをマスクとしてパッシベーション膜３２にドライエッチングを施す工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴのオフ電流を低減させる半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】平坦化絶縁膜上に形成された半導体層と、平坦化絶縁膜及び半導体層上に酸化窒化珪素膜を用いて形成されたゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜上に銅又は銅元素を主成分とする合金を用いて形成されたゲート電極と、ゲート絶縁膜及びゲート電極上に酸化窒化珪素膜を用いて形成された層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜上に形成されコンタクト部を介して半導体層に接続する画素電極とを有する。 （もっと読む）

【課題】 表示ムラを抑制できる液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】 第１基板２及び第２基板３によって挟持された液晶層２３を具備し、複数のドットからなる表示領域９ａにおいて表示を行う液晶装置１であって、液晶層膜厚を維持するギャップ部材２５と、着色膜及び遮光膜と、を具備し、着色膜は、複数のドットに重なる複数色の表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂと、表示領域９ａの外部の周辺領域９ｂに設けられた周辺着色膜１３ｈと、を有し、遮光膜は、表示領域においてドットの相互間に位置するドット遮光膜３３と、表示領域の外部の周辺領域９ａに設けられた周辺遮光膜３４と、を有し、表示領域９ａには、表示着色膜の一部と、ドット遮光膜３３と、が重なり合う表示積層部２０ａが設けられ、周辺領域９ｂには、周辺着色膜１３ｈと、周辺遮光膜３４と、が重なり合う周辺積層部５０ａが設けられていること、を特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ディスプレイ用基板としての基本特性である絶縁性・平滑性・低熱膨張性に加え、耐衝撃性・フレキシブル性・薄型・軽量・反射性を兼備した反射型ディスプレイ、半透過型ディスプレイ、自発光型ディスプレイと照明用デバイス等の高輝度化或いは太陽電池等の光を利用する電池用基板の高効率化に有効な反射基板を提供する。
【解決手段】 最下層側から最表面側に向かって、３０〜３００℃までの熱膨張係数が１２×１０^−６／℃以下の特性を有する金属薄板と、金属反射層と、樹脂平坦化層の順に少なくとも３層を具備する反射基板であって、該反射基板は波長：４００ｎｍ〜７００ｎｍの光の反射率が７０％以上であり、且つ最表面の表面粗さは、Ｒａ：０．２μｍ以下、Ｒｙ：１．５μｍ以下である反射基板である。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、感光性樹脂組成物、感光性樹脂組成物で形成された薄膜を含む薄膜表示板、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明による感光性樹脂組成物は、アクリル樹脂、キノンジアジド化合物、及び溶剤を含む。前記溶剤は、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート及びトリメチルペンタンジオールモノイソブチルレートを含む。前記プロピレングリコールアルキルエーテルアセテートは、１〜５個の炭素原子を含むアルキル基を含む。感光性樹脂組成物は、表示装置用薄膜表示板に適用することができる。 （もっと読む）

【課題】 透過率、絶縁性、平坦性、耐化学性などの性能に優れるだけでなく、特に高耐熱特性を通した層間絶縁膜で発生されるガス抜けを最少化させて、後工程の信頼性を確保することによってＬＣＤ製造工程の層間絶縁膜として使用するのに適した感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明による感光性樹脂組成物は、ａ）ｉ）フェニルマレイミド系化合物、ｉｉ）不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物、またはこれらの混合物、およびｉｉｉ）エポキシ基含有不飽和化合物を共重合させて得られたアクリル系共重合体；ｂ）１，２−キノンジアジド化合物；およびｃ）溶媒を含む。 （もっと読む）

【課題】 感度、透過率、絶縁性、耐化学性、平坦性、コーティング性などの性能に優れているだけでなく、特に無機質材料との接着性が顕著に向上して、ＬＣＤ製造工程の層間絶縁膜を形成するのに適合する感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 本発明による感光性樹脂組成物は、ａ）ｉ）不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物、またはこれらの混合物、ｉｉ）エポキシ基含有不飽和化合物、ｉｉｉ）オレフィン系不飽和化合物、およびｉｖ）シラン系単量体を共重合させて得られたアクリル系共重合体；ｂ）１，２−キノンジアジド化合物；およびｃ）溶媒を含む。 （もっと読む）

本発明は、耐擦傷性、耐酸性、耐アルカリ性、耐水性、絶縁性に優れ、電極膜あるいはポリイミド樹脂などの疎水性の強い樹脂からなる膜（配向膜）などとの密着性にも優れ、さらに靭性、可撓性等にも優れた透明被膜を形成可能な透明被膜形成用塗布液を提供する。 本発明の透明被膜形成用塗布液は、 水と有機溶媒とからなる混合溶媒にマトリックス形成成分が分散されてなる透明被膜形成用塗布液であって、 該マトリックス形成成分が加水分解性基を２個以上有する有機ケイ素化合物あるいはその加水分解物を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 基板上に形成された膜体の膜厚に起因した表示ムラを抑制しながらシール材の
剥離を防止する。
【解決手段】 液晶装置Ｄは、枠状のシール材３０を介して貼り合わされた第１基板１０
および第２基板２０を有する。第１基板１０のうち第２基板２０と対向する表面上にはオ
ーバーコート層１３が形成される。このオーバーコート層１３の周縁１３１はシール材３
０の内周縁３０２よりも外側に位置する。シール材３０は、オーバーコート層１３の表面
上に位置する第１の部分３１と、第１基板１０のうちオーバーコート層１３が形成されて
いない露出領域Ａeにて当該第１基板１０の表面に接触する第２の部分３２とを有する。 （もっと読む）

【課題】柱状スペーサーならびにオーバーコート層を備えた液晶表示装置用カラーフィルタを製造するにあたり、製造工程の簡略化を図るための工程及びその工程に使用する露光マスクを考案し、製造コスト低減化を図った液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】液晶表示装置用カラーフィルタの柱状スペーサーとオーバーコート層を一括形成するための露光マスク用ブランクであって、ガラス基板上に紫外線透過率制御機能を有する半透過膜と紫外線遮蔽効果を有する遮光膜とが形成されており、前記半透過膜の紫外光に対する透過率は、波長３００ｎｍで５％以下、波長３８０ｎｍでは４５％以上であり、前記半透過膜は酸化インジウムと酸化錫との化合物膜からなるＩＴＯ膜からなり、前記酸化錫が原子数比で１０％以下含有されている。 （もっと読む）

【課題】 ムラを顕著に減少させ、均一な膜厚に形成される感光性樹脂組成物と、前記感光性樹脂組成物からなるパターンを含む薄膜表示板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、基板、前記基板上に形成されている薄膜パターン、前記薄膜パターン上に形成され、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物、界面活性剤及び溶剤を含有し、前記溶剤は、ジエチレングリコールジアルキルエーテル（アルキル基は１〜５個の炭素原子を有する）、３-エトキシプロピオン酸エチル、アルキルアセテート（アルキル基は３〜８個の炭素原子を有する）及びアルキルラクテート（アルキル基は１〜６個の炭素原子を有する）を含有する感光性樹脂組成物からなる絶縁膜を含む薄膜表示板及びその製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】スプレー相からベンド相への相転移を起こすのに必要な初期駆動電圧を低くすることができ、ベンド相への相転移時間が短くすることにより、隣接するセルへの相伝播を容易にすると共に、下部の金属配線との寄生容量の生成問題を解決する液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】画素電極である第１電極間の間隔を３μｍ以下に形成して、下部の金属配線との間隔が３μｍ以上になるように絶縁膜を形成することによって、ＯＣＢモードの液晶表示装置の液晶の初期駆動電圧すなわち、スプレー相からベンド相への相転移を起こすのに必要な初期駆動電圧を低くし、隣接するピクセルへの相の伝播を容易にすると共に、下部の金属配線との寄生容量の生成問題を解決した。 （もっと読む）

【課題】軽量、薄型化が容易であって、しかも耐熱性に優れた表示装置用基板を提供することを目的とする。
【解決手段】 この表示装置用基板２００は、無機層状物質を主体とする主基板２０２と、この主基板上に配置される不純物阻止層２０３と、この不純物阻止層２０３上に配置される半導体層２１２と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 高品質な画像表示を行い且つ長寿命化させることが可能な電気光学装置を製造すると共に、歩留まりを向上させる。
【解決手段】 電気光学物質を挟持することになる一対の基板の少なくとも一方の基板面上に電極を形成する第１工程と、無機材料からなる配向膜の下地膜を、基板面に対して無機材料の飛ぶ方向が成す角度を、該飛ぶ方向に対して電極の陰が一箇所で常時に生じないように一又は複数の値に設定しつつ第１のＰＶＤ法を行うことにより、電極より上層側に形成する第２工程と、無機材料からなる配向膜を、第１のＰＶＤ法で設定された値とは異なる所定値に前記角度を固定して又は第１のＰＶＤ法とは異なる成膜条件で第２のＰＶＤ法を行うことにより、下地膜より上層側に形成する第３工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】作製中の表示装置の膜に生じた部分的な欠陥部を精度よく修正できる修正装置を提供すること。
【解決手段】修正装置は、作製中の表示装置の膜に生じた欠陥部に加熱によって固化する所定の修正液を塗布して修正するための装置であって、表示装置を保持する固定ステージと、表示装置の欠陥部を除去してカット部を形成するための除去手段と、除去手段により形成されたカット部に修正液を吐出する吐出部を有する吐出手段と、カット部を観察する観察手段と、修正液を加熱して膜を形成させるための加熱手段と、除去手段、吐出手段、観察手段および加熱手段を搭載して表示装置に対して移動させる可動ステージと、待機中の吐出部の乾燥を防止するキャッピング手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】柱状スペーサを配置する部分の平坦化が可能であり、均一なセルギャップを実現して表示品位を改善することができる液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 アレイ基板２００と対向基板４００との間に液晶層４１０を保持した液晶表示装置の製造方法であって、アレイ基板２００の製造方法は、基板表面に絶縁膜２１８を配置する工程と、絶縁膜２１８上にマトリクス状の表示画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）に対応した画素電極２１３を配置する工程と、画素電極２１３をマスクとして画素電極２１３から露出した絶縁膜２１８を研磨する工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 液相法を用いて絶縁膜を形成する際に発生する外観不良を抑制し、これに起因する表示不良の発生を抑制することができる電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の電気光学装置の製造方法は、粘度が３５ｃｐ以上かつ６０ｃｐ以下の液状体を基板上に塗布する塗布工程と、液状体が塗布された基板を２０℃以上かつ４０℃以下の温度で所定時間放置することにより液状体表面を平滑化する平滑化工程と、平滑化後の液状体を乾燥させて硬化させる硬化工程と、を具備し、絶縁膜の構成材料を含有する液状体を乾燥、硬化させて絶縁膜を形成することを特徴とする。 （もっと読む）